[發明專利]用于測量介質的密度和/或質量流率的振動型傳感器

有效

• 申請號: 201780077680.9
• 申請日: 2017-11-22
• 公開（公告）號: CN110073178B
• 公開（公告）日: 2021-01-05
• 發明（設計）人: 朱浩;阿爾弗雷德·里德;恩尼奧·比托;格哈德·埃克特
• 申請（專利權）人: 恩德斯+豪斯流量技術股份有限公司
• 主分類號: G01F1/84
• 分類號: G01F1/84;G01N9/00
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 張煥生;戚傳江

1.用于操作測量介質的密度和/或質量流率的振動型傳感器(100)的方法，所述振動型傳感器具有：

至少第一振蕩器(O1)，所述第一振蕩器(O1)包括：

第一測量管(101)，所述第一測量管(101)在其空載位置彎曲并且具有第一測量管中心線，所述第一測量管中心線相對于第一測量管橫剖面鏡像對稱地延伸，其中所述第一測量管被設計成以關于所述第一測量管橫剖面鏡像對稱的第一彎曲振動模式振動，

第二測量管(102)，所述第二測量管(102)在其空載位置彎曲并且具有第二測量管中心線，所述第二測量管中心線相對于所述第一測量管橫剖面鏡像對稱地延伸，其中所述第二測量管被設計成以關于所述第一測量管橫剖面鏡像對稱的所述第一彎曲振動模式振動，

至少一個第一彈性振動聯接器(212)，所述第一彈性振動聯接器(212)把所述第一測量管和所述第二測量管一起聯接成所述振蕩器，以及

至少一個激勵器(142)，所述激勵器(142)用于至少以所述第一彎曲振動模式激勵振蕩器振動，

其中給出了第一測量管縱剖面，其中第一測量管縱向軸線與所述第一測量管縱剖面之間的距離的平方上的積分最小，

其中當處于所述第一彎曲振動模式時所述第一測量管基本垂直于所述第一測量管縱剖面振動，

其中給出了第二測量管縱剖面，其中第二測量管縱向軸線與所述第二測量管縱剖面之間的距離的平方上的積分最小，

其中當處于所述第一彎曲振動模式時所述第二測量管基本垂直于所述第二測量管縱剖面振動，

其中所述第一測量管和所述第二測量管朝相同方向彎曲，

其中，對于所述第一測量管和所述第二測量管以所述第一彎曲振動模式近似地同相振動的振動模式，所述第一振蕩器(O1)具有第一振蕩器共振頻率，

其中，對于所述第一測量管和所述第二測量管以所述第一彎曲振動模式近似地反相振動的振動模式，所述第一振蕩器具有第二振蕩器共振頻率，

其中所述第二振蕩器共振頻率大于所述第一振蕩器共振頻率，

其中沒有所述第一彈性振動聯接器的所述第一測量管具有針對所述第一彎曲振動模式的第一測量管共振頻率，其中沒有所述第一彈性振動聯接器的所述第二測量管具有針對所述第一彎曲振動模式的第二測量管共振頻率，其中所述第一測量管共振頻率和所述第二測量管共振頻率與其算術平均值相差不超過8％，

其中，所述第一測量管縱剖面相對于所述第二測量管縱剖面傾斜不超過4°，

所述傳感器進一步具有至少第二振蕩器，所述第二振蕩器包括：

第三測量管，所述第三測量管具有第三測量管中心線，所述第三測量管中心線相對于第二測量管橫剖面鏡像對稱地延伸，其中所述第三測量管被設計成以相對于所述第二測量管橫剖面鏡像對稱的第一彎曲振動模式振動，

第四測量管，所述第四測量管具有第四測量管中心線，所述第四測量管中心線相對于所述第一測量管橫剖面鏡像對稱地延伸，其中所述第二測量管被設計成以相對于所述第二測量管橫剖面鏡像對稱的所述第一彎曲振動模式振動，以及

至少第二彈性振動聯接器，所述第二彈性振動聯接器將所述第三測量管和所述第四測量管相對于所述第二測量管橫剖面對稱地一起聯接成所述振蕩器，

其中，所述第二彈性振動聯接器將所述第三測量管和所述第四測量管在所述第二測量管橫剖面中對稱地一起聯接成所述振蕩器，

其中，所述第二振蕩器在其振動性質方面與所述第一振蕩器類似，

其中，所述第三測量管在設計上與所述第一測量管相同，并且其中所述第四測量管在設計上與所述第二測量管相同，

其中所述第二振動聯接器在設計上與所述第一振動聯接器相同，

其中所述第一測量管縱剖面和所述第四測量管位于共同的測量管縱剖面中，

其中所述第二測量管縱剖面和所述第三測量管位于共同的測量管縱剖面中，

其中所述第一測量管中心線和所述第三測量管中心線相對于傳感器縱剖面彼此對稱地延伸，

并且其中所述第二測量管中心線和所述第四測量管中心線相對于所述傳感器縱剖面彼此對稱地延伸，

其中所述激勵器作用在所述第一振蕩器的測量管與所述第二振蕩器的相同設計的測量管之間，

其中所述方法包括：

激勵所述振蕩器，使得所述第一測量管和所述第二測量管以所述第一振蕩模式近似地同相振動，并且所述第三測量管和所述第四測量管以所述第一振蕩模式近似地同相振動。