[發明專利]導光體、光模塊、以及光路光軸調整方法有效
| 申請號: | 201780053254.1 | 申請日: | 2017-08-15 |
| 公開(公告)號: | CN109642988B | 公開(公告)日: | 2023-08-29 |
| 發明(設計)人: | 渡邊聰明 | 申請(專利權)人: | 信越化學工業株式會社 |
| 主分類號: | G02B6/26 | 分類號: | G02B6/26;G02B6/00 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人: | 張晶;謝順星 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 導光體 模塊 以及 光軸 調整 方法 | ||
1.一種光模塊,其特征在于,
所述光模塊具備構成設置于光路的光模塊的部件,以及設置于所述部件間用于進行光路光軸調整的導光體,
所述用于進行光路光軸調整的導光體由具有30dB以上的消光比的CZ或FZ單晶硅構成,并且其呈平板狀、或立方體形狀,
其中,所述導光體與所述部件直接接合,傾斜間隔填充粘接劑,
所述消光比是來自偏振鏡的光透射了單晶硅后的光的“偏振鏡的偏振光方向的直線偏振光的強度Imax”與“從偏振鏡的偏振光方向傾斜90°的直線偏振光的強度Imin”的比,在用分貝換算的情況下,定義為:
消光比=10log(Imax/Imin),單位為dB。
2.根據權利要求1所述的光模塊,其特征在于,
所述導光體是僅將一個側面接合固定于基座而構成的。
3.根據權利要求1或2所述的光模塊,其特征在于,
所述導光體以為了進行所述部件間的光路光軸調整而調整設置角度的方式設置。
4.一種光路光軸調整方法,其特征在于,
通過調整權利要求1或權利要求2所述的光模塊中的所述導光體的設置角度來進行部件間的光路光軸調整。
5.一種光路光軸調整方法,其特征在于,
通過調整權利要求3所述的光模塊中的所述導光體的設置角度來進行部件間的光路光軸調整。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于信越化學工業株式會社,未經信越化學工業株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201780053254.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:包覆層去除工具
- 下一篇:光學模塊和使用該光學模塊的光學裝置





