[發明專利]用于導出校正的方法和設備、用于確定結構性質的方法和設備、器件制造方法

有效

• 申請號: 201780055481.8
• 申請日: 2017-08-21
• 公開（公告）號: CN109690410B
• 公開（公告）日: 2021-08-17
• 發明（設計）人: N·庫馬爾;A·J·H·薛樂肯;S·T·范德波斯特;F·茲杰普;W·M·J·M·科內;P·D·范福爾斯特;D·阿克布魯特;S·羅伊
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 王茂華;董典紅

1.一種導出用于光學系統的校正的方法，所述光學系統可操作用于將照射輻射傳送到目標結構并收集在與所述目標結構的相互作用之后的輻射，所述方法包括：

獲得第一強度輪廓，所述第一強度輪廓表示在根據第一照射輪廓照射所述光學系統的光瞳時由所述光學系統收集的輻射；

獲得第二強度輪廓，所述第二強度輪廓表示在根據不同于所述第一照射輪廓的第二照射輪廓照射所述光學系統的所述光瞳時由所述光學系統收集的輻射；以及

使用所述第一強度輪廓和所述第二強度輪廓來導出校正，與和目標結構的相互作用相反，所述校正用于減輕所述照射輻射與所述光學系統的相互作用的影響，

其中在所述第一照射輪廓和所述第二照射輪廓的每一個輪廓中，小于或等于所述光瞳的大約一半的所述光瞳的一部分被照射，而所述光瞳的剩余部分基本上是暗的，被照射的部分和暗的部分在所述第一照射輪廓和所述第二照射輪廓之間是不同的。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，使用所述第一強度輪廓和所述第二強度輪廓來導出所述校正是使用所述第一強度輪廓和所述第二強度輪廓的不同部分來合成表示所述照射輻射與所述光學系統的相互作用的影響的強度輪廓。

3.根據權利要求1所述的方法，其中，所述第一強度輪廓和所述第二強度輪廓中的每一個輪廓表示所述光學系統的后焦平面中的輻射的輪廓，并且其中使用所述第一強度輪廓和所述第二強度輪廓來導出所述校正是使用與所述后焦平面的不同區域相對應的所述第一強度輪廓和所述第二強度輪廓的部分。

4.根據權利要求1所述的方法，其中，獲得另一強度輪廓，所述另一強度輪廓表示在根據不同于所述第一照射輪廓和所述第二照射輪廓的另一照射輪廓照射所述光學系統的所述光瞳時由所述光學系統收集的輻射，所述使用所述第一照射輪廓和所述第二照射輪廓來導出所述校正是使用所述第一強度輪廓、所述第二強度輪廓和所述另一強度輪廓來導出所述校正。

5.根據權利要求1所述的方法，其中，所述光學系統包括固體浸沒透鏡和安裝件，所述安裝件可操作用于將所述固體浸沒透鏡保持在距所述目標結構一定距離內，所述距離小于所述照射輻射的波長。

6.根據權利要求5所述的方法，其中，所述第一照射輪廓和所述第二照射輪廓表示在所述距離內沒有目標結構的情況下收集的輻射。

7.根據權利要求1所述的方法，還包括：

獲得第三強度輪廓，所述第三強度輪廓表示在與所述光學系統和參考結構相互作用之后由所述光學系統收集的輻射；以及

使用所述第三強度輪廓來導出進一步的校正。

8.根據權利要求7所述的方法，進一步地，其中，所述光學系統包括固體浸沒透鏡和安裝件，所述安裝件可操作用于將所述固體浸沒透鏡保持在距所述目標結構一定距離內，所述距離小于所述照射輻射的波長，并且還包括獲得第四強度輪廓，所述第四強度輪廓表示在不存在SIL的情況下與所述光學系統和所述參考結構的相互作用之后由所述光學系統收集的輻射，并且使用所述第三強度輪廓和所述第四強度輪廓二者來導出所述進一步的校正。

9.根據權利要求7所述的方法，還包括：獲得參考強度輪廓，所述參考強度輪廓表示所述照射輻射在與所述光學系統和目標結構的相互作用之前的特性，其中使用所述第三強度輪廓來導出進一步的校正是使用所述參考強度輪廓來導出所述進一步的校正。