[發明專利]透明聚酰亞胺膜

有效

• 申請號: 201780078415.2
• 申請日: 2017-12-15
• 公開（公告）號: CN110099946B
• 公開（公告）日: 2022-01-21
• 發明（設計）人: 金善憐;宋仲鎬;金東演;吳炫錫;安炅日
• 申請（專利權）人: 株式會社斗山
• 主分類號: C08G73/10
• 分類號: C08G73/10;C08L79/08;C08J5/18;G02F1/1333
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 金成哲;宋?；?/td>

本發明涉及一種透明聚酰亞胺膜，其由聚酰亞胺形成，該聚酰亞胺包含：衍生自2,2’?雙(三氟甲基)?4,4’?二氨基聯苯(2,2’?TFDB)和酸二酐的第一重復單元(A)；以及選自由衍生自醚系二胺和酸二酐的第二重復單元及衍生自非氟化二胺和酸二酐的第三重復單元組成的組中的一種以上的重復單元(B)。

技術領域

本發明涉及能夠作為柔性顯示器保護膜或基板來應用的透明聚酰亞胺膜。

背景技術

一般而言，聚酰亞胺(polyimide，PI)是將芳香族二酐和芳香族二胺或芳香族二異氰酸酯進行溶液聚合而制造聚酰胺酸衍生物后，在高溫下閉環脫水進行酰亞胺化而制造的高耐熱性樹脂。

在制造上述聚酰亞胺時，作為上述芳香族二胺成分，使用二氨基二苯醚(ODA)、對苯二胺(p-PDA)、間苯二胺(m-PDA)、間亞甲基二胺(m-MDA)、亞甲基二胺(MDA)、雙氨基苯基六氟丙烷(HFDA)等。這樣的聚酰亞胺作為不溶和不熔的最高耐熱性樹脂，由于耐熱氧化性、耐熱特性、耐放射線性、低溫特性、耐試劑性等特性優異，因而一直廣泛應用于汽車材料、航空及宇宙飛船材料等那樣的耐熱尖端材料；絕緣涂布劑、絕緣膜、半導體及LCD的電極保護膜等那樣的電子材料等領域。

但是，以往的聚酰亞胺會因電荷轉移絡合物(charge-transfer complex，CTC)的影響而著色為褐色或黃色，在可見光區域的透過度低，因此在表現玻璃基板之類的高透明性方面存在局限。為了解決該問題，近年來，作為無色、透明的聚酰亞胺膜，開發了將2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二氨基聯苯[2,2’-bis(trifluoromethyl)-4,4’-diaminobiphenyl]和2,2-雙(3,4-二羧基苯基)六氟丙烷二酐[2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)Hexafluoropropane dianhydride]聚合而得到的透明聚酰亞胺。但是，上述膜的熱膨脹系數(Coefficient of Thermal Expansion，CTE)高，容易發生彎曲或扭曲，耐熱性也低。而且，為了將聚酰亞胺膜用作顯示器用透明基板或保護膜，不僅要求低熱膨脹系數、優異的光學特性和耐熱特性，還要求優異的機械特性。然而，以往的聚酰亞胺膜因耐彎曲性(R＝2.5㎜)小于90,000次、拉伸強度也為130MPa以下而顯示出機械特性不佳的結果。

發明內容

技術課題

本發明的目的在于，提供不僅具有優異的光學特性和低熱膨脹性，還具有優異的機械特性的透明聚酰亞胺膜。

解決課題的方法

本發明提供一種透明聚酰亞胺膜，其是由聚酰亞胺形成的透明聚酰亞胺膜，上述聚酰亞胺包含衍生自2,2’-雙(三氟甲基)-4,4’-二氨基聯苯(2,2’-TFDB)和酸二酐的第一重復單元(A)；以及選自由衍生自醚系二胺和酸二酐的第二重復單元及衍生自非氟化二胺和酸二酐的第三重復單元組成的組中的一種以上的重復單元(B)，基于ASTM D2176標準的上述透明聚酰亞胺膜的耐彎曲性(F_A+B，其中R＝2.5㎜)與由上述第一重復單元(A)形成的透明聚酰亞胺膜的耐彎曲性(F_A，其中R＝2.5㎜)的比率(F_A+B/F_A)為28至46的范圍。此時，上述透明聚酰亞胺膜的基于ASTM D2176標準的耐彎曲性(F_A+B，其中R＝2.5㎜)優選為200,000至250,000次的范圍。