[發明專利]用于磁共振檢查系統的主動屏蔽梯度線圈組件

有效

• 申請號: 201780049810.8
• 申請日: 2017-08-15
• 公開（公告）號: CN109642932B
• 公開（公告）日: 2021-10-15
• 發明（設計）人: J·A·奧弗韋格
• 申請（專利權）人: 皇家飛利浦有限公司
• 主分類號: G01R33/385
• 分類號: G01R33/385;G01R33/421
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 王英;劉炳勝

1.一種用于磁共振檢查系統并且包括以下項的梯度線圈組件：

主梯度線圈，其具有在主圓柱表面上的主繞組，

屏蔽線圈，其具有在屏蔽圓柱表面上的屏蔽繞組，

所述屏蔽圓柱表面被定位為相對于所述主圓柱表面徑向地向外，

錐形端部凸緣表面，其在所述主圓柱表面與所述屏蔽圓柱表面之間，在所述主圓柱表面與所述屏蔽圓柱表面的相鄰的軸向端部處，

互連的繞組部分，其在所述主繞組與所述屏蔽繞組之間，被設置在所述錐形表面上，并且將所述屏蔽繞組中的至少一些串聯連接到所述主繞組中的一些，并且其中，

所述屏蔽線圈被提供為其中電導體的凹陷的貼片被定位為相對于所述屏蔽圓柱表面徑向地向內，并且所述貼片的電導體串聯地電連接到所述主梯度線圈的電導體中的一些。

2.根據權利要求1所述的梯度線圈組件，其中，橫向梯度線圈的所述屏蔽線圈被提供為其中電導體的凹陷的貼片被定位為相對于所述屏蔽圓柱表面徑向地向內。

3.根據權利要求1所述的梯度線圈組件，包括z梯度主線圈和z梯度屏蔽線圈，所述z梯度屏蔽線圈具有：

由方位線圈環形成的同軸屏蔽繞組，

所述同軸屏蔽繞組的定位為靠近所述組件的軸向中心的中心組和所述同軸屏蔽繞組的定位在所述組件的軸向外圍的外圍組，并且

所述中心組的所述同軸屏蔽繞組的直徑小于所述外圍組中的所述同軸屏蔽繞組的直徑。

4.根據權利要求1-3中的任一項所述的梯度線圈組件，其中，所述錐形凸緣表面的孔在30°-45°的范圍內。

5.根據權利要求2或3所述的梯度線圈組件，其中，所述凹陷的貼片的向內徑向位置在距離所述屏蔽圓柱表面10-20mm的范圍內，優選為15mm。

6.根據權利要求4所述的梯度線圈組件，其中，所述凹陷的貼片被定位為軸向地靠近所述組件的軸向中心。

7.根據權利要求3所述的梯度線圈組件，其中，在所述中心組與所述外圍組之間提供有錐形中間凸緣表面，并且所述中心組的所述同軸屏蔽繞組和所述外圍組的所述同軸屏蔽繞組由設置在所述錐形中間凸緣表面上的互連中心繞組串聯連接。

8.一種用于磁共振檢查系統的磁體組件，包括：

主磁體線圈的集合，其具有主繞組和根據前述權利要求中的任一項所述的梯度線圈組件，

所述梯度線圈具有梯度雜散場，所述梯度雜散場具有一個或多個徑向延伸的高場區域，并且

所述梯度線圈組件相對于所述主磁體線圈在空間上被布置為使得所述高場區域通過間插在所述主磁體線圈之間而延伸。