[發(fā)明專(zhuān)利]用于視覺(jué)識(shí)別認(rèn)證的光學(xué)反饋有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201780069511.0 | 申請(qǐng)日: | 2017-10-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN110036391B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-05-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | A·納施特;I·幕蒂克;O·O·波格雷里克;A·馬雷克 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 邁克菲有限責(zé)任公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G06V40/40 | 分類(lèi)號(hào): | G06V40/40;G06V20/80;G09C5/00;G06T1/00;H04L9/32 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 黃綸偉;李輝 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 視覺(jué) 識(shí)別 認(rèn)證 光學(xué) 反饋 | ||
1.一種設(shè)備,該設(shè)備包括:
用于圖案隨機(jī)化以執(zhí)行以下步驟的圖案隨機(jī)化裝置:
確定與視覺(jué)認(rèn)證會(huì)話(huà)對(duì)應(yīng)的多個(gè)時(shí)間段;
從多個(gè)候選光學(xué)圖案選擇第一光學(xué)圖案,所述第一光學(xué)圖案在第一時(shí)間段期間被發(fā)射;以及
從所述多個(gè)候選光學(xué)圖案選擇與所述第一光學(xué)圖案不同的第二光學(xué)圖案,所述第二光學(xué)圖案在第二時(shí)間段期間被發(fā)射,所述第二時(shí)間段與所述第一時(shí)間段不同;用于投影以生成用于所述視覺(jué)認(rèn)證會(huì)話(huà)的光學(xué)水印信號(hào)的投影裝置,所述光學(xué)水印信號(hào)包括所述第一時(shí)間段期間的所述第一光學(xué)圖案和所述第二時(shí)間段期間的所述第二光學(xué)圖案;
用于圖像捕獲的裝置,該裝置:
獲得包括在所述視覺(jué)認(rèn)證會(huì)話(huà)期間捕獲的圖像的圖像源;并且
檢測(cè)所述第一時(shí)間段和所述第二時(shí)間段期間的所述圖像源中的反射的光學(xué)水印信號(hào);
用于比較反射的光學(xué)水印信號(hào)與生成的光學(xué)水印信號(hào)的比較裝置,該比較裝置:
比較反射的光學(xué)水印信號(hào)是否與所述第一時(shí)間段期間的所述第一光學(xué)圖案匹配;并且
比較反射的光學(xué)水印信號(hào)是否與所述第二時(shí)間段期間的所述第二光學(xué)圖案匹配。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,所述設(shè)備還包括用于視覺(jué)認(rèn)證的視覺(jué)認(rèn)證裝置,該視覺(jué)認(rèn)證裝置基于反射的光學(xué)水印信號(hào)與以下中的至少一者不匹配的確定結(jié)果而拒絕用戶(hù)訪(fǎng)問(wèn)受限信息:
所述第一時(shí)間段期間的所述第一光學(xué)圖案;和
所述第二時(shí)間段期間的所述第二光學(xué)圖案。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備,其中,所述視覺(jué)認(rèn)證裝置基于反射的光學(xué)水印信號(hào)不與所述第一時(shí)間段期間的所述第一光學(xué)圖案和所述第二時(shí)間段期間的所述第二光學(xué)圖案中的至少一者匹配的確定結(jié)果,中止所述視覺(jué)認(rèn)證會(huì)話(huà)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備,其中,所述投影裝置利用所述第一光學(xué)圖案和所述第二光學(xué)圖案將數(shù)據(jù)元素編碼到水印中。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備,其中,所述比較裝置通過(guò)將編碼的數(shù)據(jù)元素與捕獲的反射數(shù)據(jù)元素進(jìn)行比較而生成另外的比較。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備,其中,所述視覺(jué)認(rèn)證裝置將反射的數(shù)據(jù)元素與編碼的數(shù)據(jù)元素之間的另外的比較以及反射的光學(xué)水印信號(hào)與生成的光學(xué)水印信號(hào)之間的比較一起用作多因素識(shí)別。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,所述第一光學(xué)圖案和所述第二光學(xué)圖案中的至少一者以大于700納米的光波長(zhǎng)進(jìn)行投影。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,所述圖案隨機(jī)化裝置從所述多個(gè)候選光學(xué)圖案中隨機(jī)地選擇所述第一光學(xué)圖案和所述第二光學(xué)圖案中的至少一者。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中,所述第一光學(xué)圖案和所述第二光學(xué)圖案中的至少一者包括調(diào)制光學(xué)信號(hào)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備,其中,所述投影裝置利用所述調(diào)制光學(xué)信號(hào)將數(shù)據(jù)元素編碼到水印中。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的設(shè)備,所述設(shè)備還包括用于密鑰管理的裝置,該裝置將所述數(shù)據(jù)元素加密為散列值。
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