[發(fā)明專利]感光性樹脂組合物和感光性樹脂層疊體有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780055093.X | 申請日： | 2017-12-05 |
| 公開（公告）號： | CN109690404B | 公開（公告）日： | 2023-04-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 松田隆之;西澤豪;宮崎純 | 申請（專利權(quán)）人： | 旭化成株式會社 |
| 主分類號： | G03F7/09 | 分類號： | G03F7/09;G03F7/004;G03F7/033;G03F7/20;H05K3/00 |
| 代理公司： | 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 劉新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 感光性 樹脂 組合 層疊 | ||
1.一種感光性樹脂層疊體，其具備：支承薄膜、和形成于該支承薄膜上并包含感光性樹脂組合物的感光性樹脂組合物層，其中，在所述支承薄膜的任意10處切出一邊5mm的正方形小片時，各小片中所含的1.5μm以上且小于4.5μm的微粒的數(shù)量以所述10處平均計為1～200個，
含有小于1.5μm的微粒，
所述感光性樹脂組合物以該感光性樹脂組合物的全部固體成分質(zhì)量基準(zhǔn)計，包含以下成分：
(A)堿溶性高分子：10質(zhì)量％～90質(zhì)量％；
(B)具有烯屬不飽和雙鍵的化合物：5質(zhì)量％～70質(zhì)量％；以及
(C)光聚合引發(fā)劑：0.01質(zhì)量％～20質(zhì)量％，
所述(B)具有烯屬不飽和雙鍵的化合物包含分子內(nèi)具有3個以上(甲基)丙烯?；幕衔?，
所述(A)堿溶性高分子的單體成分具有芳香族烴基，
所述具有芳香族烴基的單體成分的含有比例以全部單體成分的總質(zhì)量為基準(zhǔn)為20質(zhì)量％以上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感光性樹脂層疊體，其中，所述5mm見方的支承薄膜的小片中所含的1.5μm以上且小于4.5μm的微粒的數(shù)量以10處平均計為1～100個。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感光性樹脂層疊體，其中，所述5mm見方的支承薄膜的小片中所含的1.5μm以上且小于4.5μm的微粒的數(shù)量以10處平均計為1～50個。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感光性樹脂層疊體，其中，所述5mm見方的支承薄膜的小片中所含的1.5μm以上且小于4.5μm的微粒的數(shù)量以10處平均計為1～20個。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感光性樹脂層疊體，其中，所述5mm見方的支承薄膜的小片中所含的1.5μm以上且小于4.5μm的微粒的數(shù)量以10處平均計為1～10個。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感光性樹脂層疊體，其中，所述(A)堿溶性高分子的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度Tg的重均值Tgtotal為30℃以上且135℃以下。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感光性樹脂層疊體，其中，
以感光性樹脂組合物的全部固體成分質(zhì)量基準(zhǔn)計，還包含以下成分：
(D)酚衍生物：0.001質(zhì)量％～10質(zhì)量％。
8.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項所述的感光性樹脂層疊體，其中，所述感光性樹脂組合物中所含的水分量為0.7％以下。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的感光性樹脂層疊體，其中，所述感光性樹脂組合物中所含的水分量為0.6％以下。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的感光性樹脂層疊體，其中，所述感光性樹脂組合物中所含的水分量為0.5％以下。
11.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項所述的感光性樹脂層疊體，其中，所述支承薄膜與所述感光性樹脂組合物層的層疊體的波長630nm下的透過率為80％以下。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的感光性樹脂層疊體，其中，所述支承薄膜與所述感光性樹脂組合物層的層疊體的波長630nm下的透過率為70％以下。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的感光性樹脂層疊體，其中，所述支承薄膜與所述感光性樹脂組合物層的層疊體的波長630nm下的透過率為60％以下。
14.一種抗蝕圖案的形成方法，其包括以下的工序：
層疊工序，在基板上層疊權(quán)利要求1～13中任一項所述的感光性樹脂層疊體；
曝光工序，對該感光性樹脂層疊體的感光性樹脂層進(jìn)行曝光；和，
顯影工序，將該感光性樹脂層的未曝光部分顯影去除。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的抗蝕圖案的形成方法，其中，通過利用描繪圖案的直描的曝光方法、或?qū)⒐庋谀５膱D像通過透鏡進(jìn)行投影的曝光方法進(jìn)行所述曝光工序。
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