[發(fā)明專利]具有動態(tài)射束尺寸限制的成像系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780060805.7 | 申請日： | 2017-09-29 |
| 公開（公告）號： | CN109922734B | 公開（公告）日： | 2023-01-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | J·C·揚(yáng)斯;R·范隆;N·梅托爾斯特;P·沃爾科特 | 申請（專利權(quán)）人： | 皇家飛利浦有限公司 |
| 主分類號： | A61B6/06 | 分類號： | A61B6/06;A61B6/00 |
| 代理公司： | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人： | 孟杰雄;王英 |
| 地址： | 荷蘭艾*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 具有 動態(tài) 尺寸 限制 成像 系統(tǒng) | ||
1.一種X射線成像系統(tǒng)(10)，包括：
-X射線射束源(20)；
-探測器單元(30)；
-射束限制單元(40)；以及
-控制單元(50)；
其中，所述射束源(20)被配置為生成射束(22)并將所述射束投射到所述探測器單元(30)上，使得輻照場(32)被投射到所述探測器單元上；
其中，所述射束限制單元(40)被配置為限制所述輻照場(32)；
其中，所述探測器單元(30)被配置為提供因所述射束(22)被投射到所述探測器單元上而產(chǎn)生的圖像數(shù)據(jù)；
其中，所述控制單元(50)被配置為通過選擇所述探測器單元的預(yù)定圖像場(34)來提供圖像數(shù)據(jù)，以便生成被布置在所述射束源與所述探測器單元之間的對象(60)的期望區(qū)域的圖像；
其中，所述控制單元(50)被配置為：基于所述成像系統(tǒng)的取向來確定針對所述圖像場(34)相對于所述輻照場的位置和/或取向的校正因子，并且將所述校正因子應(yīng)用于所述圖像場(34)相對于所述輻照場(32)的所述位置和/或所述取向，使得所述圖像場(34)相對于所述輻照場(32)被重新定位和/或定向；并且
其中，所述控制單元被配置為控制所述射束限制單元，以便基于所述成像系統(tǒng)的所述取向來減小被投射到所述探測器 單元的所述射束的橫截面積。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線成像系統(tǒng)，
其中，所述控制單元被配置為確定所述成像系統(tǒng)的傾斜角(14)，并且其中，所述傾斜角對應(yīng)于所述成像系統(tǒng)的所述取向。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的X射線成像系統(tǒng)，
其中，所述成像系統(tǒng)包括存儲器單元(54)；并且
其中，所述控制單元(50)被配置為基于所述成像系統(tǒng)的所述取向從所述存儲器單元請求所述校正因子。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的X射線成像系統(tǒng)，
其中，所述存儲器單元(54)被配置為存儲多個校正因子，所述多個校正因子中的每個校正因子被分配給所述成像系統(tǒng)的給定取向。
5.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項所述的X射線成像系統(tǒng)，
其中，每個校正因子包含指示側(cè)向方向(36)上的校正的側(cè)向分量以及指示橫向方向(38)上的校正的橫向分量。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項所述的X射線成像系統(tǒng)，
其中，所述控制單元(50)被配置為在所述輻照場(32)內(nèi)重新定位所述圖像場(34)，使得所述圖像場與所述輻照場的側(cè)邊(32C、32D)基本等距地間隔開。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項所述的X射線成像系統(tǒng)，
其中，所述控制單元(50)被配置為在所述輻照場(32)內(nèi)重新定位所述圖像場(34)，使得所述圖像場與所述輻照場的橫邊(32A、32B)基本等距地間隔開。
8.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項所述的X射線成像系統(tǒng)，
其中，所述控制單元被配置為在重新定位所述圖像場之后擴(kuò)大所述輻照場內(nèi)的所述圖像場。
9.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項所述的X射線成像系統(tǒng)，
其中，所述射束限制單元是準(zhǔn)直器，所述準(zhǔn)直器具有可調(diào)節(jié)開口(42)，所述可調(diào)節(jié)開口被布置為使得所述開口限制所述輻照場。
10.一種用于操作X射線成像系統(tǒng)的方法，包括以下步驟：
a)確定(110)所述成像系統(tǒng)的取向；
b)基于所述成像系統(tǒng)的所述取向來確定(120)要被應(yīng)用于圖像場的相對于輻照場的校正因子；
c)將所述校正因子應(yīng)用(130)于所述圖像場并對所述圖像場相對于所述輻照場的所述取向進(jìn)行重新定位和/或調(diào)整；
d)基于所述成像系統(tǒng)的所述取向來減小所述輻照場的橫截面積；并且
e)捕獲(140)所述圖像場的圖像。
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