[發明專利]具有具備增強功能性的集成型計量工具的光刻系統在審
| 申請號: | 201780069251.7 | 申請日: | 2017-08-21 |
| 公開(公告)號: | CN109923480A | 公開(公告)日: | 2019-06-21 |
| 發明(設計)人: | E·阿米特;R·弗克維奇;L·葉魯舍米 | 申請(專利權)人: | 科磊股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人: | 劉麗楠 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 計量工具 計量測量 集成型 打印 光刻系統 過程參數 優化 額外操作 過程控制 時間限制 增強性能 配方 分組 監測 景觀 分配 | ||
本發明提供具有增強性能的光刻系統及方法,其基于在打印工具中更廣泛地利用集成型計量工具以依更復雜及經優化方式來處置所述系統中的計量測量。揭示額外操作通道,使得所述集成型計量工具能夠關于所述打印工具的指定時間限制而監測及/或分配通過所述集成型計量工具并通過獨立計量工具的計量測量;調整及優化計量測量配方;提供更佳過程控制以優化所述打印工具的過程參數;以及根據計量測量景觀來對所述打印工具的過程參數進行分組。
本申請案要求2016年11月14日申請的第62/421,932號美國臨時專利申請案的權益,所述申請案的全文以引用的方式并入本文中。
技術領域
本發明涉及計量學領域,并且更特定來說涉及優化的光刻系統。
背景技術
光刻系統必須在縮短的打印時間要求內處置日益復雜、更小的打印節點及計量輸入的增加。
發明內容
下文是提供對本發明的初始理解的簡要概述。所述概述不一定識別關鍵要素,也不限制本發明的范圍,而是僅作為對下文描述的介紹。
本發明的一個方面提供一種光刻系統,其包括:打印工具,其具有集成型計量工具;及獨立計量工具,其連接到所述打印工具并經配置以對由所述打印工具產生的晶片執行計量測量,其中所述光刻系統進一步包括將所述集成型計量工具與所述獨立計量工具連接的監測通道,且所述集成型計量工具進一步經配置以在所述集成型計量工具與所述獨立計量工具之間分配計量測量,并且關于所述打印工具的指定時間限制監測所述分配及所述計量測量。
本發明的這些、額外及/或其它方面及/或優點在下面的詳細描述中闡述;可能可從詳細描述中推斷;及/或通過實踐本發明來得知。
附圖說明
為更佳地理解本發明的實施例并且展示如何實現本發明,現在將純粹以實例的方式參考附圖,其中相同元件符號始終表示對應元件或區段。
在附圖中:
圖1是根據現有技術的說明光刻系統的高階示意性框圖。
圖2是根據本發明的一些實施例的說明具有改進過程跟蹤及計量測量分析的光刻系統的高階示意性框圖。
圖3及4是根據本發明的一些實施例的說明在集成型計量工具的層級處具有配方優化的光刻系統的高階示意性框圖。
圖5是根據本發明的一些實施例的說明具有改進過程控制的光刻系統的高階示意性框圖。
圖6是根據本發明的一些實施例的說明具有基于景觀的分組的光刻系統的高階示意性框圖。
圖7是根據本發明的一些實施例的說明具有上文揭示的各種通道配置的光刻系統的高階示意性框圖。
圖8是根據本發明的一些實施例的說明方法的高階流程圖。
具體實施方式
在以下描述中,描述本發明的各個方面。為解釋的目的,闡述具體配置及細節以便提供對本發明的透徹理解。然而,對于所屬領域的技術人員來說也將顯而易見的是,可在不具有本文所呈現的特定細節的情況下實踐本發明。此外,可省略或簡化眾所周知的特征以免使本發明不清楚。具體參照圖式,應強調,所展示的詳情僅作為實例,并且僅出于對本發明的說明性討論的目的,并且因提供被認為是本發明的原理及概念方面的最有用及容易理解描述而呈現。在此方面,未試圖展示比本發明的基本理解所需更詳細的本發明的結構細節,與附圖一起所作的描述使所屬領域的技術人員明白可如何在實踐中體現本發明的若干形式。
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