[發(fā)明專利]用于霧化技術的熔體的處理

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780078104.6
• 申請日: 2017-10-16
• 公開（公告）號: CN110191776A
• 公開（公告）日: 2019-08-30
• 發(fā)明（設計）人: 吉勒斯·萊斯佩朗斯;馬蒂厄·布瓦韋爾;小丹尼斯·B·克里斯托弗森;菲力浦·比利
• 申請（專利權）人: 綜合理工大學;天納克有限責任公司
• 主分類號: B22F9/08
• 分類號: B22F9/08;B22F1/00;C21C1/02;C21C1/10;C21C7/00;C21C7/06;C21C7/064;C21C7/072;C22B9/05
• 代理公司: 深圳中一聯合知識產權代理有限公司 44414
• 代理人: 顏思晨

1.一種制造粉末金屬材料的方法，包括步驟：

將至少一種添加劑添加到熔融的基本金屬材料中，所述至少一種添加劑形成圍繞所述熔融金屬材料的保護氣體氣氛，所述保護氣體氣氛具有為待處理的熔融的基本金屬材料的體積至少三倍大的體積；和

在添加所述至少一種添加劑的至少一些之后，將所述熔融金屬材料霧化，以產生多個顆粒。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述顆粒的中值圓形度為至少0.60。

3.根據權利要求1所述的方法，其中，所述顆粒的中值圓度為至少0.60。

4.根據權利要求1的方法，還包括在所述霧化步驟之后熱處理所述顆粒的步驟以形成微結構組分或相，微結構組分或相的中值圓形度為至少0.60，中值圓度為至少0.60。

5.根據權利要求4所述的方法，其中，所述金屬材料是鐵基材料，所述至少一種添加劑包括鎂，所述微結構組分或相是石墨沉淀物和/或碳化物和/或氮化物，并且所述相和/或組分具有至少0.60的中值圓形度和至少0.60的中值圓度。

6.根據權利要求1所述的方法，其中，所述霧化步驟包括水霧化，氣體霧化，等離子體霧化或旋轉盤霧化。

7.根據權利要求6所述的方法，其中，所述霧化步驟包括水霧化，并且所述水霧化步驟包括，將2MPa至150MPa及以上的壓力的水施加到所述熔融金屬材料。

8.根據權利要求1所述的方法，其中，所述基本金屬材料包括鋁(Al)，銅(Cu)，錳(Mn)，鎳(Ni)，鈷(Co)，鐵(Fe)，鈦(Ti)和鉻(Cr)中的至少一種；并且所述基本金屬材料可選地包含選自銀(Ag)，硼(B)，鋇(Ba)，鈹(Be)，碳(C)，鈣(Ca)，鈰(Ce)，鎵(Ga)，鍺(Ge)，鉀(K)，鑭(La)，鋰(Li)，鎂(Mg)，鉬(Mo)，氮(N)，鈉(Na)，鈮(Nb)，磷(P)，硫(S)，鈧(Sc)，硅(Si)，錫(Sn)，鍶(Sr)，鉭(Ta)，釩(V)，鎢(W)，釔(Y)，鋅(Zn)和鋯(Zr)組成的組中的至少一種合金化元素。

9.根據權利要求8所述的方法，其中，添加到所述基本金屬材料中的所述至少一種添加劑包括K，Na，Zn，Mg，Li，Sr，Ca和Ba中的至少一種。

10.根據權利要求8所述的方法，其中，所述基本金屬材料是鐵基材料，并且形成所述保護氣體氣氛的所述至少一種添加劑包括K，Na，Zn，Mg，Li，Sr和Ca中的至少一種。

11.根據權利要求8所述的方法，其中，所述基本金屬材料是鐵基的，并且包括作為雜質存在的硫，并且所述至少一種添加劑包括Zn，Mg，Li，Sr，Ca和Ba中的至少一種以與所述硫反應。

12.根據權利要求8所述的方法，其中，所述基本金屬材料是鐵基的并且包含作為雜質存在的至少一種氧化物，并且所述至少一種添加劑包括K，Na，Zn，Mg，Li，Sr，Ca和Ba中的至少一種，以與所述至少一種氧化物反應。

13.根據權利要求8所述的方法，其中，所述基本金屬材料是鐵基的并包括作為雜質存在的硫和至少一種氧化物；形成所述保護氣體氣氛的所述至少一種添加劑包括Zn,Mg,Li,Sr,和Ca中的至少一種；并且所述至少一種添加劑也與所述硫和所述至少一種氧化物反應。

14.根據權利要求8所述的方法，其中，所述基本金屬材料是鋁合金，并且包括作為雜質存在的硫和/或至少一種氧化物；形成所述保護氣氛的所述至少一種添加劑包括鉀和鈉中的至少一種；并且所述至少一種添加劑包括K,Na,Mg,Li,Sr,Ca和Ba中的至少一種以與所述硫反應，并且/或者所述至少一種添加劑包括K,Na,Mg,Li,Ca中的至少一種以與所述至少一種氧化物反應。