[發(fā)明專利]防污性膜

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780052020.5
• 申請日: 2017-06-28
• 公開（公告）號: CN109690364B
• 公開（公告）日: 2020-11-10
• 發(fā)明（設計）人: 芝井康博;厚母賢;中松健一郎
• 申請（專利權）人: 夏普株式會社
• 主分類號: G02B1/18
• 分類號: G02B1/18;B32B3/30;B32B27/18;B32B27/30;G02B1/118
• 代理公司: 深圳市賽恩倍吉知識產(chǎn)權代理有限公司 44334
• 代理人: 汪飛亞;習冬梅

本發(fā)明提供一種防污性、密接性、耐磨性及可靠性均優(yōu)異的防污性膜。本發(fā)明的防污性膜具備：基材；以及聚合物層，其配置在所述基材的表面上，且在表面具有以可見光的波長以下的間距而設有多個凸部的凹凸結構，并且所述聚合物層為聚合性組成物的硬化物，所述聚合性組成物以有效成分換算，含有15重量％～40重量％的六官能以上的丙烯酸氨基甲酸酯、35重量％～60重量％的每個官能基包含3個～15個環(huán)氧乙烷基的四官能以上的多官能丙烯酸酯、15重量％～30重量％的不具有環(huán)氧乙烷基的單官能丙烯酸酯、0.5重量％～10重量％的具有全氟聚醚基且氟原子濃度為50重量％以下的氟系脫模劑、以及0.5重量％～5重量％的聚合引發(fā)劑。

技術領域

本發(fā)明涉及一種防污性膜。更詳細而言，本發(fā)明涉及一種具有納米尺寸的凹凸結構的防污性膜。

背景技術

關于具有抗反射性的光學膜，已進行了各種研究(例如參照專利文獻1～專利文獻3)。尤其已知具有納米尺寸的凹凸結構(納米結構)的光學膜具有優(yōu)異的抗反射性。根據(jù)這種凹凸結構，折射率從空氣層向基材連續(xù)地變化，因而能夠明顯減少反射光。

現(xiàn)有技術文獻

[專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2012-52125號公報

[專利文獻2]國際公開第2007/040159號

[專利文獻3]日本專利特開2005-97371號公報

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所要解決的技術問題

但是，對于這種光學膜來說，雖然具有優(yōu)異的抗反射性，但另一方面，其表面的凹凸結構會導致指紋(皮脂)等污垢附著時附著的污垢容易擴展，進而難以將進入凸部間的污垢擦去。而且，所附著的污垢由于其反射率與光學膜的反射率大不相同，因而容易被看到。因此，需求表面具有納米尺寸的凹凸結構，且對污垢的擦去性(例如指紋擦去性)、即防污性優(yōu)異的功能性膜(防污性膜)。

對此，本發(fā)明人等進行了研究，結果得知，現(xiàn)有的防污性膜除了防污性不足以外，防污性膜的基材與構成防污性膜的表面(凹凸結構)的聚合物層的密接性也不充分。進而得知，現(xiàn)有的防污性膜的耐磨性及可靠性也不充分。例如，若摩擦聚合物層的表面(凹凸結構的表面)，則有時凸部彼此粘連而不恢復成原本的狀態(tài)(凸部坍塌后不立起)，或凸部破損，因而要求提高耐磨性。而且，有時在高溫/高濕的環(huán)境下，聚合物層的構成材料滲出(bleedout)而導致光學特性降低，因而要求提高可靠性。

如以上那樣，對于現(xiàn)有的防污性膜來說，尚未找出使防污性、密接性、耐磨性及可靠性均優(yōu)異的方式。例如，所述專利文獻1～3中并無與密接性及可靠性相關的記載，在提高防污性及耐磨性的方面也有改善的余地。

本發(fā)明是鑒于所述現(xiàn)狀而成，其目的在于提供一種防污性、密接性、耐磨性及可靠性均優(yōu)異的防污性膜。

解決問題的方案

本發(fā)明人等對防污性、密接性、耐磨性及可靠性均優(yōu)異的防污性膜進行了各種研究，結果發(fā)現(xiàn)了構成防污性膜的聚合物層的聚合性組成物以既定比率含有提高各特性那樣的成分的結構。想到由此能完美地解決所述課題，從而達成了本發(fā)明。

即，本發(fā)明的一形態(tài)是一種防污性膜，其具備：基材；以及聚合物層，其配置在所述基材的表面上，且在表面具有以可見光的波長以下的間距而設有多個凸部的凹凸結構，并且所述聚合物層為聚合性組成物的硬化物，所述聚合性組成物以有效成分換算，含有15重量％～40重量％的六官能以上的丙烯酸氨基甲酸酯、35重量％～60重量％的每個官能基包含3個～15個環(huán)氧乙烷基的四官能以上的多官能丙烯酸酯、15重量％～30重量％的不具有環(huán)氧乙烷基的單官能丙烯酸酯、0.5重量％～10重量％的具有全氟聚醚基且氟原子濃度為50重量％以下的氟系脫模劑、以及0.5重量％～5重量％的聚合引發(fā)劑。

所述聚合物層的表面的動摩擦系數(shù)也可為2.0以下。