[發明專利]光刻設備和支撐結構背景

在審

• 申請號: 201780054845.0
• 申請日: 2017-08-18
• 公開（公告）號: CN109690406A
• 公開（公告）日: 2019-04-26
• 發明（設計）人: A·賈奇
• 申請（專利權）人: ASML控股股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/687
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 王茂華;崔卿虎

1.一種光刻設備，包括：

固定框架，具有第一電導體；

支撐結構，被配置為支撐物體，可移動地耦合到所述框架，并且具有第二電導體；以及

導電流體，被配置為將所述第一電導體電耦合到所述第二電導體。

2.根據權利要求1所述的光刻設備，其中所述框架限定容納所述導電流體的腔體。

3.根據權利要求2所述的光刻設備，其中：

所述支撐結構被配置為沿著第一方向移動第一距離；以及

所述腔體在所述第一方向上具有的尺寸等于或大于所述第一距離。

4.根據權利要求2所述的光刻設備，其中：

所述支撐結構被配置為沿著不同于所述第一方向的第二方向移動第二距離；以及

所述腔體在所述第二方向上具有的尺寸等于或大于所述第二距離。

5.根據權利要求2所述的光刻設備，其中所述腔體在垂直方向上與所述支撐結構重疊。

6.根據權利要求2所述的光刻設備，其中所述光刻設備被配置為生成將所述導電流體保持在所述腔體內的氣流。

7.根據權利要求2所述的光刻設備，其中所述光刻設備被配置為生成將所述導電流體保持在所述腔體內的磁場。

8.根據權利要求1所述的光刻設備，其中所述第二電導體包括浸沒在所述導電流體中的第一部分。

9.根據權利要求1所述的光刻設備，進一步包括電部件，所述電部件電耦合到所述第二電導體，并且耦合到所述支撐結構，使得所述電部件與所述支撐結構一起移動。

10.根據權利要求9所述的光刻設備，其中所述電部件包括被配置為發送或接收經由所述導電流體傳輸的信號的傳感器。

11.根據權利要求9所述的光刻設備，其中所述電部件包括被配置為移動所述支撐結構的定位器。

12.根據權利要求1所述的光刻設備，進一步包括電耦合到所述第一電導體的電部件。

13.根據權利要求12所述的光刻設備，其中所述電部件包括被配置為控制所述光刻設備的過程的數據處理設備。

14.根據權利要求1所述的光刻設備，其中所述導電流體包括汞。

15.根據權利要求1所述的光刻設備，其中所述導電流體包括鎵。

16.根據權利要求1所述的光刻設備，其中所述導電流體包括溶劑和電解質溶質。

17.根據權利要求16所述的光刻設備，其中所述溶劑包括水，并且所述電解質溶質包括鹽。

18.根據權利要求17所述的光刻設備，其中所述鹽包括氯化鈉。

19.根據權利要求1所述的光刻設備，其中所述支撐結構包括被配置為支撐襯底的襯底臺。

20.根據權利要求1所述的光刻設備，其中所述支撐結構包括被配置為支撐圖案化裝置的掩模臺。