[發明專利]偏光板以及包含此偏光板的光學顯示器

有效

• 申請號: 201780051242.5
• 申請日: 2017-02-27
• 公開（公告）號: CN109642976B
• 公開（公告）日: 2021-10-01
• 發明（設計）人: 鄭宇鎭;李承俊;李泰賢
• 申請（專利權）人: 三星SDI株式會社
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;G02B1/14;G02B1/04;G02B5/22
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 馬爽;臧建明

1.一種偏光板，其特征在于，包括：

偏光膜、第一黏著劑層、第一光學補償層、第二黏著劑層及第二光學補償層，以所描述的順序的方式堆疊，

其中利用微壓頭在25℃下在所述第二光學補償層的表面上進行測量時，所述偏光板具有為100百萬帕至1,000百萬帕的彈性模數，

其中所述第一黏著劑層在25℃下具有高于1百萬帕且為等于或小于220百萬帕的拉伸模數。

2.根據權利要求1所述的偏光板，其中在25℃下所述第一黏著劑層具有高于所述第二黏著劑層的拉伸模數。

3.根據權利要求1所述的偏光板，其中所述第二黏著劑層在25℃下具有為0.1百萬帕至3百萬帕的拉伸模數。

4.根據權利要求1所述的偏光板，其中所述第一黏著劑層是由黏著劑層組成物形成，所述黏著劑層組成物包含黏著劑樹脂以及異氰酸酯系固化劑，所述黏著劑樹脂具有在固化之前測量的等于或高于50℃的玻璃轉化溫度，

相對于100重量份的所述黏著劑樹脂，所述異氰酸酯系固化劑以5重量份至50重量份的量存在。

5.根據權利要求4所述的偏光板，其中所述異氰酸酯系固化劑包含經脲基甲酸酯基團改質的聚異氰酸酯系固化劑。

6.根據權利要求1所述的偏光板，其中所述第一黏著劑層是由黏著劑層組成物形成，所述黏著劑層組成物包含(甲基)丙烯酸共聚物以及異氰酸酯系固化劑，所述(甲基)丙烯酸共聚物具有在固化之前測量的等于或低于0℃的玻璃轉化溫度，

相對于100重量份的所述(甲基)丙烯酸共聚物，所述異氰酸酯系固化劑以多于5重量份且為等于或小于30重量份的量存在。

7.根據權利要求1所述的偏光板，其中所述第二黏著劑層是由黏著劑層組成物形成，所述黏著劑層組成物包含(甲基)丙烯酸共聚物以及異氰酸酯系固化劑，所述(甲基)丙烯酸共聚物具有在固化之前測量的等于或低于0℃的玻璃轉化溫度，

相對于100重量份的所述(甲基)丙烯酸共聚物，所述異氰酸酯系固化劑以0.001重量份至10重量份的量存在。

8.根據權利要求1所述的偏光板，其中如根據方程式1所計算，所述第一光學補償層在550納米的波長下具有225納米至350納米的面內延遲：

方程式1

Re＝(nx-ny)×d

在方程式1中，Re為面內延遲，nx及ny分別為所述第一光學補償層在550納米的波長下在x軸方向與y軸方向上的折射率，且d指示所述第一光學補償層的厚度，所述厚度的單位為納米。

9.根據權利要求1所述的偏光板，其中所述第一光學補償層為液晶膜或液晶涂層。

10.根據權利要求9所述的偏光板，其中所述第一黏著劑層直接形成于所述第一光學補償層上。

11.根據權利要求9所述的偏光板，其中所述第一光學補償層及所述第二光學補償層中的至少一者具有1微米至10微米的厚度。

12.根據權利要求1所述的偏光板，其中如根據方程式1所計算，所述第二光學補償層在550納米的波長下具有100納米至220納米的面內延遲：

方程式1

Re＝(nx-ny)×d

在方程式1中，Re為面內延遲，nx及ny分別為所述第二光學補償層在550納米的波長下在x軸方向與y軸方向上的折射率，且d指示所述第二光學補償層的厚度，所述厚度的單位為納米。

13.根據權利要求1所述的偏光板，其中所述第一黏著劑層及所述第二黏著劑層中的至少一者包含紫外線吸收劑，

所述紫外線吸收劑包括熔點為等于或高于100℃的吲哚系紫外線吸收劑。