[發明專利]水處理裝置及水處理方法

有效

• 申請號: 201780065807.5
• 申請日: 2017-08-02
• 公開（公告）號: CN109890765B
• 公開（公告）日: 2020-02-14
• 發明（設計）人: 中山惠裕;山內登起子;安永望;野田清治
• 申請（專利權）人: 三菱電機株式會社
• 主分類號: C02F1/48
• 分類號: C02F1/48;C02F1/46
• 代理公司: 11038 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所
• 代理人: 賈成功

1.一種水處理裝置，該水處理裝置具備：

第1電極及第2電極，它們被收容于水處理部、被具有電絕緣性且可通過液體的間隔件隔開配置；

電源部，其與配置于所述水處理部的兩端的一對集電體連接、經由所述一對集電體在所述第1電極及所述第2電極之間施加電壓而使從所述水處理部的一方經由流入口供給的被處理水中所含的離子在所述第1電極及所述第2電極被吸附除去來進行脫鹽處理、生成脫鹽處理水；和

清洗水供給泵，其從所述水處理部的另一方使清洗水流通到所述水處理部的一方來清洗所述第1電極及所述第2電極，

其特征在于，所述第1電極及所述第2電極各自包含可流動的多個粒狀電極構件，所述流入口設置有防止所述粒狀電極構件從所述水處理部流出的防止流出構件。

2.根據權利要求1所述的水處理裝置，其特征在于，所述水處理部具備：擠壓所述第1電極及所述第2電極的擠壓部。

3.根據權利要求1所述的水處理裝置，其特征在于，具備：向所述清洗水供給添加劑的添加劑供給部、和決定是否將所述添加劑添加于所述清洗水的控制部。

4.根據權利要求3所述的水處理裝置，其特征在于，具備：貯存所述脫鹽處理水作為清洗水的反清洗用水槽。

5.根據權利要求4所述的水處理裝置，其特征在于，所述添加劑供給部將添加劑供給到在所述反清洗用水槽中貯存的所述清洗水。

6.根據權利要求5所述的水處理裝置，其特征在于，所述添加劑供給部具備多個添加劑保管槽，所述多個添加劑保管槽保管相互不同的種類的添加劑。

7.根據權利要求5所述的水處理裝置，其特征在于，所述添加劑供給部被設置于將所述水處理部與所述清洗水供給泵連接的配管。

8.根據權利要求3所述的水處理裝置，其特征在于，所述添加劑供給部生成添加劑、從設置于所述水處理部的添加劑注入口直接注入。

9.根據權利要求8所述的水處理裝置，其特征在于，在所述水處理部設置有多個添加劑注入口。

10.根據權利要求3-9中任一項所述的水處理裝置，其特征在于，所述控制部基于所述被處理水的電導率與所述脫鹽處理水的電導率之差除以所述被處理水的電導率所得的離子除去率來決定是否在所述清洗水中添加所述添加劑。

11.根據權利要求3-9中任一項所述的水處理裝置，其特征在于，所述控制部基于所述脫鹽處理水的離子濃度來決定是否在所述清洗水中添加所述添加劑。

12.根據權利要求3-9中任一項所述的水處理裝置，其特征在于，所述控制部基于所述脫鹽處理水的硬度來決定是否在所述清洗水中添加所述添加劑。

13.根據權利要求3-9中任一項所述的水處理裝置，其特征在于，所述控制部基于所述脫鹽處理的實施中在所述水處理部流動的電流的電流值來決定是否在所述清洗水中添加所述添加劑。

14.根據權利要求3-9中任一項所述的水處理裝置，其特征在于，所述控制部基于所述脫鹽處理結束時的所述水處理部的兩端間的電壓值來決定是否在所述清洗水中添加所述添加劑。

15.根據權利要求3-9中任一項所述的水處理裝置，其特征在于，所述控制部基于所述脫鹽處理結束后的放電時的所述水處理部的兩端間的電壓下降來決定是否在所述清洗水中添加所述添加劑。

16.根據權利要求3-9中任一項所述的水處理裝置，其特征在于，所述控制部基于所述脫鹽處理結束時的所述水處理部的壓力損失來決定是否在所述清洗水中添加所述添加劑。