[發明專利]用于處理和修復含水廢物流的組合物和方法

有效

• 申請號: 201780052049.3
• 申請日: 2017-06-26
• 公開（公告）號: CN109641766B
• 公開（公告）日: 2022-12-23
• 發明（設計）人: 勞倫斯·卡爾森
• 申請（專利權）人: 泰格魯斯有限責任公司
• 主分類號: C02F1/461
• 分類號: C02F1/461;C02F1/48;C02F1/58
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫;熊永強

1.一種用于處理污染水流的裝置，污染水流具有濃度升高的至少一種化學組分，所述裝置包括：

與工藝流體管道連通的至少一個工藝流體入口，所述工藝流體入口與污染水源至少暫時流體連通，所述污染水源具有濃度升高的至少一種目標化學組分，所述目標化學組分選自由輕金屬、重金屬、硫酸鹽及其混合物構成的組；

與所述工藝流體管道流體連通的至少一個電解反應容器，所述電解反應容器具有內腔室和至少一個位于所述反應容器的內腔室中的電極，所述電極由脈沖交流電源供電；

至少一個磁場區域反應容器，所述磁場區域反應容器與所述工藝流體管道流體連通，所述磁場區域反應容器具有向外取向的表面和相對的向內取向的表面，所述磁場區域反應容器具有至少一個與所述磁場區域反應容器的向內取向的表面接觸的磁體；

至少一個電極功率調節機構，所述電極功率調節機構被配置成改變位于所述電解反應容器中的至少一個電極中的電壓強度、電壓輸送持續時間、電極極性中的至少一種；

至少一個進料入口，所述進料入口被配置成輸送計量量的含水組合物，所述含水組合物包含一化合物，所述化合物選自由H₉O₄⁺與硫酸根1:1的配合物；H₉O₄⁺與碳酸根1:1的配合物；H₉O₄⁺與磷酸根1:1的配合物；H₉O₄⁺與草酸根1:1的配合物；H₉O₄⁺與鉻酸根1:1的配合物；H₉O₄⁺與重鉻酸根1:1的配合物；H₉O₄⁺與焦磷酸根1:1的配合物及其混合物構成的組。

2.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述磁場區域反應容器被配置成將含水工藝流暴露于具有值在10高斯和100000高斯之間的聚焦磁場。

3.如權利要求1或2所述的裝置，進一步包括：位于所述至少一個電解反應容器和所述至少一個磁場區域反應容器下游的至少一個分離設備，所述分離設備為過濾單元、離心機和/或壓縮機中的至少一種。

4.如權利要求1所述的裝置，包括至少一個控制器，所述控制器被配置為監控所述工藝流體的特性，其中，所述磁場區域反應容器被配置成將含水工藝流暴露于具有值在10高斯和100000高斯之間的聚焦磁場。

5.一種降低含水工藝流中至少一種目標污染物濃度的方法，所述方法包括步驟：

用一定量的一化合物對所述工藝流進行進料，所述化合物選自由H₉O₄⁺與硫酸根1:1的配合物；H₉O₄⁺與碳酸根1:1的配合物；H₉O₄⁺與磷酸根1:1的配合物；H₉O₄⁺與草酸根1:1的配合物；H₉O₄⁺與鉻酸根1:1的配合物；H₉O₄⁺與重鉻酸根1:1的配合物；H₉O₄⁺與焦磷酸根1:1的配合物及其混合物構成的組；以及

依次進行以下步驟：

a)將所述工藝流暴露于脈沖電場；

b)將所述工藝流暴露于具有值在10高斯和1000000高斯之間的聚焦磁場。

6.如權利要求5所述的方法，其特征在于，所述目標污染物為金屬、重金屬、硫化物和氯化物、烴、取代的烴以及其化合物和絡合物中的至少一種。