[發明專利]用于對眼鏡鏡片進行覆層的系統、方法和支架

在審

• 申請號: 201780077201.3
• 申請日: 2017-11-16
• 公開（公告）號: CN110114504A
• 公開（公告）日: 2019-08-09
• 發明（設計）人: 岡特·施奈德;馬庫斯·富爾
• 申請（專利權）人: 施耐德兩合公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/50;G02B1/10;C23C14/34;C23C16/44;C23C14/56
• 代理公司: 成都超凡明遠知識產權代理有限公司 51258
• 代理人: 魏彥;洪玉姬

公開了用于對眼鏡鏡片進行覆層的系統、支架和方法，其中將包含可旋轉地安裝的眼鏡鏡片的支架連續地傳送至不同覆層裝置或覆層線中，以便交替地對眼鏡鏡片的相對兩側進行覆層和/或在其上施加不同的覆層。特別地，借助被抽真空的轉移室將包含眼鏡鏡片的支架從覆層裝置或覆層線傳送至其他覆層裝置或覆層線。

本發明涉及根據權利要求1或5的前序部分的一種用于對眼鏡鏡片進行覆層(coating，鍍層，涂覆)的設施，根據權利要求25或27的前序部分的一種用于對眼鏡鏡片進行覆層的方法，以及根據權利要求42的前序部分的一種用于對眼鏡鏡片進行覆層的支架。

本發明涉及優選地通過氣相沉積特別是通過濺射對眼鏡鏡片進行覆層，濺射也被稱為陰極濺射。在此連接中，原子通過高能離子沖擊而遠離固體(即所謂的靶材)，并且進入氣相。特別地，本發明涉及所謂的磁控濺射，其中除了所施加的電場之外，還使用了磁場。

實際上，即使從現有技術中已知許多不同的裝置和方法，但仍難以實現對待覆層的眼鏡鏡片的均勻、有效和/或單獨的和/或適配的覆層。

WO 2013/131656 A2涉及用于對眼鏡鏡片進行處理和覆層的設施和方法。可以選擇性地將眼鏡鏡片傳送至不同的裝置。對有效覆層的特定要求沒有進一步詳細討論。

DE 196 06 463 A1和EP 0 953 657 A1公開了用于通過濺射對基板進行覆層的設施，其中中心室中的中心處理設備與多個覆層裝置連接，且其中基板從處理設備傳送至覆層裝置中。對眼鏡鏡片進行覆層的要求沒有進一步詳細討論。

DE 44 07 909 C3，其形成了本發明的出發點，公開了用于對眼鏡鏡片進行覆層的設施和方法，其中將眼鏡鏡片置于可旋轉的支架上，并通過旋轉連續傳送至不同的覆層站。在這里，沒有實現對眼鏡鏡片的最佳覆層。

本發明的目的是提供用于對眼鏡鏡片進行覆層的設施、方法和支架，其中實現了非常有效和/或單獨的和/或適配的覆層和/或簡單、緊湊和/或低成本的設計。

上述目的通過根據權利要求1或5的設施、根據權利要求25或27的方法，或根據權利要求42的支架來實現。有利的更多改進方案是從屬權利要求的主題。

根據本發明的一個方面，所提出的設施具有多個覆層裝置和傳送設備，用于眼鏡鏡片或具有眼鏡鏡片的支架從覆層裝置傳送至其他覆層裝置，其特征特別地在于，該設施具有轉移室，且其中覆層裝置具有獨立的覆層室，其中覆層室和轉移室形成連續的或互相連接的真空系統。因此，使得非常均勻、有效和/或單獨的和/或適配的覆層和/或簡單、緊湊和/或低成本的設計是可能的。

在設施和/或真空系統中眼鏡鏡片覆層(在真空中)所必須的所有工藝步驟的優選的真空系統和/或優選的連接特別地導致在大氣中不進行單獨的步驟或中間步驟。以這種方式，使得尤其有效的工藝成為可能，然而其中特別地，也可以避免不期望的污染等。

本發明的另一也可獨立實現的方面涉及用于對眼鏡鏡片進行覆層的設施，其中將用于保持兩個或更多個待覆層眼鏡鏡片的支架連續傳送至不同的各種覆層裝置中和/或由用于覆層的覆層裝置容納。為此，提供了傳送設備，其將支架從覆層裝置傳送至其他覆層裝置。覆層裝置具有獨立的覆層室，和/或借助閘(或氣閘室或閘門)彼此分離或可分離。因此，使得非常均勻、有效和/或單獨的和/或適配的覆層成為可能。

本發明的另一可獨立實現的方面在于在不同的覆層裝置中從相對兩側連續對眼鏡鏡片進行覆層。在此連接中，支架以相應的方式移動，使得待覆層的眼鏡鏡片通過覆層裝置。因此，轉而可以使得非常均勻、有效和/或單獨的或適配的覆層成為可能。

本發明的另一可獨立實現的方面提供了將支架連續遞送至不同的覆層裝置，并且在那里對眼鏡鏡片進行覆層，特別地其中覆層過程中眼鏡鏡片圍繞其自身的、從而獨立的軸線旋轉。同樣，以這種方式，轉而可以實現非常均勻、有效和/或單獨的和/或適配的覆層。