[發(fā)明專利]基于苯乙烯類含氟聚合物的光學(xué)補(bǔ)償膜在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201780049412.6 | 申請(qǐng)日: | 2017-08-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109564320A | 公開(公告)日: | 2019-04-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張東;泰德·格姆洛斯;郭少明;鄭曉亮;陳超;王佩瑤;胡朗;李文濤;艾倫·菲利普斯;法蘭克·哈里斯 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 阿克隆聚合物系統(tǒng)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02B5/30 | 分類號(hào): | G02B5/30;C07D233/58;C07D263/56 |
| 代理公司: | 上海申新律師事務(wù)所 31272 | 代理人: | 董科 |
| 地址: | 美國(guó)俄*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué)補(bǔ)償膜 含氟聚合物 苯乙烯類 雙折射率 有機(jī)發(fā)光二極管 光學(xué)器件 顯示裝置 液晶顯示 波長(zhǎng) 申請(qǐng) | ||
1.一種光學(xué)補(bǔ)償膜組合物,其包含正雙折射的聚合物膜和基材,其中所述聚合物膜為正C-波片并且在400nm<λ<800nm的整個(gè)波長(zhǎng)范圍內(nèi)具有大于0.02的正雙折射率,所述聚合物薄膜由聚合物溶液澆鑄而成,所述聚合物溶液包含溶劑和聚合物,所述聚合物具有以下苯乙烯類部分:
其中R1、R2和R3各自獨(dú)立地為氫原子、烷基、取代的烷基或鹵素,其中R1、R2和R3中的至少一個(gè)為氟原子,其中R各自獨(dú)立地為苯乙烯環(huán)上的取代基,其中n是1至5的整數(shù),表示苯乙烯環(huán)上取代基的數(shù)目。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)補(bǔ)償膜組合物,其特征在于,所述取代基R是硝基。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)補(bǔ)償膜組合物,其特征在于,所述聚合物為在至少一個(gè)苯乙烯環(huán)上具有取代基R的聚(α,β,β-三氟苯乙烯)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)補(bǔ)償膜組合物,其特征在于,所述取代基R選自由以下組成的組:氟、氯、溴、碘、硝基、苯基、氰基、三氟甲基及其組合。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)補(bǔ)償膜組合物,其特征在于,所述取代基R是硝基。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)補(bǔ)償膜組合物,其特征在于,所述聚合物膜的正雙折射率大于0.023,苯乙烯環(huán)上的取代基R是硝基,且聚合物的取代度大于0.25。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)補(bǔ)償膜組合物,其特征在于,所述聚合物膜的正雙折射率大于0.027,所述聚合物是聚(α,β,β-三氟苯乙烯),苯乙烯環(huán)上的取代基R是硝基,且所述聚合物的取代度大于0.45。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)補(bǔ)償膜組合物,其特征在于,所述聚合物膜的正雙折射率大于0.03,所述聚合物是聚(α,β,β-三氟苯乙烯),苯乙烯環(huán)上的取代基R是硝基,且所述聚合物的取代度大于0.6。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)補(bǔ)償膜組合物,其特征在于,所述聚合物膜的正雙折射率大于0.035,所述聚合物是聚(α,β,β-三氟苯乙烯),苯乙烯環(huán)上的取代基R是硝基,且所述聚合物的取代度大于0.85。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)補(bǔ)償膜組合物,其特征在于,所述聚合物膜被澆鑄到所述基材上以在所述基材上形成涂層。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光學(xué)補(bǔ)償膜組合物,其特征在于,所述基材選自包含環(huán)烯烴聚合物(COP)、聚碳酸酯、纖維素酯和聚酯的組。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光學(xué)補(bǔ)償膜組合物,其特征在于,所述基材是A-波片,其折射率分布為nx>ny=nz,面內(nèi)延遲(Re)為約50nm至約200nm,其中所述涂層的面外延遲(Rth)為約60nm至150nm,其厚度約1-8μm。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光學(xué)補(bǔ)償膜組合物,其特征在于,所述基材是雙軸膜,其折射率分布為nx>ny>nz,面內(nèi)延遲(Re)為約60nm至約200nm,其中面外延遲(Rth)為約-100nm至約-200nm,且其中所述涂層的面外延遲(Rth)為約60nm至250nm,其厚度為約1-12μm。
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