[發明專利]定位系統和光刻設備

有效

• 申請號: 201780055152.3
• 申請日: 2017-08-31
• 公開（公告）號: CN109690407B
• 公開（公告）日: 2021-08-13
• 發明（設計）人: K·F·巴斯特拉安;Y-S·黃;A·F·J·德格羅特;M·金姆;J·A·F·M·西蒙斯;T·A·M·瑞杰爾;R·J·M·拉默斯
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司;ASML控股股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 王茂華

1.一種用于對物體進行定位的定位系統，所述定位系統包括：

工作臺，被配置為保持所述物體，所述工作臺在移動范圍內在第一方向上是可移動的；

平衡質量塊；

位置測量系統，包括多個編碼頭；以及

致動器系統，被配置為在所述第一方向上驅動所述工作臺，同時在與所述第一方向相反的第二方向上驅動所述平衡質量塊，其中當所述致動器系統提供用于驅動所述工作臺的驅動力時，與所述驅動力相對應的反作用力被產生，以用于驅動所述平衡質量塊；

其中，當所述工作臺正在所述第一方向上移動、并且處于所述移動范圍的末端處時，所述定位系統被布置為使所述工作臺正面撞向所述平衡質量塊，

其中所述位置測量系統包括所述多個編碼頭的第一子集，以當所述工作臺處在第一位置時確定所述工作臺的位置，并且其中所述位置測量系統包括所述多個編碼頭的第二子集，以當所述工作臺處在第二位置時確定所述工作臺的所述位置；

其中所述工作臺具有第一表面，當所述工作臺在所述第一方向上移動時所述第一表面形成前表面，所述平衡質量塊具有第二表面，并且所述工作臺被布置為利用所述前表面撞向所述第二表面，并且

其中：

所述前表面具有用于與所述第二表面接觸的接觸區域，

所述工作臺具有第一重心，

當所述接觸區域與所述第二表面接觸時，所述第二表面在所述接觸區域上施加碰撞力，以及

所述第一重心和合成碰撞力平行于所述第一方向對齊。

2.根據權利要求1所述的定位系統，其中所述第二子集具有與所述第一子集不同的至少一個編碼頭。

3.根據權利要求1或2所述的定位系統，其中在從所述第一子集切換到所述第二子集期間，所述位置測量系統使用所述第一子集和所述第二子集兩者來確定所述工作臺的所述位置。

4.根據權利要求1至3中的一項所述的定位系統，其中所述致動器系統包括沿著所述第一方向被布置在所述工作臺或者所述平衡質量塊上的多個線圈。

5.根據前述權利要求中的一項所述的定位系統，其中所述工作臺進一步包括短行程模塊和長行程模塊，所述致動器系統被布置為相對于所述平衡質量塊移動所述長行程模塊，所述長行程模塊被布置為相對于所述長行程模塊移動所述短行程模塊，所述短行程模塊被配置為保持所述物體，并且所述短行程模塊和/或所述長行程模塊包括所述前表面。

6.根據前述權利要求中任一項所述的定位系統，其中所述平衡質量塊具有第二重心，并且其中所述第一重心、所述合成碰撞力和所述第二重心平行于所述第一方向對齊。

7.根據權利要求6所述的定位系統，其中所述質量塊包括多個平衡質量塊部分，并且所述平衡質量塊部分的組合重心形成所述第二重心。

8.根據權利要求6或權利要求7所述的定位系統，其中所述致動器系統被配置為在力心處提供合成驅動力，以用于在所述第一方向上驅動所述工作臺，并且其中所述力心、所述第一重心、所述第二重心和所述合成碰撞力平行于所述第一方向對齊。

9.根據權利要求1至8中任一項所述的定位系統，還包括碰撞緩沖件，其中所述碰撞緩沖件形成所述接觸區域和/或所述第二表面。

10.根據權利要求9所述的定位系統，其中：

所述碰撞緩沖件被布置為當所述工作臺撞向所述平衡質量塊時以最大碰撞減速度使所述工作臺減速，

所述致動器系統被布置為使所述工作臺以最大驅動加速度加速，以及

所述最大碰撞減速度和所述最大驅動加速度彼此基本相等。

11.根據前述權利要求中任一項所述的定位系統，其中所述平衡質量塊圍繞所述工作臺。

12.根據前述權利要求中任一項所述的定位系統，還包括基架，所述基架被配置為支撐所述平衡質量塊，所述平衡質量塊在所述第二方向上相對于所述基架是可移動的。