[發明專利]用于敷設碳層的設備和方法

有效

• 申請號: 201780061468.3
• 申請日: 2017-10-04
• 公開（公告）號: CN109804110B
• 公開（公告）日: 2021-03-30
• 發明（設計）人: 多麗絲.斯坦米勒-內思爾;德特萊福.斯坦米勒
• 申請（專利權）人: 碳能力有限責任公司
• 主分類號: C30B25/10
• 分類號: C30B25/10;C23C16/27;C30B25/14;C30B25/16;C30B29/04;C23C16/455
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 任麗榮

1.一種用于通過化學氣相沉積法將碳層敷設在基材(2、2a)上的設備(1)，所述設備帶有沉積室(3)，以氫形式的工藝氣體能夠被供應到所述沉積室中，其特征在于，設有呈中空體形式的氣體導入和氣體活化元件(7)，所述氣體導入和氣體活化元件(7)具有用于所述工藝氣體的流動通道(7b)、圍繞所述流動通道(7b)的壁件(7a)和從流動通道(7b)通入沉積室(3)中的排放口(16)，并且所述設備(1)設有用于加熱氣體導入和氣體活化元件(7)的壁件(7a)的加熱設備(8)，其中，加熱設備(8)被設計成，將氣體導入和氣體活化元件(7)的壁件(7a)加熱至2000℃以上的溫度并且通過碰撞激發和熱激發對在氣體導入和氣體活化元件(7)的流動通道(7b)中流動的工藝氣體進行激發，其中，在氣體導入和氣體活化元件(7)的端部上安置了封閉體(18)以封閉流動通道(7b)，其中，設有另外的氣體導入元件(10)，用于將另外的工藝氣體即另外的含碳工藝氣體引入沉積室(3)中，其中，所述另外的氣體導入元件(10)布置為，使得由其引入的另外的含碳工藝氣體在空間上獨立地流入到沉積室(3)中并且流動經過氣體導入和氣體活化元件(7)。

2.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述碳層是金剛石層。

3.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述含碳氣體是甲烷。

4.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述另外的含碳工藝氣體是甲烷。

5.根據權利要求1所述的設備(1)，其特征在于，加熱設備(8)具有與氣體導入和氣體活化元件(7)的壁件(7a)相連的、用于對氣體導入和氣體活化元件(7)進行電阻加熱的電流供應部(8a)。

6.根據權利要求1所述的設備(1)，其特征在于，氣體導入和氣體活化元件(7)基本上水平地布置在沉積室(3)中。

7.根據權利要求1所述的設備(1)，其特征在于，將至少一個排放口(16)布置在氣體導入和氣體活化元件(7)的面向基材(2、2a)的底側上。

8.根據權利要求1所述的設備(1)，其特征在于，氣體導入和氣體活化元件(7)具有多個排放口(16)。

9.根據權利要求1所述的設備(1)，其特征在于，氣體導入和氣體活化元件(7)在橫截面中是基本上圓形或矩形的。

10.根據權利要求1所述的設備(1)，其特征在于，設有多個氣體導入和氣體活化元件(7)，所述氣體導入和氣體活化元件能夠借助加熱設備(8)被加熱。

11.根據權利要求1所述的設備(1)，其特征在于，氣體導入和氣體活化元件(7)的壁件(7a)由金屬或陶瓷材料或石墨或熱解碳或上述材料的復合材料或由纖維增強碳制成。

12.根據權利要求11所述的設備(1)，其特征在于，所述金屬是鉭、鉬、鎢或錸。

13.根據權利要求11所述的設備(1)，其特征在于，氣體導入和氣體活化元件(7)的壁件(7a)具有由熱解碳制成的覆層。