[發(fā)明專利]直接成像曝光裝置以及直接成像曝光方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780070310.2
• 申請日: 2017-11-13
• 公開（公告）號: CN110325918B
• 公開（公告）日: 2021-08-31
• 發(fā)明（設計）人: 鈴木昌治
• 申請（專利權）人: 株式會社阿迪泰克工程
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 呂文卓

1.一種直接成像曝光裝置，其特征在于，具備：

曝光單元，以符合設計曝光圖案的圖案向曝光區(qū)域照射光；以及

移動機構，使對象物經過曝光區(qū)域相對地移動，該對象物的表面形成有通過進行臨界曝光量以上的曝光而感光的感光層，

曝光單元具備：

光源；

空間光調制器，配置于來自光源的光所照射的位置，具有多個像素，以使向曝光區(qū)域照射的光成為符合設計曝光圖案的圖案的方式使來自光源的光進行空間調制，所述多個像素被設為使光朝向曝光區(qū)域進行取向的狀態(tài)即開啟狀態(tài)和不使光朝向曝光區(qū)域進行取向的狀態(tài)即關閉狀態(tài)中的某一種；以及

光學系統(tǒng)，將由空間光調制器進行了空間調制后的光投影到曝光區(qū)域，

所述直接成像曝光裝置，設有：

調制器控制器，控制空間光調制器的各像素；以及

存儲部，存儲有曝光控制數(shù)據(jù)，該曝光控制數(shù)據(jù)是調制器控制器用于控制各像素的開啟關閉的數(shù)據(jù)，

在曝光區(qū)域，設定了與空間光調制器的各像素對應的對應坐標，

在對象物的表面，設定了表示應被曝光的位置的要曝光點，各要曝光點是以曝光點間距的距離相互隔開的點，

光學系統(tǒng)在與空間光調制器的開啟狀態(tài)的各像素對應的各對應坐標上將該像素的像素圖案進行投影，

移動機構使對象物移動，以使對象物的一個要曝光點的位置根據(jù)沿著移動方向的掃描線上的像素圖案而被曝光并且還根據(jù)相鄰的掃描線上的像素圖案的周邊部而被疊加地曝光，各像素圖案的照度分布是在中央部變高而在周邊部變低的分布，

曝光控制數(shù)據(jù)使得當由移動機構使對象物移動時，對象物的表面的同一要曝光點以包含一次及兩次以上的規(guī)定次數(shù)位于像素圖案所投影的對應坐標而進行曝光，

所述曝光控制數(shù)據(jù)中的規(guī)定次數(shù)，對于到設計曝光圖案的邊界的距離為曝光點間距以上的要曝光點而言是最大次數(shù)，對于到設計曝光圖案的邊界的距離小于曝光點間距的要曝光點而言，是根據(jù)到邊界的距離而設定的比最大次數(shù)少的次數(shù)。

2.如權利要求1所述的直接成像曝光裝置，其特征在于，

所述空間光調制器是數(shù)字微鏡器件。

3.一種直接成像曝光方法，其特征在于，

具備以下步驟：

調制器照射步驟，向空間光調制器照射來自光源的光，該空間光調制器具有多個像素，該多個像素被設為使光朝向曝光區(qū)域進行取向的狀態(tài)即開啟狀態(tài)和不使光朝向曝光區(qū)域進行取向的狀態(tài)即關閉狀態(tài)中的某一種；

調制器控制步驟，控制空間光調制器，以使向曝光區(qū)域照射的光成為符合設計曝光圖案的圖案；

投影步驟，利用光學系統(tǒng)將來自空間光調制器的光向曝光區(qū)域投影；以及

移動步驟，使對象物經過曝光區(qū)域相對地移動，該對象物的表面形成有通過進行臨界曝光量以上的曝光而感光的感光層，

在曝光區(qū)域，設定了與空間光調制器的各像素對應的對應坐標，

在對象物的表面，設定了表示應被曝光的位置的要曝光點，各要曝光點是以曝光點間距的距離相互隔開的點，

在投影步驟中，在與空間光調制器的開啟狀態(tài)的各像素對應的各對應坐標上將該像素的像素圖案進行投影，

在投影步驟及移動步驟中，使對象物移動，以使對象物的一個要曝光點的位置根據(jù)沿著移動方向的掃描線上的像素圖案而被曝光并且還根據(jù)相鄰的掃描線上的像素圖案的周邊部而被疊加地曝光，各像素圖案的照度分布是在中央部變高而在周邊部變低的分布，

在調制器控制步驟及移動步驟中，使得當由移動機構使對象物移動時，對象物的表面的同一要曝光點以包含一次及兩次以上的規(guī)定次數(shù)位于像素圖案所投影的對應坐標而進行曝光，

所述規(guī)定次數(shù)，對于到設計曝光圖案的邊界的距離為曝光點間距以上的要曝光點而言是最大次數(shù)，對于到設計曝光圖案的邊界的距離小于曝光點間距的要曝光點而言，是根據(jù)到邊界的距離而設定的比最大次數(shù)少的次數(shù)。

4.如權利要求3所述的直接成像曝光方法，其特征在于，

所述空間光調制器是數(shù)字微鏡器件。