[發明專利]用于檢查設備的照射源、檢查設備和檢查方法

有效

• 申請號: 201780056418.6
• 申請日: 2017-08-02
• 公開（公告）號: CN109716110B
• 公開（公告）日: 2022-01-18
• 發明（設計）人: P·D·范福爾斯特;林楠;S·B·魯博爾;S·G·J·馬斯杰森;S·T·范德波斯特
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G01N21/95
• 分類號: G01N21/95;G03F7/20
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 王茂華;張寧

1.一種用于測量襯底上的目標結構的檢查設備，包括：

照射源，用于產生測量輻射；

光學裝置，用于將所述測量輻射聚焦至所述目標結構上，所述光學裝置包括至少一個光學元件，所述至少一個光學元件被設置為接收掠入射的所述測量輻射；以及

補償光學裝置，可操作為空間調制所述測量輻射的波前，以便于補償所述光學裝置中的非均勻制造缺陷。

2.根據權利要求1所述的檢查設備，其中，所述光學裝置中的所述非均勻制造缺陷包括：所述光學裝置的所述至少一個光學元件中的至少一個光學元件的傾斜誤差。

3.根據權利要求1或2所述的檢查設備，其中，所述補償光學裝置包括空間光調制裝置。

4.根據權利要求3所述的檢查設備，其中，所述空間光調制裝置包括可形變鏡面、數字微鏡面裝置、或微機電系統中的一個。

5.根據權利要求1或2所述的檢查設備，包括在所述襯底位置處的測量裝置，所述測量裝置可操作為測量由所述測量輻射的聚焦導致的測量光斑的尺寸。

6.根據權利要求5所述的檢查設備，可操作為執行初始校準步驟以配置所述補償光學裝置，以便于最小化所述測量光斑的所述尺寸。

7.根據權利要求1或2所述的檢查設備，其中，所述測量輻射包括軟X射線或極紫外EUV輻射。

8.根據權利要求1或2所述的檢查設備，其中，所述補償光學裝置位于所述測量輻射的光束中，以便于直接地空間調制所述測量輻射的所述光束的所述波前。

9.根據權利要求8所述的檢查設備，其中，所述補償光學裝置位于所述測量輻射的光束的、在所述照射源和所述襯底之間的平行傳播部分中。

10.根據權利要求9所述的檢查設備，其中，所述補償光學裝置位于所述檢查設備的光瞳面中。

11.根據權利要求8所述的檢查設備，其中所述補償光學裝置包括涂層，所述涂層被優化用于反射軟X射線和/或極紫外EUV輻射。

12.根據權利要求1或2所述的檢查設備，其中：

所述照射源是高階諧波產生源，所述高階諧波產生源包括高階諧波產生介質以及泵浦輻射源，所述泵浦輻射源發出用于激勵所述高階諧波產生介質的泵浦輻射；以及

所述補償光學裝置可操作為在所述泵浦輻射激勵所述高階諧波產生介質之前空間調制所述泵浦輻射的所述波前，從而所述泵浦輻射的所述波前的所述空間調制引起所述測量輻射的所述波前的所述空間調制。

13.根據權利要求12所述的檢查設備，其中所述補償光學裝置位于所述泵浦輻射源和高階諧波產生介質之間的光學路徑中。

14.根據權利要求12所述的檢查設備，其中所述泵浦輻射包括紅外輻射。

15.一種用于產生高階諧波輻射的照射源，包括：

高階諧波產生介質；

泵浦輻射源，其發出泵浦輻射的光束，所述泵浦輻射的光束用于激勵所述高階諧波產生介質以產生所述高階諧波輻射；以及

補償光學裝置，可操作為在所述泵浦輻射的所述光束激勵所述高階諧波產生介質之前空間調制所述泵浦輻射的所述光束的波前。

16.根據權利要求15所述的照射源，其中所述補償光學裝置位于所述泵浦輻射源和高階諧波產生介質之間的光學路徑中。

17.根據權利要求15或16所述的照射源，其中所述補償光學裝置包括空間光調制裝置。