[發明專利]用于干式構建的塊體在審
| 申請號: | 201780071721.3 | 申請日: | 2017-10-13 |
| 公開(公告)號: | CN110234820A | 公開(公告)日: | 2019-09-13 |
| 發明(設計)人: | C.斯皮納;D.瓦爾德曼-迪德里奇;G.G.C.納帕雅;S.阿加雅尼 | 申請(專利權)人: | 孔特恩股份有限公司;盧森堡大學 |
| 主分類號: | E04B2/18 | 分類號: | E04B2/18;E04B2/44;E04B2/02 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 許睿嶠 |
| 地址: | 盧森堡*** | 國省代碼: | 盧森堡;LU |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 凸起圖案 上部面 構建 主面 相距一定距離 惰性材料 側向面 凸榫 相背 平行延伸 鄰接 槽平行 干式 塊體 裝配 混凝土 延伸 | ||
本發明涉及一種構建塊(2),由惰性材料制成,所述惰性材料例如混凝土,所述構建塊包括相背的兩個主面(4,6)、上部面(8)、下部面(10)和相背的兩個側向面(12,14),所述上部面(8)和下部面(10)以及所述側向面(12,14)分別具有互補的凸起圖案,當若干個所述塊鄰接時,所述互補的凸起圖案能夠裝配在一起。所述上部面(8)的凸起圖案包括兩個凸榫(16),所述兩個凸榫(16)平行延伸并分別與兩個主面(4,6)相距一定距離,并且,所述下部面(10)的凸起圖案包括兩個對應的槽(16'),所述兩個對應的槽平行延伸并分別與兩個主面(4,6)相距一定距離。
技術領域
本發明屬于建筑物構建領域,更具體地,涉及建筑塊領域,特別是由諸如混凝土的惰性材料制成的建筑塊。
背景技術
公開的專利文獻WO97/25499A1公開了一種中空構建塊,在其上部、下部和側面中的每一個上設置有起伏部,當若干塊彼此并排組裝和/或組裝在彼此的頂部時,所述起伏部能夠彼此互鎖。這種塊可以“干式”組裝,也就是說不使用砂漿。塊中的腔體旨在用水泥或砂漿填充,以便穩定如此構建的墻壁。因此,這種塊不適合于絕對干式的構建,也就是說沒有水泥添加到空隙中。主要原因是位于形成主面的板之間的稱為“舌片”的豎直部分不能確保足夠精確的互鎖。具體地,在這些豎直部分中的一個的上部面處有異物和/或不規則部的情況下,上部塊將不可避免地表現出相對于豎直方向的偏差。這種偏離可能會使墻壁不穩定,從而存在使其坍塌的風險,這主要是因為塊缺少抵抗分開的阻力。
公開的專利文獻WO2012/160150A1同樣公開了一種用于墻壁的“干式”構建的混凝土構建塊。為此,與前一文獻類似,該塊包括在上部面上形成橫向起伏部和在下部面中形成空隙的豎直部分。這些豎直部分位于形成主面的兩個板之間。這些板同樣在塊的相對的側向面的邊緣上包括凸榫/榫眼型的輪廓。然而,這些輪廓的尺寸非常小并且可能在制造公差方面導致問題,并且在這些輪廓中存在不規則性或其他缺陷時在其組裝方面也會導致問題。
發明內容
技術問題
本發明的目的是彌補上述現有技術的缺點中的至少一個。更具體地,本發明的目的是提出一種構建塊,其允許干式組裝,同時確保足夠的穩定性,特別是對于具有一定高度的墻壁。
技術方案
本發明的主題是由惰性材料(例如混凝土)制成的構建塊,包括相背的兩個主面、上部面、下部面和相背的兩個側向面,上部面和下部面以及側向面分別具有互補的起伏部,當多干個構建塊鄰接時,所述互補的起伏部能夠互鎖;所述塊的特征在于,上部面的起伏部包括兩個凸榫,這兩個凸榫平行延伸并分別與兩個主面相距一定距離,下部面的起伏部包括兩個對應的槽,這兩個對應的槽平行延伸并分別與兩個主面相距一定距離。
根據本發明的一個有利實施例,所述塊包括空隙和在上部面的每個凸榫與下部面的對應槽之間的連續材料。連續材料有利地具有至少等于對應凸榫的厚度的厚度,特別是從凸榫到對應槽。
根據本發明的一個有利實施例,所述空隙包括在上部面的凸榫和下部面的對應槽之間豎直延伸的空隙。
根據本發明的一個有利實施例,所述空隙包括在一方面的主面中的每一個與另一方面的上部面的相鄰凸榫和下部面的相鄰對應槽之間豎直延伸的空隙。
根據本發明的一個有利實施例,上部面的凸榫中的每一個的厚度在體的寬度的10%至17%的范圍內。
根據本發明的一個有利實施例,上部面的凸榫中的每一個與相鄰主面相距的距離在塊的寬度的20%至25%的范圍內。
根據本發明的一個有利實施例,上部面和下部面中的每一個分別在所述上部面的兩個凸榫和所述下部面的兩個槽的兩側具有大致平直的橫向輪廓。
有利地,上部面的橫向輪廓具有水平中央部分,該水平中央部分相對于凸榫兩側的水平側向部分豎直后退。該后退可以大于或等于1mm。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于孔特恩股份有限公司;盧森堡大學,未經孔特恩股份有限公司;盧森堡大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201780071721.3/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





