[發(fā)明專(zhuān)利]X射線(xiàn)生成設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201780051938.8
• 申請(qǐng)日: 2017-09-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN109644545B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-05-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 川瀨順也;山崎康二
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 佳能株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): H05G1/06
• 分類(lèi)號(hào): H05G1/06
• 代理公司: 中國(guó)貿(mào)促會(huì)專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 白皎

1.一種X射線(xiàn)生成設(shè)備，所述X射線(xiàn)生成設(shè)備包括：

X射線(xiàn)管，所述X射線(xiàn)管包括：

包括電子發(fā)射源的陰極，

包括透射靶的陽(yáng)極，和

絕緣管，所述絕緣管分別經(jīng)由陽(yáng)極側(cè)連結(jié)部分和陰極側(cè)連結(jié)部分連結(jié)到所述陽(yáng)極和所述陰極中的每一個(gè)，以及

絕緣液體；

導(dǎo)電的容器，所述容器包括朝向所述絕緣管延伸的凸緣部分和經(jīng)由彎曲部分從所述凸緣部分突出的突出部分，所述陽(yáng)極固定到所述突出部分，所述容器構(gòu)造成容納所述X射線(xiàn)管和絕緣液體，

其中，所述彎曲部分與所述陰極側(cè)連結(jié)部分之間的距離等于或大于所述陽(yáng)極側(cè)連結(jié)部分與所述陰極側(cè)連結(jié)部分之間的距離。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線(xiàn)生成設(shè)備，其中，在所述X射線(xiàn)管的軸向方向上，所述彎曲部分定位于所述陽(yáng)極側(cè)連結(jié)部分與所述陰極側(cè)連結(jié)部分之間。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的X射線(xiàn)生成設(shè)備，其中，當(dāng)從所述陰極朝向所述陽(yáng)極的方向被定義為正，并且容器的內(nèi)表面上沿軸向方向的位置由z表示時(shí)，

所述絕緣管和所述容器之間的距離Li相對(duì)于z的一階導(dǎo)數(shù)局部最小的位置與所述彎曲部分重疊。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的X射線(xiàn)生成設(shè)備，其中，當(dāng)從所述陰極朝向所述陽(yáng)極的方向被定義為正，并且容器的內(nèi)表面上沿軸向方向的位置由z表示時(shí)，

所述絕緣管和所述容器之間的距離Li相對(duì)于z的二階導(dǎo)數(shù)的符號(hào)從負(fù)變?yōu)檎奈恢门c所述彎曲部分重疊。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線(xiàn)生成設(shè)備，其中，所述凸緣部分和所述突出部分各自均由金屬材料制成。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線(xiàn)生成設(shè)備，其中，所述容器接地。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的X射線(xiàn)生成設(shè)備，其中，所述陽(yáng)極通過(guò)所述容器接地。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線(xiàn)生成設(shè)備，所述X射線(xiàn)生成設(shè)備還包括：

驅(qū)動(dòng)所述X射線(xiàn)管的驅(qū)動(dòng)電路，

其中，所述驅(qū)動(dòng)電路和絕緣液體存儲(chǔ)在所述容器中。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的X射線(xiàn)生成設(shè)備，其中，所述容器包括后容納部分，所述后容納部分沿閉合線(xiàn)與所述凸緣部分連續(xù)，并且

其中，所述驅(qū)動(dòng)電路容納在所述后容納部分中。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的X射線(xiàn)生成設(shè)備，其中，所述驅(qū)動(dòng)電路包括控制從所述電子發(fā)射源發(fā)射的電子的數(shù)量的電子數(shù)量控制器。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的X射線(xiàn)生成設(shè)備，其中，所述驅(qū)動(dòng)電路包括在所述陽(yáng)極和所述陰極之間施加管電壓的管電壓驅(qū)動(dòng)器。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線(xiàn)生成設(shè)備，其中，所述透射靶包括在被電子照射時(shí)產(chǎn)生X射線(xiàn)的靶層，以及支撐所述靶層并透射所產(chǎn)生的X射線(xiàn)的支撐窗口。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線(xiàn)生成設(shè)備，其中，所述絕緣管位于所述陽(yáng)極和所述陰極之間。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線(xiàn)生成設(shè)備，其中，所述凸緣部分環(huán)狀地延伸，使得彎曲部分包圍所述絕緣管。

15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的X射線(xiàn)生成設(shè)備，其中，所述突出部分在遠(yuǎn)離所述后容納部分的方向上從所述凸緣部分突出。

16.一種X射線(xiàn)成像系統(tǒng)，所述X射線(xiàn)成像系統(tǒng)包括：

根據(jù)權(quán)利要求1至15中的任一項(xiàng)所述的X射線(xiàn)生成設(shè)備；

X射線(xiàn)檢測(cè)裝置，所述X射線(xiàn)檢測(cè)裝置檢測(cè)從所述X射線(xiàn)生成設(shè)備發(fā)射并穿過(guò)對(duì)象的X射線(xiàn)；和

系統(tǒng)控制器，所述系統(tǒng)控制器彼此協(xié)作地控制所述X射線(xiàn)生成設(shè)備和所述X射線(xiàn)檢測(cè)裝置。