[發明專利]用于處理鉻加工表面的方法

有效

• 申請號: 201780052407.0
• 申請日: 2017-09-26
• 公開（公告）號: CN109661483B
• 公開（公告）日: 2022-04-12
• 發明（設計）人: 克里斯蒂娜·普菲爾曼;貝爾凱姆·歐葉茲卡亞;菲利普·瓦赫特;南希·伯恩
• 申請（專利權）人: 德國艾托特克公司
• 主分類號: C25D5/48
• 分類號: C25D5/48;C25D9/08;C25D9/06;C23C22/08;C23C22/18
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287
• 代理人: 林斯凱

1.一種用于裝飾鉻加工表面的后處理以提高耐腐蝕性的方法，其包含，

a)提供襯底，所述襯底具有裝飾鉻加工表面和位于所述裝飾鉻加工表面與所述襯底之間的至少一個中間層，所述至少一個中間層選自由鎳、鎳合金、銅和銅合金組成的群組，其中所述裝飾鉻加工表面是鍍三價鉻層的表面，其通過在電鍍浴中電鍍具有所述至少一個中間層的所述襯底獲得，所述電鍍浴包含鉻III離子作為主要鉻來源；

b)使所述裝飾鉻加工表面與水溶液接觸，所述水溶液包含：

-高錳酸鹽、

-至少一種化合物，其選自磷氧化合物、氫氧化物、硝酸鹽、硼酸鹽、硼酸、硅酸鹽或這些化合物中的兩者或超過兩者的混合物；

c)在步驟b)中使所述裝飾鉻加工表面與所述水溶液接觸期間，在所述裝飾鉻加工表面上形成透明腐蝕保護層。

2.根據權利要求1所述的方法，其中所述至少一種化合物選自無機磷氧化合物，如磷酸鹽、磷酸氫鹽、磷酸二氫鹽、焦磷酸鹽、膦酸鹽或其混合物；氫氧化物；硼酸鹽或硝酸鹽。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其中所述電鍍浴含有小于0.02重量百分比的鉻VI離子并且所述形成的鍍三價鉻層包含45-90at％(原子百分比)的量的鉻、5-20at％的量的氧，其限制條件為在所述鍍三價鉻層內所有化學元素的總量將不超過100at％并且鉻量在各種情況下是最高量。

4.根據前述權利要求中1或2所述的方法，其中所述電鍍浴含有小于0.02重量百分比的鉻VI離子且所述鍍三價鉻層包含45-90at％的量的鉻、5-20at％的量的氧、0-30at％的量的鐵、0-15at％的量的碳、0-15at％的量的硫和0-1at％的量的其它金屬或非金屬；其限制條件為在所述鍍三價鉻層內所有化學元素的總量將不超過100at％并且鉻量在各種情況下是最高量。

5.根據前述權利要求1或2所述的方法，其中與具有孔隙或孔隙和裂痕的所述鍍三價鉻層直接接觸的一個中間層是：光亮或緞光鎳層，其通過電鍍具有非光亮鎳層的至少另一個中間層的所述襯底獲得；或MPS鎳層，其通過電鍍具有非MPS鎳層的至少另一個中間層的所述襯底獲得。

6.根據前述權利要求1或2所述的方法，其中在步驟b)中，將電勢施加于所述裝飾鉻加工表面與惰性相對電極之間，所述裝飾鉻加工表面充當陰極并且所述相對電極充當陽極。

7.根據權利要求6所述的方法，其中產生0.005–5A/dm²的電流密度，其與所述裝飾鉻加工表面的面積有關。

8.根據權利要求6所述的方法，其中施加所述電勢5-900秒。

9.根據前述權利要求1或2所述的方法，其包含另一步驟：

d)在步驟b)中用所述水溶液處理之后，用能夠還原和/或溶解MnO₂的組分處理所述裝飾鉻加工表面。

10.根據權利要求9所述的方法，其中所述組分是過氧化氫、肼、碘化鉀、亞硫酸鈉、硫酸羥銨或碳水化合物。

11.根據權利要求9所述的方法，其中所述組分選自硫酸、硝酸、抗壞血酸和乙酸。

12.根據前述權利要求9所述的方法，其包含另一步驟：在步驟b)之后，以及在步驟d)之前，沖洗所述裝飾鉻加工表面。

13.根據前述權利要求1或2所述的方法，其中所述水溶液中高錳酸鹽的濃度是0.05-4.5mol/L。

14.根據前述權利要求1或2所述的方法，其中所述水溶液中的所述磷氧化合物、氫氧化物、硝酸鹽、硼酸鹽、硼酸或硅酸鹽的濃度是0.05-2mol/L。