[發(fā)明專利]定位系統(tǒng)、用于定位的方法、光刻設(shè)備及器件制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780048911.3
• 申請日: 2017-06-29
• 公開（公告）號: CN109564398B
• 公開（公告）日: 2021-06-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: H·巴特勒;W·西門斯;B·詹森
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 張啟程

本發(fā)明涉及一種定位系統(tǒng)，所述定位系統(tǒng)包括第一主體、第二主體、布置在第一主體和第二主體之間的致動器以相對于第二主體定位第一主體；其中所述致動器包括串聯(lián)布置的第一壓電致動器和第二壓電致動器，其中第一壓電致動器具有第一遲滯，其中第二壓電致動器具有第二遲滯，所述第二遲滯小于第一遲滯，其中第二壓電致動器具有至少等于第一遲滯的定位范圍。

相關(guān)申請的交叉引用

本申請要求于2016年8月4日遞交的歐洲專利申請EP16182808.2的優(yōu)先權(quán)，通過引用將其的全文并入本文中。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種定位系統(tǒng)、用于定位的方法、光刻設(shè)備及器件制造方法。

背景技術(shù)

光刻設(shè)備是一種將所期望的圖案施加到襯底上的機器，通常施加到襯底的目標部分上。光刻設(shè)備能夠用在例如集成電路(IC)的制造中。在這種情況下，可以將可選地稱為掩模或掩模版的圖案形成裝置用于生成待形成于所述IC的單層上的電路圖案。可以將這種圖案轉(zhuǎn)印到襯底(例如，硅晶片)上的目標部分(例如，包括一部分管芯、一個或若干個管芯)上。所述圖案的轉(zhuǎn)印通常經(jīng)由將圖案成像到設(shè)置于襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層來進行。通常，單個襯底將包括被連續(xù)地形成圖案的相鄰目標部分的網(wǎng)絡(luò)。常規(guī)的光刻設(shè)備包括：所謂的步進機，在所述步進機中，通過將整個圖案一次曝光到所述目標部分上來輻射每一個目標部分；以及所謂的掃描器，在所述掃描器中，通過輻射束沿給定方向(“掃描”方向)掃描所述圖案、同時沿與所述方向平行或反向平行的方向同步地掃描所述襯底來輻射每一個目標部分。也可能通過將圖案壓印至襯底上而將圖案從圖案形成裝置轉(zhuǎn)印至襯底。

光刻設(shè)備通常包括需要被準確地定位的一個或更多個物體或主體。因此，所述物體或主體的示例是用于支撐所述光刻設(shè)備的支撐件和構(gòu)造用以保持所述襯底的襯底臺。

被布置用于準確地定位所述物體的致動器需要具有相對大的移動范圍和亞納米的分辨率。目前，低剛度洛倫茲(Lorentz)致動器被用于這一用途。洛倫茲致動器的缺點是相對大的移動質(zhì)量和熱負荷。

發(fā)明內(nèi)容

期望提供一種具有減小的移動質(zhì)量和/或減小的熱負荷的致動器。

根據(jù)本發(fā)明的實施例，提供了一種定位系統(tǒng)，包括：

第一主體；

第二主體；

布置在第一主體和第二主體之間的致動器，以相對于第二主體定位第一主體；并且

其中所述致動器包括串聯(lián)布置的第一壓電致動器和第二壓電致動器，

其中第一壓電致動器具有第一遲滯，

其中第二壓電致動器具有第二遲滯，且所述第二遲滯小于第一遲滯，

其中第二壓電致動器具有至少等于第一遲滯的定位范圍。

根據(jù)本發(fā)明的另一實施例，提供了一種利用布置在第一主體和第二主體之間的致動器相對于所述第二主體定位第一主體的方法，

其中所述致動器包括串聯(lián)布置的第一壓電致動器和第二壓電致動器，

其中所述第一壓電致動器具有第一遲滯，

其中所述第二壓電致動器具有第二遲滯，所述第二遲滯小于第一遲滯，

其中第二壓電致動器具有至少等于第一遲滯的定位范圍，

其中所述方法包括以下步驟：

a)驅(qū)動所述第一壓電致動器以相對于所述第二主體定位所述第一主體；

b)驅(qū)動所述第二壓電致動器以補償所述第一壓電致動器的所述遲滯。

根據(jù)本發(fā)明的又一實施例，提供了一種光刻設(shè)備，包括根據(jù)本發(fā)明所述的定位系統(tǒng)。