[發(fā)明專利]層合體有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780072491.2 | 申請日: | 2017-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN110023384B | 公開(公告)日: | 2022-06-07 |
| 發(fā)明(設計)人: | 李美宿;具世真;樸魯振;金廷根;李濟權;崔銀英;柳亨周;尹圣琇 | 申請(專利權)人: | 株式會社LG化學 |
| 主分類號: | C08J5/22 | 分類號: | C08J5/22;G03F1/66;G03F1/76;G03F1/80;C08L33/06 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 趙丹;高世豪 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 合體 | ||
本申請涉及嵌段共聚物及其用途。本申請可以提供層合體以及使用其生產圖案化基底的方法,所述層合體能夠在基底上形成高度取向的嵌段共聚物,并因此可以有效地應用于生產各種圖案化基底。
技術領域
本申請要求基于2016年11月30日提交的韓國專利申請第10-2016-0162141號的優(yōu)先權權益,其公開內容通過引用整體并入本文。
本申請涉及層合體。
背景技術
嵌段共聚物具有其中具有不同化學結構的聚合物嵌段經(jīng)由共價鍵連接的分子結構。嵌段共聚物可以通過相分離形成周期性排列的結構,例如球體、柱體或層狀。通過嵌段共聚物的自組裝現(xiàn)象形成的結構的區(qū)域形狀和尺寸可以通過例如形成各嵌段的單體的種類或嵌段之間的相對比率等來廣泛地控制。
由于這些特性,正在考慮將嵌段共聚物應用于納米線生產、各種下一代納米裝置如量子點或金屬點的生產、或者能夠在預定的基底上形成高密度圖案的光刻法等。
在嵌段共聚物的實際應用中,在各種基底上水平或垂直地調節(jié)嵌段共聚物的自組裝結構的取向的技術占很大比例。通常,嵌段共聚物膜中的納米結構的取向由嵌段共聚物的何種嵌段暴露于表面或空氣來決定。通常,由于許多基底具有極性而空氣是非極性的,因此嵌段共聚物的嵌段中具有較大極性的嵌段對基底潤濕,而具有較小極性的嵌段在與空氣的界面處潤濕。因此,需要使嵌段共聚物的具有不同特性的嵌段同時對基底側潤濕的技術。
發(fā)明內容
技術問題
本申請?zhí)峁┝藢雍象w。
技術方案
在本說明書中,除非另有說明,否則術語烷基可以意指具有1至20個碳原子、1至16個碳原子、1至12個碳原子、1至8個碳原子或1至4個碳原子的烷基。烷基可以為線性、支化或環(huán)狀烷基,其可以任選地經(jīng)一個或更多個取代基取代。
在本說明書中,除非另有說明,否則術語烷氧基可以意指具有1至20個碳原子、1至16個碳原子、1至12個碳原子、1至8個碳原子或1至4個碳原子的烷氧基。烷氧基可以為線性、支化或環(huán)狀烷氧基,其可以任選地經(jīng)一個或更多個取代基取代。
除非另有說明,否則本文中的術語烯基或炔基意指具有2至20個碳原子、2至16個碳原子、2至12個碳原子、2至8個碳原子或2至4個碳原子的烯基或炔基。烯基或炔基可以為線性、支化或環(huán)狀的,其可以任選地經(jīng)一個或更多個取代基取代。
除非另有說明,否則本文中的術語亞烷基可以意指具有1至20個碳原子、1至16個碳原子、1至12個碳原子、1至8個碳原子或1至4個碳原子的亞烷基。亞烷基可以為線性、支化或環(huán)狀亞烷基,其可以任選地經(jīng)一個或更多個取代基取代。
本文中的術語亞烯基或亞炔基可以意指具有2至20個碳原子、2至16個碳原子、2至12個碳原子、2至8個碳原子或2至4個碳原子的亞烯基或亞炔基。亞烯基或亞炔基可以為線性、支化或環(huán)狀的,其可以任選地經(jīng)一個或更多個取代基取代。
除非另有說明,否則本文中的術語芳基或亞芳基可以意指源自這樣的化合物或其衍生物的一價殘基或二價殘基:所述化合物包含一個苯結構,或者其中兩個或更多個苯環(huán)在共用一個或兩個碳原子的同時連接、或通過任意連接基團連接的結構。除非另有說明,否則芳基或亞芳基可以為例如具有6至30個碳原子、6至25個碳原子、6至21個碳原子、6至18個碳原子或6至13個碳原子的芳基或亞芳基。
在本申請中,術語芳族結構可以意指芳基或亞芳基。
在本說明書中,除非另有說明,否則術語脂環(huán)族環(huán)結構意指除芳族環(huán)結構之外的環(huán)狀烴結構。除非另有說明,否則脂環(huán)族環(huán)結構可以為例如具有3至30個碳原子、3至25個碳原子、3至21個碳原子、3至18個碳原子或3至13個碳原子的脂環(huán)族環(huán)結構。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于株式會社LG化學,未經(jīng)株式會社LG化學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201780072491.2/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:層合體
- 下一篇:用于生產聚合物膜的方法





