[發(fā)明專利]用于向下流動式加氫操作反應器的改進的混合裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780053643.4 | 申請日: | 2017-08-30 |
| 公開(公告)號: | CN109642169B | 公開(公告)日: | 2021-10-29 |
| 發(fā)明(設計)人: | S·X·松;P·克里希尼亞;T·D·布雷格;B·M·薩福德 | 申請(專利權)人: | 雪佛龍美國公司 |
| 主分類號: | C10G49/00 | 分類號: | C10G49/00;B01F5/00;B01F5/04;B01J8/04;C10G65/02 |
| 代理公司: | 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038 | 代理人: | 鄒智弘 |
| 地址: | 美國加*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 向下 流動 加氫 操作 反應器 改進 混合 裝置 | ||
1.用于多床向下流動式催化反應器的混合裝置,所述混合裝置包括:
a.具有內表面和外周的頂板;
b.平行于所述頂板延伸的基板,所述基板具有內表面、外周和基板孔,其中使所述頂板和基板分開一定距離,以限定所述混合裝置的內部區(qū)域;
c.多個向內指向的葉片,其容納在所述混合裝置的內部區(qū)域之內,垂直于所述頂板和基板的內表面延伸并且插入所述頂板和基板的內表面之間,其中所述葉片從所述頂板和基板的外周朝向所述基板孔向內指向,并且圍繞從所述基板孔延伸至所述頂板和基板的外周的區(qū)域間隔開;和
d.混合區(qū)域;
其中,所述混合裝置不包括從所述基板的內表面延伸的溢流堰環(huán)或從所述頂板的內表面延伸的泡罩。
2.根據權利要求1所述的混合裝置,其中所述基板孔是圓形的。
3.根據權利要求1所述的混合裝置,其中所述葉片是直的或彎曲的。
4.根據權利要求3所述的混合裝置,其中所述葉片是向內彎曲的。
5.根據權利要求1所述的混合裝置,其中每個葉片包括靠近所述頂板的外周的外端和靠近所述混合區(qū)域的內端,所述混合裝置另外包括多個入口區(qū)域,所述入口區(qū)域限定為通過相鄰葉片和各個葉片的對應內端和外端界定的區(qū)域。
6.根據權利要求5所述的混合裝置,其中將所述混合區(qū)域限定為所述頂板和基板之間的區(qū)域,排除限定所述入口區(qū)域的區(qū)域。
7.根據權利要求5所述的混合裝置,其中每個葉片的內端徑向地與相鄰葉片的外端重疊。
8.根據權利要求1所述的混合裝置,其中所述基板孔是位于所述基板中心的單個開口。
9.根據權利要求1所述的混合裝置,其中所述裝置提供氣體和液體的兩相混合。
10.多床向下流動式催化反應器,其包括:
容納在具有內表面的反應器殼體中的上部和下部催化劑床;
插入所述上部和下部催化劑床之間的床間分配組件;
所述床間分配組件包括固定在上方并且與收集板緊密地流體連通的根據權利要求1所述的混合裝置,所述收集板具有收集板孔和從靠近所述收集板孔的所述收集板延伸的立管,其中所述立管延伸穿過所述基板孔并且延伸至所述混合裝置的混合區(qū)域中。
11.根據權利要求10所述的反應器,其中所述基板孔、所述收集板孔和所述立管各自是圓形的,所述基板孔直徑大于所述立管直徑。
12.根據權利要求10所述的反應器,其中所述葉片是直的或彎曲的。
13.根據權利要求12所述的反應器,其中所述葉片是向內彎曲的。
14.根據權利要求10所述的反應器,其中所述混合裝置的每個葉片包括靠近所述頂板的外周的外端和靠近所述混合區(qū)域的內端,所述混合裝置另外包括多個入口區(qū)域,所述入口區(qū)域限定為通過相鄰葉片和各個葉片的對應內端和外端界定的區(qū)域。
15.根據權利要求14所述的反應器,其中將所述混合裝置混合區(qū)域限定為所述頂板和基板之間的區(qū)域,排除限定所述入口區(qū)域的區(qū)域。
16.根據權利要求14所述的反應器,其中每個葉片的內端徑向地與相鄰葉片的外端重疊。
17.根據權利要求10所述的反應器,其中所述立管不延伸穿過所述頂板。
18.一種在向下流動式催化反應器中氣體和液體的兩相混合方法,所述方法包括向包含在所述反應器內的權利要求1的所述混合裝置提供氣體和液體。
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