[發明專利]一種粒子療法系統

有效

• 申請號: 201780055007.5
• 申請日: 2017-07-07
• 公開（公告）號: CN109803723B
• 公開（公告）日: 2021-05-14
• 發明（設計）人: J.庫爾利;G.T.茲瓦特;S.J.羅森塔爾;M.R.瓊斯;L.G.布徹;R.塞薩克;J.雅奇諾夫斯基
• 申請（專利權）人: 邁勝醫療設備有限公司
• 主分類號: A61N5/10
• 分類號: A61N5/10
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 賀紫秋

1.一種粒子療法系統，包括：

粒子加速器，用于輸出用于施加到輻照目標的粒子束；

掃描系統，用于將粒子束掃描掃過至少一部分輻照目標；

自適應孔，其在粒子加速器和輻照目標之間，所述自適應孔包括能移入和移出粒子束的路徑的結構；所述自適應孔還包括主托架，其聯接到所述結構，以沿相對于輻照目標的第一維度將所述結構相對于輻照目標移動；所述自適應孔還包括副托架，所述副托架聯接到所述主托架和所述結構，以相對于所述輻照目標沿第二維度移動所述結構；所述副托架包括多個葉片，所述葉片相對于所述粒子束可伸出和可縮回以在掃描期間在處理區域產生修整單個或多個粒子束的斑的形狀；和

控制系統，其包括一個或多個處理設備，被配置為執行操作，所述操作包括：

從治療計劃過程接收基于用于輻照目標的劑量分布的信息；所述信息由通過粒子射束形狀和自適應孔配置的不同組合來獲得與目標劑量匹配的所得劑量的迭代產生；和

基于所述信息配置自適應孔，其中，配置自適應孔包括移動所述結構中的一個結構或主托架中的至少一個；或移動副托架中的至少一個副托架；或伸出和縮回一個或多個葉片。

2.根據權利要求1所述的粒子療法系統，其中，所述信息識別預先修整的斑的特征，所述特征存儲在計算機存儲器中的庫中；和

其中，配置自適應孔包括伸出或縮回所述一個或多個葉片以修整粒子束的斑，使得粒子束的斑逼近預先修整的斑。

3.根據權利要求2所述的粒子療法系統，其中，所述信息指示預先修整的斑將要在哪里形成在輻照目標上；并且

其中，配置自適應孔包括基于預先修整的斑將要在哪里形成在輻照目標上來伸出或縮回所述一個或多個葉片。

4.根據權利要求2所述的粒子療法系統，其中，所述特征包括一個或多個參數，所述一個或多個參數包括與預先修整的斑相關聯的半徑或所述預先修整的斑的旋轉角中的至少一個。

5.如權利要求1所述的粒子療法系統，其中，所述信息識別預先修整的斑的特征；并且

其中，配置自適應孔包括以逐個斑為基礎伸出或縮回所述一個或多個葉片。

6.根據權利要求5所述的粒子療法系統，其中，配置自適應孔包括伸出或縮回所述一個或多個葉片并且移動至少一個副托架和主托架，使得至少兩個相繼的斑具有不同尺寸或不同形狀中的至少一個。

7.根據權利要求1所述的粒子療法系統，其中，所述信息包括用于與輻照目標相關聯的輻射場的修整曲線的規范；并且

其中，配置自適應孔包括伸出或縮回所述一個或多個葉片以產生該修整曲線。

8.根據權利要求7所述的粒子療法系統，其中，所述規范識別修整曲線相對于已知點的位置或形狀中的至少一個。

9.根據權利要求1所述的粒子療法系統，其中，所述信息包括用于所述輻照目標的不同層的修整曲線的規范；并且

其中，配置自適應孔包括基于用于輻照目標的每層的規范，伸出或縮回所述一個或多個葉片，并且移動至少一個副托架或主托架，以產生用于所述每層的修整曲線。

10.根據權利要求1所述的粒子療法系統，其中，所述信息包括用于與輻照目標相關聯的輻射場的單個修整曲線的規范；并且

其中，配置自適應孔包括伸出或縮回所述一個或多個葉片以產生所述單個修整曲線，所述單個修整曲線用于修整用于輻照目標的多個層的輻射場。

11.根據權利要求1所述的粒子療法系統，其中，所述信息包括用于輻照目標的輻射場的自適應孔的配置的規范；并且

其中，配置自適應孔包括基于用于自適應孔的配置的規范來伸出或縮回所述一個或多個葉片，并且移動至少一個副托架或主托架。