[發明專利]烤箱有效
| 申請號: | 201780055441.3 | 申請日: | 2017-09-06 |
| 公開(公告)號: | CN109690194B | 公開(公告)日: | 2020-12-01 |
| 發明(設計)人: | 金敬穆;權明根;吳有姃;全寅基;成翰俊;林正洙 | 申請(專利權)人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | F23C13/00 | 分類號: | F23C13/00 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286 | 代理人: | 王春芝;金光軍 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 烤箱 | ||
一種烤箱包括碰撞區,在碰撞區內部循環的空氣在所述碰撞區中被碰撞以減少烹飪室內部的污染。碰撞區可集中地收集通過空氣的碰撞而凝結的油霧。碰撞區設置在空氣流改變的一側上,以誘導空氣碰撞并將空氣引導到烹飪室的前側,以增加空氣循環并增加烹飪室內部的清潔容易性。
技術領域
以下描述涉及一種烤箱,更具體地,涉及一種用于減少烤箱的烹飪室內部的污染的結構。
背景技術
通常,烤箱是包括烹飪室、給烹飪室供熱的加熱器以及使由加熱器產生的熱在烹飪室中循環以烹飪食物的循環風扇的裝置。
烤箱是用于加熱原料以烹飪的烹飪器具,并且根據其熱源通常分為電動型,氣體型和電子型。電烤箱使用電加熱器作為加熱源,氣體烤箱和微波烤箱分別使用利用氣體的熱和通過高頻波而引起的水分子的摩擦熱作為熱源。
發明內容
技術問題
當食物被加熱時,燃燒氧化物、油霧等隨著食物的表面上的水蒸汽產生。在正常烹飪溫度(150℃至250℃)下產生的燃燒氧化物、油霧等被排出到外部,但一部分油霧等留在烹飪室的內壁上,這是在長期使用中造成內壁的污染和氣味的主要原因。此時,油霧等分布在烹飪室的整個內壁上,這對于用戶清潔來說是麻煩的。
技術方案
本公開的一方面提供了一種烤箱,其中用戶可通過使油霧的分布密集地分布在烹飪室的內壁上來容易地清潔烹飪室的內部。
本公開的一方面提供了一種烤箱,其能夠容易地燃燒密集分布的油霧,以提高烤箱的可清潔性。
根據本公開的一方面,一種烤箱包括:殼體;烹飪室,設置在所述殼體內部;風扇,設置在所述烹飪室的一側處以使所述烹飪室內部的空氣循環;碰撞區,設置在所述烹飪室的一側處,以使通過所述風扇循環的空氣的至少一部分被碰撞;以及蓋構件,設置在所述烹飪室的所述一側處以覆蓋所述風扇并將空氣引導至所述碰撞區。
所述烤箱還包括形成在所述蓋構件和所述烹飪室的所述一側之間的空氣流動路徑,其中,所述碰撞區設置在所述空氣流動路徑上。
所述蓋構件包括出口,通過所述風扇循環的空氣通過所述出口被排出,所述空氣流動路徑包括設置在所述風扇和所述碰撞區之間的第一流動路徑和設置在所述碰撞區和所述出口之間的第二流動路徑,所述第二流動路徑延伸為相對于所述第一流動路徑具有80度或更大的角。
所述烤箱還包括加熱器,所述加熱器設置在連接到所述烹飪室的所述一側的所述烹飪室的另一側上,用于加熱所述烹飪室,所述蓋構件從所述烹飪室的所述一側延伸至所述烹飪室的所述另一側,所述出口設置在與所述加熱器相對應的蓋構件側上。
所述碰撞區設置在所述烹飪室的所述一側與所述烹飪室的所述另一側連接的拐角上。
所述碰撞區包括催化劑涂層部分,所述催化劑涂層部分設置在所述碰撞區的表面上,以當由于循環的空氣與所述碰撞區的碰撞而在所述碰撞區上捕獲的油霧燃燒時用作催化劑。
所述碰撞區包括表面加熱涂層部分,所述表面加熱涂層部分設置在所述碰撞區的表面上,以對由于循環的空氣與所述碰撞區的碰撞而在所述碰撞區上收集的油霧進行加熱。
所述碰撞區包括輔助加熱器,所述輔助加熱器鄰近于所述碰撞區設置,以對由于循環的空氣與所述碰撞區的碰撞而在所述碰撞區上捕獲的油霧進行加熱。
所述加熱器包括熱線和設置在所述熱線上的多個翅片。
所述加熱器包括熱線和用于覆蓋所述熱線的網構件。
所述烤箱還包括風扇側加熱器,所述風扇側加熱器在所述風扇的外圓周側圍繞所述風扇。
所述蓋構件還包括入口和設置在所述入口上的過濾器,空氣通過所述入口被引入到所述蓋構件。
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