[發(fā)明專利]光學(xué)中介層光電裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780072372.7 | 申請日: | 2017-11-21 |
| 公開(公告)號: | CN110192136A | 公開(公告)日: | 2019-08-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 道格拉斯·庫爾博;杰里邁亞·赫布丁;丹尼爾·帕斯夸爾;道格拉斯·拉圖利佩;邁克爾·利普森;克倫·伯格曼;邁克爾·沃茨;托馬斯·科克 | 申請(專利權(quán))人: | 紐約州立大學(xué)研究基金會(huì);紐約市哥倫比亞大學(xué)理事會(huì);模擬光子學(xué)有限責(zé)任公司;代表亞利桑那大學(xué)的亞利桑那校董會(huì) |
| 主分類號: | G02B6/43 | 分類號: | G02B6/43;G02B6/42;G02B6/12 |
| 代理公司: | 成都超凡明遠(yuǎn)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51258 | 代理人: | 魏彥;洪玉姬 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 中介層 基板 傳輸信號 電氣信號 光電系統(tǒng) 光電裝置 光子裝置 延伸穿過 一體形成 預(yù)制部件 附接 傳輸 貫穿 | ||
在一種實(shí)施方式中,光電系統(tǒng)可以包括光學(xué)中介層,該光學(xué)中介層具有基板和在基板上形成的功能中介層結(jié)構(gòu)、延伸穿過基板和功能中介層結(jié)構(gòu)的傳輸電氣信號的多個(gè)貫穿過孔、以及傳輸信號到功能中介層結(jié)構(gòu)的不同區(qū)域的多個(gè)線。該系統(tǒng)還可以包括在功能中介層結(jié)構(gòu)中一體形成的一個(gè)或多個(gè)光子裝置、以及附接至功能中介層結(jié)構(gòu)的一個(gè)或多個(gè)預(yù)制部件。
相關(guān)申請的交叉引用
本申請要求于2016年11月23日提交的名稱為“Photonics InterposerOptoelectronics”的美國臨時(shí)專利申請No.:62/426,100的優(yōu)先權(quán),該專利申請的全部內(nèi)容通過引用其整體的方式并入本文。本申請還要求于2017年10月27日提交的名稱為“Photonics Interposer Optoelectronics”的美國非臨時(shí)專利申請No.:15/975,349的優(yōu)先權(quán),該專利申請的全部內(nèi)容通過引用其整體的方式并入本文。
政府權(quán)力聲明
本發(fā)明是在美國國防部(DOD)的政府支持下以撥款合同號FA8650-15-2-5220進(jìn)行的。政府可以在本發(fā)明中享有一定的權(quán)利。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開總體涉及光學(xué),并且具體涉及光學(xué)結(jié)構(gòu)和制造方法。
背景技術(shù)
市售的光學(xué)集成電路是在晶片上制造的,例如體硅或絕緣體上硅晶片。市售的預(yù)制光學(xué)集成電路芯片可以包括波導(dǎo),該波導(dǎo)用于在預(yù)制光學(xué)集成電路芯片的不同區(qū)域之間傳輸光信號。市售的波導(dǎo)具有矩形或脊的幾何形狀,并且用硅(單晶或多晶)或氮化硅制造。市售的光學(xué)集成電路芯片可以用于具有設(shè)置在印刷電路板上的光學(xué)集成電路芯片的系統(tǒng)。
發(fā)明內(nèi)容
在一個(gè)方面,通過提供光學(xué)結(jié)構(gòu),克服了現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn),并提供了附加的優(yōu)點(diǎn)。
在一種實(shí)施方式中,光電系統(tǒng)可以包括光學(xué)中介層,該光學(xué)中介層具有基板和在基板上形成的功能中介層結(jié)構(gòu)、延伸穿過基板和功能中介層結(jié)構(gòu)的傳輸電氣信號的多個(gè)貫穿過孔、以及傳輸信號到功能中介層結(jié)構(gòu)的不同區(qū)域的的多個(gè)線。該系統(tǒng)還可以包括在功能中介層結(jié)構(gòu)中一體形成的一個(gè)或多個(gè)光學(xué)裝置;以及附接至功能中介層結(jié)構(gòu)的一個(gè)或多個(gè)預(yù)制部件。
通過本公開的技術(shù)實(shí)現(xiàn)了附加特征和優(yōu)點(diǎn)。
附圖說明
在說明書結(jié)論處的權(quán)利要求中,特別地作為示例指出并清楚地要求保護(hù)本公開的一個(gè)或多個(gè)方面。從以下結(jié)合隨附附圖的詳細(xì)描述中,本公開的前述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)是顯而易見的,其中:
圖1是光電系統(tǒng)的截面示意圖,該光電系統(tǒng)具有中介層、一個(gè)或多個(gè)附接的預(yù)制部件、以及一個(gè)或多個(gè)集成的光學(xué)裝置;
圖2是制造的中間階段的光電系統(tǒng)的截面示意圖;
圖3是在制造再分布層之后制造的中間階段的光電系統(tǒng)的截面示意圖;
圖4是在制造用于容納一個(gè)或多個(gè)預(yù)制部件之后的制造的中間階段的光電系統(tǒng)的截面示意圖;
圖5是在一個(gè)或多個(gè)預(yù)制部件的附接之后制造的中間階段的光電系統(tǒng)的截面示意圖;
圖6是安裝在子結(jié)構(gòu)上的光電系統(tǒng)的截面示意圖;以及
圖7-10示出了光學(xué)裝置的替代實(shí)施方式,該電子裝置可以在中介層功能結(jié)構(gòu)中一體形成。
具體實(shí)施方式
下面參考隨附附圖中所示的非限制性示例更全面地解釋本公開的各方面及其某些特征、優(yōu)點(diǎn)和細(xì)節(jié)。省略對眾所周知的材料、制造工具、處理技術(shù)等的描述,以免不必要地使本公開的細(xì)節(jié)難以理解。然而,應(yīng)該理解的是,詳細(xì)描述和具體示例雖然指出了本公開的多個(gè)方面,但是僅以說明而非限制的方式給出。本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)本公開將清楚在下面的發(fā)明構(gòu)思的精神和/或范圍內(nèi)的各種替換、修改、添加和/或布置。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于紐約州立大學(xué)研究基金會(huì);紐約市哥倫比亞大學(xué)理事會(huì);模擬光子學(xué)有限責(zé)任公司;代表亞利桑那大學(xué)的亞利桑那校董會(huì),未經(jīng)紐約州立大學(xué)研究基金會(huì);紐約市哥倫比亞大學(xué)理事會(huì);模擬光子學(xué)有限責(zé)任公司;代表亞利桑那大學(xué)的亞利桑那校董會(huì)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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