[發明專利]包含用于無空隙填充的抑制試劑的用于金屬電鍍的組合物有效
| 申請號： | 201780078648.2 | 申請日： | 2017-12-19 |
| 公開（公告）號： | CN110100048B | 公開（公告）日： | 2022-06-21 |
| 發明（設計）人： | M·P·基恩勒;D·梅爾;M·阿諾德;A·哈格;C·埃姆內特;A·弗魯格爾 | 申請（專利權）人： | 巴斯夫歐洲公司 |
| 主分類號： | C25D3/02 | 分類號： | C25D3/02;C25D3/38;C25D7/12 |
| 代理公司： | 北京市中咨律師事務所 11247 | 代理人： | 張雙雙;劉金輝 |
| 地址： | 德國萊茵河*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 包含 用于 空隙 填充 抑制 試劑 金屬 電鍍 組合 | ||
1.一種水性組合物，包含金屬離子和至少一種式I化合物：
其中
X1選自直鏈或支化C1-C12鏈烷二基，其可經取代或未經取代，且其可任選地間隔有O、S或NR40；
R11選自Z、X5-Z和X4-N(Z)2；
Z為式III的支化基團
R12、R13、R14選自H、R11、R40，或R13和相鄰基團R14可一起形成二價基團X13，或若n2，則兩個相鄰基團R14可一起形成二價基團X13；
R31、R32獨立地選自(a)一價C2-C6聚氧化烯基團，或(b)其他支化基團以形成多支化基團(Zp)p(R31R32)2p；
Zp選自
R40選自(a)直鏈或支化C1-C20烷基，其可任選地經羥基、烷氧基或烷氧羰基取代，和(b)直鏈或支化C1-C20鏈烯基，其可任選地經羥基、烷氧基或烷氧羰基取代；
X3為直鏈或支化C1-C12鏈烷二基，其可間隔有O和S原子或經O-R31取代；
X4為直鏈或支化C1-C12鏈烷二基；
X5為選自至少一個C2-C6聚氧化烯的二價基團；
X13選自直鏈或支化C1-C12鏈烷二基，其可任選地間隔有O、S或NR40；n為整數0-4；和
p為整數2-4。
2.根據權利要求1的組合物，其中X1選自C1-C6鏈烷二基和-(CH2)q-[Q-(CH2)r]s-，其中Q選自O、S或NR40且q+rs為X1中的碳原子總數。
3.根據權利要求1的組合物，其中
R31和R32為獨立地選自至少一個C2-C6聚氧化烯基的一價基團，和
X5為獨立地選自至少一個C2-C6聚氧化烯基的二價基團。
4.根據權利要求2的組合物，其中
R31和R32為獨立地選自至少一個C2-C6聚氧化烯基的一價基團，和
X5為獨立地選自至少一個C2-C6聚氧化烯基的二價基團。
5.根據權利要求1的組合物，其中X3和X4獨立地選自甲烷二基、乙烷二基、丙烷二基和丁烷二基。
6.根據權利要求2的組合物，其中X3和X4獨立地選自甲烷二基、乙烷二基、丙烷二基和丁烷二基。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于巴斯夫歐洲公司，未經巴斯夫歐洲公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201780078648.2/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
