[發(fā)明專利]數(shù)字光路長度調(diào)制系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201780055200.9
• 申請(qǐng)日: 2017-08-11
• 公開（公告）號(hào): CN109997357B
• 公開（公告）日: 2021-12-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: A·M·伊什;A·T·伊萬斯;A·J·格羅斯;D·S·德瓦爾德;E·H·奧康納;W·C·韋爾奇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 阿維甘特公司;A·M·伊什;A·T·伊萬斯;A·J·格羅斯;D·S·德瓦爾德
• 主分類號(hào): H04N9/31
• 分類號(hào): H04N9/31
• 代理公司: 北京紀(jì)凱知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11245
• 代理人: 趙志剛;趙蓉民

1.一種調(diào)節(jié)光路長度的系統(tǒng)，包括數(shù)字光路長度調(diào)制器，所述數(shù)字光路長度調(diào)制器包括：

偏振調(diào)制器，用于接收偏振光并調(diào)制一些或全部所述偏振光的偏振；

光路長度擴(kuò)展器OPLE，具有入射表面和出射表面，以引導(dǎo)進(jìn)入所述OPLE的具有第一偏振的光通過所述入射表面，并沿著第一光路通過所述OPLE，以通過所述出射表面射出，且引導(dǎo)進(jìn)入所述OPLE的具有第二偏振的光通過所述入射表面，并沿第二光路通過所述OPLE，以通過所述出射表面射出，通過所述OPLE的所述第二光路的光路長度是通過所述OPLE的所述第一光路長度的兩倍或更多倍；

所述OPLE包括偏振敏感反射元件，其反射具有所述第二偏振的光；以及

所述OPLE的表面上的遮光線，其沿著在所述OPLE的所述表面上由所述偏振敏感反射元件形成的線，所述遮光線用以阻擋所述光。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其還包括：

所述OPLE在所述入射表面和所述出射表面之間具有邊緣；以及

所述OPLE的所述邊緣上的邊緣遮光體，以防止影響所述OPLE的所述邊緣的光射出或被反射。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述遮光線位于以下中的一個(gè)或多個(gè)上：所述OPLE的入射表面，所述OPLE的出射表面上，以及配對(duì)的OPLE的中間中。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述遮光線由以下中的一個(gè)制成：金屬、薄膜黑碳和偏振器材料。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其還包括：

第二偏振調(diào)制器。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的系統(tǒng)，其中所述第二偏振調(diào)制器位于所述OPLE的出射表面上，并且所述偏振調(diào)制器和所述第二偏振調(diào)制器各自選擇性地旋轉(zhuǎn)所述光。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其還包括：

在所述第二偏振調(diào)制器之后的偏振濾光器，以去除具有特定偏振的光。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其還包括：

包括第一板和第二板的所述OPLE；以及

雙折射波片，其在所述OPLE的所述第一板和所述OPLE的所述第二板之間。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其中所述波片被調(diào)諧到特定頻率。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其還包括：

第二波片，其被調(diào)諧到與所述雙折射波片的所述特定頻率不同的頻率，其中所述第二波片的位置選自：偏振調(diào)制器之前或所述偏振調(diào)制器之后。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述OPLE是圓形OPLE，其包括多個(gè)同心偏振敏感反射元件。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其中所述圓形OPLE包括從多個(gè)堆疊的錐體切割的圓錐形部分，所述多個(gè)堆疊的錐體中的每一個(gè)具有覆蓋有偏振敏感反射材料的外部，以形成所述同心偏振敏感反射元件。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述OPLE還包括：

多個(gè)成角度的偏振敏感反射元件，其在所述OPLE的所述入射表面上反射具有第二偏振形成線的所述光，所述線形成多個(gè)矩形區(qū)域；

覆蓋交替的矩形區(qū)域的條紋，使得具有所述第一偏振的圖像元素是位移的具有所述第二偏振的圖像元素。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述系統(tǒng)用于在多個(gè)深度處投射圖案，用于在多個(gè)層處進(jìn)行光學(xué)曝光，以用于以下一個(gè)或多個(gè)：蝕刻和打印。

15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述系統(tǒng)用于在兩個(gè)焦平面投射光，所述光用作光學(xué)鑷子。