[發(fā)明專利]先進(jìn)多孔含碳材料及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780074206.0 | 申請日: | 2017-11-17 |
| 公開(公告)號: | CN110035819B | 公開(公告)日: | 2023-06-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | V.芬斯;E.P.杜布瓦;Y.范德維肯;A.查普托特 | 申請(專利權(quán))人: | 索爾維公司 |
| 主分類號: | B01J20/20 | 分類號: | B01J20/20;B01D53/02;B01J20/28;B01J20/30 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 徐晶;林毅斌 |
| 地址: | 比利時*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 先進(jìn) 多孔 材料 及其 制備 方法 | ||
1.具有包括微孔和大孔的孔的多孔含碳顆粒(I),所述多孔含碳顆粒(I)具有通過激光衍射測定的范圍為從15μm至100μm的平均直徑,具有至多2.5的跨度,所述跨度用以下公式計算:
其中,D(50)表示樣品的顆粒的體積加權(quán)粒度分布的平均直徑,在分布體積的累積曲線上,D(10)是其中10%的顆粒小于該值的尺寸,D(90)是其中90%的顆粒小于該值的尺寸,
所述多孔含碳顆粒(I)通過包括以下步驟的方法制備:
-低溫冷凍具有包括微孔和大孔的孔的多孔含碳顆粒(II),所述顆粒(II)具有通過激光衍射分析測定的范圍為從150μm至800μm的平均直徑;并且
-研磨這些凍結(jié)的顆粒,從而獲得減小尺寸的顆粒。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顆粒(I),這些顆粒具有至多2.2的跨度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顆粒(I),這些顆粒具有至多1.5的跨度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項所述的顆粒(I),其特征在于,它們具有通過Hg孔隙率測定法測量的至少0.05cm3/g的大孔體積,和至少800m2/g的BET表面積。
5.一種用于減小具有包括微孔和大孔的孔的多孔含碳顆粒(II)的尺寸的方法,所述顆粒(II)具有通過激光衍射分析測定的范圍為從150μm至800μm的平均直徑,所述方法包括以下步驟:
-低溫冷凍這些顆粒(II),
-研磨這些凍結(jié)的顆粒,從而獲得減小尺寸的顆粒,
其中這些獲得的減小尺寸的顆粒是根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的顆粒(I)。
6.多孔顆粒(III),這些多孔顆粒包含至少一種具有熔點(diǎn)的偏二氯乙烯聚合物,所述顆粒具有大孔,通過激光衍射分析測定的范圍為從20μm至140μm的平均直徑,以及至多2的跨度,并且所述顆粒具有通過Hg孔隙率測定法測量的至少0.05cm3/g的大孔體積,所述多孔顆粒(III)通過包括以下步驟的方法制備:
-低溫冷凍多孔顆粒(IV),所述多孔顆粒(IV)包含至少一種具有熔點(diǎn)的偏二氯乙烯聚合物以及具有通過激光衍射分析測定的范圍為從170μm至800μm的平均直徑,
-研磨這些凍結(jié)的顆粒(IV),從而獲得減小尺寸的顆粒。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顆粒(III),其中,該偏二氯乙烯聚合物是均聚物。
8.一種用于減小具有大孔的多孔顆粒(IV)的尺寸的方法,所述顆粒(IV)包含至少一種具有熔點(diǎn)的偏二氯乙烯聚合物和通過激光衍射分析測定的范圍為從170μm至800μm的平均直徑,所述方法包括以下步驟:
-低溫冷凍該偏二氯乙烯聚合物的顆粒(IV),
-研磨這些凍結(jié)的顆粒(IV),從而獲得減小尺寸的顆粒,
其中這些獲得的包含偏二氯乙烯聚合物的多孔顆粒是根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的顆粒(III)。
9.一種用于通過引起包含在根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的多孔顆粒(III)中的偏二氯乙烯聚合物的熱解來制造多孔含碳顆粒的方法。
10.一種用于制造多孔含碳顆粒的方法,所述方法包括:
-通過根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法制造多孔顆粒,
-引起包含在如此制造的多孔顆粒中的偏二氯乙烯聚合物的熱解,
其中所述多孔含碳顆粒是根據(jù)權(quán)利要求1至4所述的顆粒(I)。
11.一種用于制造多孔含碳整料的方法,該方法包括以下步驟:
i-制備包含根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的顆粒(III)的前體材料,
ii-形成包含顆粒(III)的聚集體的成形體(S),
iii-將該成形體引入爐中,
iv-引起該爐中的偏二氯乙烯聚合物的熱解直至獲得該多孔含碳整料。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于索爾維公司,未經(jīng)索爾維公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201780074206.0/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





