[發明專利]用于圖案保真度控制的方法與設備

有效

• 申請號: 201780079785.8
• 申請日: 2017-11-28
• 公開（公告）號: CN110088689B
• 公開（公告）日: 2022-05-13
• 發明（設計）人: T·哈桑;V·K·賈因;斯蒂芬·亨斯克;B·拉方丹
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 胡良均

1.一種熱點評估的方法，所述方法包括：

獲得針對第一熱點和第二熱點中的每一個的過程窗口數據，所述過程窗口數據包括用于所述第一熱點和第二熱點中的每一個的聚焦信息；和

由硬件計算機基于襯底的形貌數據評估所述過程窗口數據的聚焦信息，以識別或改變所述第一熱點和/或所述第二熱點的臨界狀態。

2.如權利要求1所述的方法，其中所述評估包括對橫過襯底的聚焦分布評估所述聚焦信息，且其中使用所述形貌數據來偏移所述聚焦分布或所述聚焦信息。

3.如權利要求2所述的方法，其中從橫過襯底定位的多個場或管芯的測量獲得所述聚焦分布。

4.如權利要求2所述的方法，其中所述評估包括所述聚焦分布與所述第一熱點的聚焦信息的重疊或非重疊和所述聚焦分布與所述第二熱點的所述聚焦信息的重疊或非重疊之間的相對考量，和/或其中所述評估包括調整所述第一熱點的臨界狀態相對于所述第二熱點的臨界狀態的分級。

5.如權利要求1至4中任一項所述的方法，其中所述過程窗口數據是通過計算光刻建模來獲得的。

6.如權利要求1至4中任一項所述的方法，其中評估所述過程窗口數據的負散焦極端或正散焦極端處的所述聚焦信息以識別或改變所述第一熱點和/或所述第二熱點的臨界狀態。

7.如權利要求1至4中任一項所述的方法，其中所述形貌為亞微米或納米尺度。

8.一種計算機程序存儲介質，所述存儲介質上記錄有指令，所述指令在由計算機執行時實施如權利要求1所述的方法。

9.如權利要求8所述的計算機程序存儲介質，其中所述指令在由計算機執行時還實施：對橫過襯底的聚焦分布評估所述聚焦信息，且

其中所述聚焦分布或所述聚焦信息被使用所述形貌數據進行偏移。

10.如權利要求9所述的計算機程序存儲介質，其中所述聚焦分布是從橫過襯底定位的多個場或管芯的測量獲得的。

11.如權利要求9所述的計算機程序存儲介質，其中，所述指令在由計算機執行時還實施：通過所述聚焦分布與所述第一熱點的聚焦信息的重疊或非重疊和所述聚焦分布與所述第二熱點的所述聚焦信息的重疊或非重疊之間的相對考量進行評估，和/或

其中所述指令在由計算機執行時還實施：調整所述第一熱點的臨界狀態相對于所述第二熱點的臨界狀態的分級。

12.如權利要求8-11中任一項所述的計算機程序存儲介質，其中所述過程窗口數據是通過計算光刻建模來獲得的。

13.如權利要求8至11中任一項所述的計算機程序存儲介質，其中評估所述過程窗口數據的負散焦極端或正散焦極端處的所述聚焦信息以識別或改變所述第一熱點和/或所述第二熱點的臨界狀態。