[發明專利]液體噴射頭以及液體噴射裝置有效
| 申請號: | 201780078088.0 | 申請日: | 2017-12-07 |
| 公開(公告)號: | CN110087887B | 公開(公告)日: | 2020-08-21 |
| 發明(設計)人: | 塚原克智;福澤祐馬 | 申請(專利權)人: | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號: | B41J2/14 | 分類號: | B41J2/14;B41J2/18 |
| 代理公司: | 北京金信知識產權代理有限公司 11225 | 代理人: | 蘇萌萌;權太白 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 液體 噴射 以及 裝置 | ||
1.一種液體噴射頭,具備:
噴嘴板,其設置有噴嘴;
流道形成部,其設置有壓力室、連通通道和循環液室,所述壓力室被供給液體,所述連通通道使所述噴嘴和所述壓力室連通,所述循環液室與所述連通通道連通;
壓力產生部,其使所述壓力室產生壓力變化,
所述循環液室內的第一地點處的高度大于在從所述第一地點觀察時靠所述連通通道側的第二地點處的高度,
在所述循環液室的上表面中,形成有在俯視觀察時呈曲線狀延伸的多個槽部。
2.如權利要求1所述的液體噴射頭,其中,
所述循環液室在俯視觀察時與所述壓力室不重疊。
3.如權利要求1或權利要求2所述的液體噴射頭,其中,
所述循環液室的高度的最大值小于所述連通通道的流道長度。
4.如權利要求1或權利要求2所述的液體噴射頭,其中,
所述流道形成部包括第一流道基板和第二流道基板,所述第一流道基板中形成有所述連通通道和所述循環液室,第二流道基板中形成有所述壓力室,
所述循環液室的高度的最大值在所述第一流道基板的厚度的一半以下。
5.如權利要求1或權利要求2所述的液體噴射頭,其中,
所述循環液室的高度的最大值小于所述循環液室的寬度。
6.如權利要求1或權利要求2所述的液體噴射頭,其中,
所述循環液室的高度隨著從該高度成為最大的位置趨向于寬度方向的端部而單調減少。
7.如權利要求1或權利要求2所述的液體噴射頭,其中,
所述循環液室在第一方向上為長條,
多個所述槽部在俯視觀察時向所述第一方向的第一側凸起。
8.如權利要求1或權利要求2所述的液體噴射頭,其中,
在所述噴嘴板上,作為所述噴嘴,設置有第一噴嘴和第二噴嘴,
在所述流道形成部中,設置有與所述第一噴嘴對應的所述壓力室以及所述連通通道、與所述第二噴嘴對應的所述壓力室以及所述連通通道和位于與所述第一噴嘴對應的所述連通通道及與所述第二噴嘴對應的所述連通通道之間且在第一方向上為長條的所述循環液室,
被形成于所述循環液室的上表面中的所述第一噴嘴側的區域內的所述槽部在俯視觀察時向所述第一方向的第一側凸起,被形成于所述第二噴嘴側的區域內的所述槽部在俯視觀察時向與所述第一側相反的第二側凸起。
9.如權利要求1或權利要求2所述的液體噴射頭,其中,
在所述噴嘴板上,作為所述噴嘴,設置有第一噴嘴和第二噴嘴,
在所述流道形成部中,設置有與所述第一噴嘴對應的所述壓力室以及所述連通通道、與所述第二噴嘴對應的所述壓力室以及所述連通通道和位于與所述第一噴嘴對應的所述連通通道及與所述第二噴嘴對應的所述連通通道之間且在第一方向上為長條的所述循環液室,
被形成于所述循環液室的上表面中的所述第一噴嘴側的區域內的所述槽部和被形成于所述第二噴嘴側的區域內的所述槽部在俯視觀察時向所述第一方向的第一側凸起。
10.如權利要求1或權利要求2所述的液體噴射頭,其中,
在所述噴嘴板上,設置有在第一方向上排列的多個噴嘴,
在所述流道形成部上,設置有與多個所述噴嘴分別對應的所述壓力室以及所述連通通道和在所述第一方向上為長條的所述循環液室,
多個所述槽部中的位于所述第一方向的第一側的槽部在俯視觀察時向與所述第一側相反的第二側凸起,多個所述槽部中的所述第一方向上的所述第二側的槽部在俯視觀察時向所述第一側凸起。
11.如權利要求1或權利要求2所述的液體噴射頭,其中,
在所述流道形成部中,作為所述循環液室而設置有第一循環液室以及第二循環液室,所述第一循環液室以及所述第二循環液室隔著所述連通通道而相互位于相反側,并與該連通通道連通。
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