[發明專利]具有劑量控制的EUV LPP源以及使用可變寬度激光脈沖的激光穩定化

有效

• 申請號: 201780067738.1
• 申請日: 2017-10-23
• 公開（公告）號: CN109923945B
• 公開（公告）日: 2023-08-08
• 發明（設計）人: I·V·福門科夫;R·J·拉法克
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: H05G2/00
• 分類號: H05G2/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 王茂華

1.一種用于控制由激光產生的等離子體(LPP)極紫外(EUV)光源產生的EUV輻射的劑量的方法，EUV?LPP光源通過點燃源激光脈沖產生EUV能量，激光脈沖具有與所述脈沖中額定量的激光能量相對應的脈沖寬度，并且能夠利用激光脈沖撞擊目標材料的微滴，所述方法包括：

由控制器確定使用來自源激光器的每個脈沖提取適當均勻量的能量所必需的激光脈沖的寬度；

由所述控制器接收所選擇的EUV劑量目標、以及實現所述劑量目標所針對的激光脈沖數目；

由所述控制器確定待產生的所期望的每個激光脈沖的平均EUV能量，以便于針對所述激光脈沖數目來實現所述劑量目標；

由所述控制器使得所述光源點燃激光脈沖以撞擊微滴；

由所述控制器使得致動器將所述激光脈沖的寬度調制為所需的寬度；

由傳感器測量由所述激光脈沖撞擊所述微滴產生的所述EUV能量；

由所述控制器將所測得的EUV能量添加至由已經被點燃的激光脈沖產生的所述EUV能量的累計總量；

由所述控制器確定在所述EUV劑量的所述累計總量與所期望的每個激光脈沖的平均EUV能量乘以已經被點燃的激光脈沖的數目之間的差值，并且根據所確定的差值，確定將由下一激光脈沖產生的所期望的EUV能量；

由所述控制器使得所述致動器將所述下一激光脈沖的脈沖能量調制為適當的脈沖能量；以及

由所述控制器使得所述光源點燃所述下一激光脈沖以撞擊后續微滴。

2.根據權利要求1所述的方法，其中使用來自所述源激光器的每個脈沖提取的所述適當均勻量的能量足以防止自發激光。

3.根據權利要求1所述的方法，其中所述致動器被使得調制所述下一激光脈沖的脈沖能量，而不調制脈沖寬度。

4.根據權利要求1所述的方法，其中用于從所述源激光器提取所述適當均勻量的能量的所述激光脈沖的所確定的寬度在近似100和200納秒之間。

5.根據權利要求1所述的方法，其中用于從所述源激光器提取所述適當均勻量的能量的所述激光脈沖的所確定的寬度在近似30和100納秒之間。

6.根據權利要求1所述的方法，其中所述致動器包括電光調制器。

7.根據權利要求4所述的方法，其中所述致動器包括電光調制器。

8.根據權利要求1所述的方法，其中使得所述致動器調制所述下一激光脈沖的脈沖能量進一步包括：使得所述致動器調制所述下一激光脈沖的幅度。

9.根據權利要求1所述的方法，其中使得所述致動器調制所述下一激光脈沖的脈沖能量進一步包括：使得所述致動器由所述EUV?LPP光源中的一個或多個放大器調制所述下一激光脈沖的放大。

10.根據權利要求9所述的方法，其中所述致動器包括用于向所述一個或多個放大器施加射頻能量的RF調制器。