[發(fā)明專利]用于排氣后處理系統(tǒng)的設(shè)備和控制用于發(fā)動機排氣后處理系統(tǒng)的設(shè)備中的還原劑流動的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780072014.6 | 申請日: | 2017-11-17 |
| 公開(公告)號: | CN109983206B | 公開(公告)日: | 2021-12-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 塞爾吉·尤達諾夫;普拉馬斯·馬丁 | 申請(專利權(quán))人: | 沃爾沃卡車集團 |
| 主分類號: | F01N3/20 | 分類號: | F01N3/20;F01N3/30;F01N9/00 |
| 代理公司: | 中原信達知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11219 | 代理人: | 王偉;高偉 |
| 地址: | 瑞典,*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 排氣 處理 系統(tǒng) 設(shè)備 控制 發(fā)動機 中的 還原劑 流動 方法 | ||
1.一種用于排氣后處理系統(tǒng)(102)的設(shè)備(100),所述設(shè)備包括:
罐(104),所述罐(104)用于儲存還原劑(106);
泵單元設(shè)備(108),所述泵單元設(shè)備(108)布置在所述罐下游并且與所述罐流體連通;
噴嘴(110),所述噴嘴(110)被布置成將還原劑流噴射到所述排氣后處理系統(tǒng)(102)中,所述噴嘴布置在所述罐下游并且通過還原劑導管(112)、經(jīng)由所述泵單元設(shè)備而與所述罐流體連通;
空氣導管(114),所述空氣導管(114)被布置成與所述噴嘴(110)流體連通,以將壓縮空氣輸送到所述噴嘴;以及
返回導管(116),所述返回導管(116)被流體連通地布置在所述還原劑導管和所述罐之間,所述返回導管包括返回導管閥設(shè)備(118),其中,所述空氣導管(114)被布置成與所述還原劑導管(112)流體連通,以通過將來自所述空氣導管的壓縮空氣提供給所述還原劑導管而經(jīng)由所述返回導管閥設(shè)備(118)以可控方式將還原劑輸送到所述罐,其中,所述設(shè)備還包括被定位在所述噴嘴(110)附近的第一空氣閥設(shè)備(120),所述空氣導管(114)被布置成經(jīng)由所述第一空氣閥設(shè)備(120)與所述還原劑導管(112)流體連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,所述返回導管閥設(shè)備能夠在第一狀態(tài)和第二狀態(tài)之間被控制,在所述第一狀態(tài)下,還原劑被阻止流回到所述罐中,在所述第二狀態(tài)下,所述還原劑導管中的位于所述噴嘴上游的還原劑的至少一部分被引導到所述罐,其中,當所述返回導管閥設(shè)備上游的所述返回導管中的壓力水平超過預定閾值極限時,所述返回導管閥設(shè)備能夠被控制以從所述第一狀態(tài)切換到所述第二狀態(tài)。
3.根據(jù)權(quán)利要求 1或2所述的設(shè)備,其中,所述泵單元設(shè)備(108)包括在所述還原劑導管(112)中的泵組件(107),所述泵組件包括泵(111)和溢流閥(113),其中,所述溢流閥與所述泵并聯(lián)連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備,其中,所述返回導管閥設(shè)備(118)和所述溢流閥是相應的壓力控制減壓閥,其中,所述返回導管閥設(shè)備(118)被布置成在比所述溢流閥處于打開狀態(tài)時的壓力水平低的壓力水平下處于打開狀態(tài)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備,還包括在所述返回導管和所述噴嘴之間布置在所述還原劑導管(112)中的電控還原劑閥設(shè)備(124)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備,還包括布置在所述空氣導管(114)中的空氣導管閥(126)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備,其中,所述空氣導管閥(126)位于所述第一空氣閥設(shè)備(120)和所述噴嘴之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備,其中,所述返回導管被布置成經(jīng)由所述還原劑導管(112)的泵單元入口側(cè)(128)與所述罐流體連通。
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