[發明專利]13族元素氮化物層、復合基板以及功能元件

在審

• 申請號: 201780062316.5
• 申請日: 2017-09-29
• 公開（公告）號: CN109863262A
• 公開（公告）日: 2019-06-07
• 發明（設計）人: 磯田佳范;野口卓;內川哲哉;平尾崇行;下平孝直;今井克宏
• 申請（專利權）人: 日本礙子株式會社
• 主分類號: C30B29/38
• 分類號: C30B29/38;H01L21/205
• 代理公司: 北京旭知行專利代理事務所(普通合伙) 11432
• 代理人: 王軼;鄭雪娜

1.一種13族元素氮化物層，其具有第一主面及第二主面，

所述13族元素氮化物層的特征在于，具備:

第一空隙缺乏層，該第一空隙缺乏層設置于所述第一主面側；

第二空隙缺乏層，該第二空隙缺乏層設置于所述第二主面側；以及

空隙分布層，該空隙分布層設置于所述第一空隙缺乏層與所述第二空隙缺乏層之間。

2.根據權利要求1所述的13族元素氮化物層，其特征在于，

所述13族元素氮化物為氮化鎵、氮化鋁或氮化鋁鎵。

3.根據權利要求1或2所述的13族元素氮化物層，其特征在于，

所述第一空隙缺乏層的厚度為30～100μm。

4.根據權利要求1～3中的任意一項所述的13族元素氮化物層，其特征在于，

所述第一空隙缺乏層及所述第二空隙缺乏層的每100μm長度的空隙數為1個以下，所述空隙分布層的每100μm長度的空隙數為3～10個。

5.一種復合基板，其特征在于，具備：

晶種基板；以及

權利要求1～4中的任意一項所述的13族元素氮化物層，該13族元素氮化物層設置于所述晶種基板的表面。

6.根據權利要求5所述的復合基板，其特征在于，

所述晶種基板具備：單晶基板及設置在該單晶基板上的晶種膜，所述晶種膜與所述第一主面相接觸。

7.一種功能元件，其特征在于，具備:

權利要求1～4中的任意一項所述的13族元素氮化物層；以及

功能層，該功能層設置在所述第二主面上。

8.根據權利要求7所述的功能元件，其特征在于，

所述功能層具有發光功能。

9.根據權利要求7或8所述的功能元件，其特征在于，

所述功能元件還具備晶種基板，在所述晶種基板上設置有所述13族元素氮化物層。

10.根據權利要求9所述的功能元件，其特征在于，

所述晶種基板具備：單晶基板、以及設置在該單晶基板上的晶種膜，所述晶種膜與所述第一主面相接觸。