[發明專利]光學膜及光學膜的制造方法

有效

• 申請號: 201780079610.7
• 申請日: 2017-10-16
• 公開（公告）號: CN110100192B
• 公開（公告）日: 2021-02-09
• 發明（設計）人: 松本彩子;伊吹俊太郎;增田千裕
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G02B1/14
• 分類號: G02B1/14;B05D3/12;B29C43/24;B32B7/023;C08J7/046
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 周欣

1.一種光學膜，具有基材和硬涂層，

根據JIS K 5600-5-4:1999測定的鉛筆硬度為2H以上，

根據JIS P 8115:2001通過MIT試驗機測定的抗折次數為1000次以上，

將入射光從相對于光學膜的法線方向-60°入射時，成為射出光峰值強度的10％的角度的寬度在6°以內，且從法線方向起50°處的射出光的強度為射出光峰值強度的1％以下。

2.根據權利要求1所述的光學膜，其中，

層疊有所述硬涂層的一側的最表面的表面粗糙度為5nm以下。

3.根據權利要求1所述的光學膜，其中，

層疊有所述硬涂層的一側的最表面的表面粗糙度為2nm以下。

4.根據權利要求1所述的光學膜，其中，

所述硬涂層包含無機粒子，所述無機粒子的粒徑具有單一分布。

5.根據權利要求4所述的光學膜，其中，

所述硬涂層中的所述無機粒子的填充率為55體積％以下。

6.根據權利要求1～5中任一項所述的光學膜，其中，

在所述硬涂層的與所述基材相反的一側還具有耐劃傷層。

7.根據權利要求1～5中任一項所述的光學膜，其中，

根據JIS P 8115:2001通過MIT試驗機測定的抗折次數為10000次以上。

8.根據權利要求1～5中任一項所述的光學膜，其中，

根據JIS K 5600-5-4:1999測定的鉛筆硬度為4H以上。

9.一種光學膜的制造方法，其中，

所述光學膜具有基材和硬涂層，

根據JIS K 5600-5-4:1999測定的鉛筆硬度為2H以上，

根據JIS P 8115:2001通過MIT試驗機測定的抗折次數為1000次以上，

將入射光從相對于光學膜的法線方向-60°入射時，成為射出光峰值強度的10％的角度的寬度在6°以內，且從法線方向起50°處的射出光的強度為射出光峰值強度的1％以下，

所述光學膜的制造方法具有以下工序：

(i-1)在所述基材上涂布硬涂層形成用組合物來設置涂膜的工序；以及

(iii-1)一邊使所述涂膜與平滑的1個金屬輥接觸一邊進行固化的工序。

10.根據權利要求9所述的光學膜的制造方法，其中，

所述工序(iii-1)開始跟前的所述涂膜的固化率為20％以下。

11.根據權利要求9或10所述的光學膜的制造方法，其中，

在所述工序(i-1)與工序(iii-1)之間包含(ii-1)使所述涂膜的表層固化，且使所述涂膜的表層的固化率為50％以上的工序。

12.根據權利要求9或10所述的光學膜的制造方法，其中，

所述工序(iii-1)的所述金屬輥的表面粗糙度為40nm以下。

13.一種光學膜的制造方法，其中，

所述光學膜具有基材和硬涂層，

根據JIS K 5600-5-4:1999測定的鉛筆硬度為2H以上，

根據JIS P 8115:2001通過MIT試驗機測定的抗折次數為1000次以上，

將入射光從相對于光學膜的法線方向-60°入射時，成為射出光峰值強度的10％的角度的寬度在6°以內，且從法線方向起50°處的射出光的強度為射出光峰值強度的1％以下，

所述光學膜的制造方法具有以下工序：

(i-2)在所述基材上涂布硬涂層形成用組合物來設置涂膜的工序；

(ii-2)使所述涂膜固化的工序；以及

(iii-2)進行砑光處理的工序。