[發明專利]自適應電噴霧裝置

有效

• 申請號: 201780069962.4
• 申請日: 2017-08-31
• 公開（公告）號: CN109996609B
• 公開（公告）日: 2022-02-11
• 發明（設計）人: M·馬奎爾;S·芬尼根
• 申請（專利權）人: 阿維塔斯有限公司
• 主分類號: B05B1/14
• 分類號: B05B1/14;B05B12/08;B05B12/18;B05B5/025;B05B1/26
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 過曉東

1.一種自適應電噴霧裝置，其包括：

電噴霧發射器；

第一電流測量單元，其電耦合至所述發射器并測量發射器電流；

反電極；

第二電流測量單元，其電耦合至所述的反電極并測量反電極電流；以及

控制器，其配置為：

接收發射器電流測量值和反電極電流測量值；

基于接收的發射器電流測量值和接收的反電極電流測量值，計算電流調整值，從而補償發射器和反電極之間的寄生電流損耗；以及

根據計算出的電流調整值調整所述發射器電流。

2.根據權利要求1所述的裝置，進一步包括：

電流源，其電偶合至所述發射器，在大于或小于500伏特的電壓下，相對于所述反電極，所述的電流源提供電流，所述電流源直接調整所述發射器電流。

3.根據權利要求1所述的裝置，進一步包括：

發射器陣列，其包括第一發射器和第二發射器，其中所述的發射器為第一發射器；以及

其中所述控制器被配置給所述第一發射器在第一時間段通電及給所述第二發射器在第二時間段通電，其中所述的第一時間段和第二時間段不重疊。

4.根據權利要求1所述的裝置，進一步包括：

微流體溶液源，其被配置用于向所述發射器持續地提供溶液。

5.根據權利要求1所述的裝置，其中所述第一電流測量單元為高壓納米安培計。

6.根據權利要求1所述的裝置，其中所述發射器包括用于分散流體的套管。

7.根據權利要求1所述的裝置，其中所述反電極被設置用于接收由所述發射器發射的分散的帶電溶液。

8.根據權利要求1所述的裝置，其中所述反電極包括金、銦錫氧化物(ITO)、銅、鍍鎳銅或不銹鋼。

9.根據權利要求1所述的裝置，其中所述發射器將液體分散至具有0.1大氣壓和10大氣壓之間的環境中。

10.根據權利要求1所述的裝置，進一步包括液體源，所述液體源包括重力儲液器。

11.根據權利要求1所述的裝置，進一步包括液體源，所述液體源包括電滲(EO)泵，其具有大于所述發射器的電勢。

12.根據權利要求1所述的裝置，進一步包括：

提取器，其被設置在所述發射器和反電極之間，所述的提取器與反電極的電勢差小于發射器和反電極之間的電勢差，所述的提取器包括可調節的環形孔。

13.根據權利要求1所述的裝置，其中計算電流調整值包括：

用測量的發射器電流減去測量的反電極電流。

14.根據權利要求1所述的裝置，其中所述第二電流測量單元為電流鏡。

15.根據權利要求1所述的裝置，進一步包括：

發射器開關，其將所述發射器耦合到電源上并接收控制信號；

其中基于所述計算的電流調整值調整所述發射器電流包括修改所述控制信號的占空比，所述控制信號為脈沖寬度調制的。

16.根據權利要求15所述的裝置，其中所述占空比在1％到99％之間。

17.根據權利要求16所述的裝置，其中所述占空比為大約10％、50％、70％或90％，其中大約為10％以內。

18.根據權利要求15所述的裝置，其中所述控制信號包括在1至10,000赫茲之間的頻率。