[發(fā)明專利]用于估計模態(tài)帶寬光譜依賴性的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780063560.3 | 申請日: | 2017-10-05 |
| 公開(公告)號: | CN109844485B | 公開(公告)日: | 2022-03-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | J·卡斯特羅;R·皮姆皮娜拉;B·科塞;B·萊恩;黃羽;A·諾維克 | 申請(專利權(quán))人: | 泛達(dá)公司 |
| 主分類號: | G01M11/00 | 分類號: | G01M11/00;H04B10/077;H04B10/079 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 侯穎媖;錢慰民 |
| 地址: | 美國伊*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 估計 帶寬 光譜 依賴性 方法 | ||
1.一種基于僅在一個波長λM處執(zhí)行的差分模式延遲DMD測量來估計一組波長處的多模光纖的模態(tài)帶寬的方法,包括:在第一波長處執(zhí)行DMD測量;提取通過所述DMD測量得到的波形的至少一個信號特征,所述信號特征為所述第一波長處的通過所述DMD測量得到的所述波形的波形質(zhì)心、波形峰值功率、波形脈沖寬度和波形偏斜中的至少一個,并且基于所述第一波長的所述至少一個信號特征,使用映射模型來預(yù)測任意波長的至少一個信號特征;以及使用所述任意波長的預(yù)測出的至少一個信號特征來估計模態(tài)帶寬,
其中,所述映射模型通過使用經(jīng)訓(xùn)練的算法來生成,并且所述算法通過以下步驟來訓(xùn)練:
選擇多模光纖群;
在所述第一波長和所述任意波長處,針對所述多模光纖群中的每一個多模光纖執(zhí)行DMD測量;
在所述第一波長和所述任意波長處,從所述多模光纖群中的每一個多模光纖提取通過所述DMD測量得到的所述波形的至少一個信號特征,所述信號特征為分別在所述第一波長和所述任意波長處的通過所述DMD測量得到的所述波形的波形質(zhì)心、波形平均功率、波形峰值功率值和位置以及均方根(RMS)寬度中的至少一個;以及
將所述第一波長和所述任意波長的所述DMD測量相對于所述至少一個信號特征進(jìn)行映射,以確定所述映射模型的系數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,所述方法用于減少被設(shè)計為在多于一個波長處操作的光纖的測試時間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,所述方法基于僅在一個波長處的測量來評估多個波長處的多模光纖MMF的模態(tài)色散性質(zhì)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,所述方法用于在設(shè)計為在多于一個波長處操作的光纖的減少的測試時間的情況下,預(yù)測多于一個波長處的差分模式延遲、最小有效模態(tài)帶寬。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,所述方法用于選擇在期望的光譜范圍中產(chǎn)生模態(tài)-色散補(bǔ)償?shù)腗MF。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,所述方法用于選擇在期望的光譜范圍840nm-980nm中具有期望的模態(tài)帶寬的MMF。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,所述方法用于對生產(chǎn)進(jìn)行分類以選擇能夠在期望的光譜范圍840nm至1000nm中操作的標(biāo)準(zhǔn)兼容寬帶光纖,而無需測量所有指定的波長處的所述模態(tài)帶寬。
8.一種通過識別在兩個波長處與有效模態(tài)帶寬EMB相關(guān)的特征和徑向偏移區(qū)域來實(shí)現(xiàn)多模光纖的機(jī)器學(xué)習(xí)的方法,包括:
在兩個波長λM和λS中的每一個處,針對所述多模光纖群中的每一個多模光纖執(zhí)行DMD測量;
提取在兩個波長λM和λS中的每個波長處與所述有效模態(tài)帶寬相關(guān)的特征,所述特征為所述兩個波長λM和λS處的通過所述DMD測量得到的波形的波形質(zhì)心、波形峰值功率、波形脈沖寬度和波形偏斜中的至少一個;以及
使用所提取的特征來訓(xùn)練映射模型,直到最大化一個度量或一系列度為止或者直到生成詳盡的搜索為止,其中,所述一個度量或一系列度量表示第一組光纖和第二組光纖的特征差異,所述第一組光纖由在任意波長λS處具有EMB帶寬閾值EMBth的多模光纖MMF組成,并且所述第二組光纖由在所述任意波長λS處具有EMBEMBth的多模光纖MMF組成,其中,所述映射模型通過以下來訓(xùn)練:將波長λM和波長λS的所述DMD測量相對于所述至少一個特征進(jìn)行映射,以確定所述映射模型的系數(shù)。
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