[發明專利]厭氧性細菌等細菌與上皮細胞的共培養裝置及共培養方法

在審

• 申請號: 201780077207.0
• 申請日: 2017-10-30
• 公開（公告）號: CN110072988A
• 公開（公告）日: 2019-07-30
• 發明（設計）人: 片山高嶺;神戶大朋
• 申請（專利權）人: 國立大學法人京都大學
• 主分類號: C12M1/00
• 分類號: C12M1/00;C12M3/00;C12M3/04;C12N1/20;C12N5/071
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 沈雪

1.一種培養系統，其用于將第1細胞組和由第2細胞組形成的細胞層或組織進行共培養，所述第1細胞組由1種或多種細胞構成，所述第2細胞組由與第1細胞組不同的1種或多種細胞構成，

所述培養系統具有：

將所述第1細胞組與由所述第2細胞組形成的細胞層或組織在厭氧條件下進行共培養的第1培養槽；

在需氧條件下儲存培養液的第2培養槽；以及

以覆蓋該第1培養槽側的表面的方式保持所述細胞層或組織、且以連接所述第1培養槽和所述第2培養槽的方式設置的1個或多個物質交換結構體。

2.根據權利要求1所述的培養系統，其在所述第1培養槽與所述第2培養槽的連接部具備非透氣性的密封構件，所述密封構件以使除了所述物質交換結構體以外的所述第2培養槽的內部處于封閉狀態的方式，使在該第2培養槽與所述第1培養槽之間開放的部分設為關閉的狀態。

3.根據權利要求1或2所述的培養系統，其中，所述第2培養槽具備將該第2培養槽中向外部開放的部分進行密封的透氣性的保濕構件，且除了由該保濕構件密封了的部分以外，未向外部開放。

4.根據權利要求1～3中任一項所述的培養系統，其中，

所述第1培養槽具備：

在其內部的多個局部結構、和

與所述物質交換結構體不同的物質交換結構體，

該局部結構各自作為培養槽發揮作用，

該局部結構各自通過所述不同的物質交換結構體相互連接，

該多個局部結構分別與所述第2培養槽連接。

5.根據權利要求1～4中任一項所述的培養系統，其配置在厭氧培養室內的環境中使用。

6.一種培養系統，其具有第1培養槽和第2培養槽，是進行細菌與由上皮細胞形成的細胞層的共培養的培養系統，

所述第1培養槽配置有設置在其底面的1個或多個物質交換結構體，且以覆蓋該物質交換結構體的頂面的方式配置有所述細胞層，

所述第2培養槽是儲存需氧條件的培養液的槽，且該第2培養槽具有用于將所述第1培養槽插入其槽內的開口部，

所述第1培養槽從所述第2培養槽的開口部插入，使得配置于所述第1培養槽的底面的物質交換結構體浸漬于該槽中儲存的所述需氧條件的培養液，

所述培養系統在所述第1培養槽與所述第2培養槽的連接部具備非透氣性的密封構件，所述密封構件以使除了所述物質交換結構體以外的所述第2培養槽的內部處于封閉狀態的方式，使在該第2培養槽與所述第1培養槽之間開放的部分設為關閉的狀態，

所述培養系統具備以將位于所述第2培養槽的頂面且向外部開放的部分進行密閉的方式設置的透氣性的保濕構件，且所述第1培養槽處于厭氧條件下。