[發明專利]藍寶石薄膜涂布基材有效
| 申請號： | 201780061301.7 | 申請日： | 2017-09-27 |
| 公開（公告）號： | CN109790627B | 公開（公告）日： | 2022-03-15 |
| 發明（設計）人： | 謝國偉;林永銳;陳余偉 | 申請（專利權）人： | 浸大科研發展有限公司 |
| 主分類號： | C23C28/04 | 分類號： | C23C28/04;G02B1/115;G02B1/14;C23C14/08 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人： | 曹立莉 |
| 地址： | 中國香港九龍九龍塘聯福道三*** | 國省代碼： | 香港;81 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 藍寶石 薄膜 基材 | ||
1.一種在一基材上包括一分層結構的抗反射涂層，其特征在于，所述分層結構包括：
一最頂抗反射材料層，包括在一或多個中間抗反射材料層的頂部的藍寶石或Al2O3，所述一或多個中間抗反射材料層的匹配折射率高于所述最頂抗反射材料層的折射率；
所述一或多個中間抗反射材料層，其中，直接位在所述最頂抗反射材料層的下方的所述中間抗反射材料層是一第二抗反射材料層且其匹配折射率高于所述最頂抗反射材料層的折射率；及
一最底抗反射材料層，位在所述一或多個中間抗反射材料層的下方，其中，所述最底抗反射材料層沉積在所述基材的頂部；
其中，所述最頂抗反射材料層、所述一或多個中間抗反射材料層與所述最底抗反射材料層的折射率相對于彼此是交替地較高與較低，
其中，所述第二抗反射材料層在可見光區間的折射率為≥1.75，并且其中，所述第二抗反射材料層包括YAG、AlAs、ZnSiAs2、AgBr、TlBr、C、B4C、SiC、AgCl、TlCl、BGO、PGO、CsI、KI、LiI、NaI、RbI、CaMoO4、PbMoO4、SrMoO4、AlN、GaN、Si3N4、LiNbO3、Nb2O5、Sc2O3、ZnO、GaP、KTaO3與BaTiO3的其中之一或更多。
2.如權利要求1所述的抗反射涂層，其特征在于，所述第二抗反射材料層還包括TiO2。
3.如權利要求1所述的抗反射涂層，其特征在于，所述第二抗反射材料層還包括ZrO2。
4.如權利要求1所述的抗反射涂層，其特征在于，所述基材包括玻璃、藍寶石、石英、熔硅石、塑料與PMMA的其中之一或更多。
5.如權利要求1所述的抗反射涂層，其特征在于，
沉積于所述基材的頂部的所述分層結構的所述最底抗反射材料層是Al2O3；以及
所述基材不是藍寶石或Al2O3。
6.如權利要求5所述的抗反射涂層，其特征在于，所述分層結構包括三層抗反射材料。
7.如權利要求6所述的抗反射涂層，其特征在于，所述第二抗反射材料層還包括TiO2。
8.如權利要求1所述的抗反射涂層，其特征在于，
沉積于所述基材的頂部的所述最底抗反射材料層不是Al2O3；以及
所述基材是藍寶石或Al2O3。
9.如權利要求8所述的抗反射涂層，其特征在于，所述分層結構包括三層抗反射材料。
10.如權利要求9所述的抗反射涂層，其特征在于，所述第二抗反射材料層還包括TiO2。
11.如權利要求9所述的抗反射涂層，其特征在于，沉積于所述基材的頂部的所述最底抗反射材料層包括MgF2或SiO2。
12.如權利要求1所述的抗反射涂層，其特征在于，每一所述抗反射材料層的厚度至少有10nm。
13.如權利要求1所述的抗反射涂層，其特征在于，每一所述抗反射材料層的厚度不超過800nm。
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