[發(fā)明專利]具有減小的熱形變的半導(dǎo)體光刻的投射曝光設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201780062003.X
• 申請(qǐng)日: 2017-09-13
• 公開（公告）號(hào): CN109791372B
• 公開（公告）日: 2021-09-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: H.比格
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 卡爾蔡司SMT有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;G02B7/18
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 王蕊瑞

1.一種半導(dǎo)體光刻的投射曝光設(shè)備(1)，包含具有至少一個(gè)光學(xué)活動(dòng)表面(25)的至少一個(gè)反射鏡布置，所述至少一個(gè)光學(xué)活動(dòng)表面(25)布置在反射鏡載體(23、53)的頂表面(24、54)上，并且所述至少一個(gè)反射鏡布置具有在所述反射鏡載體(23、53)中集成的冷卻系統(tǒng)(30、60)，其中冷卻流體循環(huán)穿過冷卻線(31、61)，所述冷卻流體用于將經(jīng)由所述光學(xué)活動(dòng)表面(25)引入到所述反射鏡載體(23、53)中的熱負(fù)載至少部分地消散到所述反射鏡載體(23、53)的遠(yuǎn)離所述頂表面(24、54)的后面區(qū)域(26)中，其中所述冷卻系統(tǒng)(30、60)包括：

入口區(qū)域(32、62)，其鄰接所述反射鏡載體(23、53)的頂表面(24、54)、具有冷卻流體饋送線(35、65)，

出口區(qū)域(33、63)，其布置在與所述反射鏡載體(23、53)的頂表面(24、54)相距一距離處、具有冷卻流體排出線(36、66)，

以及一個(gè)或多個(gè)連接線(34、64)，其將所述入口區(qū)域(32、62)連接到所述出口區(qū)域(33、63)，

其中所述連接線(34、64)設(shè)計(jì)為使得它們對(duì)在所述入口區(qū)域(32、62)和所述出口區(qū)域(33、63)之間的冷卻劑的流動(dòng)施加節(jié)流的作用，以及

所述連接線(34、64)具有比所述入口區(qū)域(32、62)的流動(dòng)橫截面(37、67)更小的流動(dòng)橫截面(38、68)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投射曝光設(shè)備(1)，

其特征在于，

所述連接線(34、34’、34”)具有不同流動(dòng)橫截面(38、38”)，其中所述連接線(34’)中靠近于冷卻液體饋送線(35)的至少一些與遠(yuǎn)離所述冷卻液體饋送線(35)的那些連接線相比具有更小的流動(dòng)橫截面(38’)。

3.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的投射曝光設(shè)備(1)，

其特征在于，

所述入口區(qū)域(32、62)實(shí)質(zhì)上覆蓋所述反射鏡載體(23、53)的整個(gè)光學(xué)活動(dòng)表面(25)或頂表面(24、54)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的投射曝光設(shè)備(1)，

其特征在于，

水或酒精用作所述冷卻流體。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的投射曝光設(shè)備(1)，

其特征在于，

乙二醇用作所述冷卻流體。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的投射曝光設(shè)備(1)，

其特征在于，

所述反射鏡載體(23)配備有在遠(yuǎn)離所述頂表面(24)的背面(27)的區(qū)域中的加熱裝置(42、42’、42”)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的投射曝光設(shè)備(1)，

其特征在于，

所述冷卻系統(tǒng)(30)的出口區(qū)域(33)配備有熱交換器(43)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的投射曝光設(shè)備(1)，

其特征在于，

所述反射鏡布置是掠入射或垂直入射反射鏡。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的投射曝光設(shè)備(1)，

其特征在于，

所述反射鏡布置是分面反射鏡(16、17)。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的投射曝光設(shè)備(1)，

其特征在于，

所述光學(xué)活動(dòng)表面(25)布置在反射鏡元件(55)上，所述反射鏡元件(55)至少部分地接合在所述反射鏡載體(53)的插入開口(28)中。

11.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的投射曝光設(shè)備(1)，

其特征在于，

所述反射鏡布置具有微反射鏡陣列。

12.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的投射曝光設(shè)備(1)，

其特征在于，

所述反射鏡載體(23、53)至少部分地由不銹鋼、鋁、SiSiC、硅、Zerodur或ULE構(gòu)成。