[發明專利]測量裝置、曝光裝置以及物品的制造方法

有效

• 申請號: 201780048850.0
• 申請日: 2017-06-15
• 公開（公告）號: CN109564397B
• 公開（公告）日: 2021-01-29
• 發明（設計）人: 前田浩平;高橋彰宏;古澤磨奈人;本間英晃
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G01B11/02;G01B11/06;G01B11/30;G03F9/00
• 代理公司: 北京魏啟學律師事務所 11398
• 代理人: 魏啟學

一種測量裝置，針對具有與互不相同的第一方向和第二方向中的一個方向上的高度偏差相比另一個方向上的高度偏差較大的表面的基板測量該表面的高度分布，該測量裝置包括：檢測部，其對檢測區域內的檢測對象部位的高度進行檢測；以及處理部，其通過相對地掃描所述基板和所述檢測區域來求出掃描方向上的所述基板的表面的高度分布，其中，所述處理部通過沿所述第一方向相對地掃描所述基板和所述檢測區域，來求出所述第一方向上的所述基板的表面的高度分布作為第一分布，判斷所述第一分布中的高度偏差是否為基準值以上，在判斷為所述第一分布中的高度偏差小于基準值的情況下，通過沿所述第二方向相對地掃描所述基板和所述檢測區域來求出所述第二方向上的所述基板的表面的高度分布。

技術領域

本發明涉及一種測量基板的表面的高度分布的測量裝置、曝光裝置以及物品的制造方法。

背景技術

在液晶面板、有機EL面板等平板或半導體設備的制造中，使用一種將掩模的圖案經由投影光學系統轉印到涂布有抗蝕劑的玻璃板、晶圓等基板上的曝光裝置。在這種曝光裝置的情況下，在基板的曝光中，與要曝光的基板上的位置相應地將基板的表面配置于投影光學系統的成像面(焦點面)，因此優選事先求出基板的表面的高度分布。在專利文獻1中提出了如下一種方法：事先分別測量基板的厚度分布和保持該基板的保持面的高度分布，由此基于該測量結果求出被保持在保持面上的基板的表面的高度分布。

專利文獻1：日本特開2006-156508號公報

發明內容

發明要解決的問題

在測量基板的表面的高度分布的測量裝置中，有時對檢測區域內的檢測對象部位的高度進行檢測。在這種測量裝置中，能夠通過一邊相對地掃描基板和檢測區域一邊對檢測區域內的基板的表面的高度進行檢測來測量基板的表面的高度分布。然而，當在遍及基板的整個表面地掃描檢測區域來進行該表面的高度的檢測時，該檢測需要相應的時間，在吞吐量這點上可能不利。

因此，本發明的目的在于提供一種有利于縮短測量基板的表面的高度分布的時間的技術。

用于解決問題的方案

為了實現上述目的，作為本發明的一個側面的測量裝置針對具有與互不相同的第一方向和第二方向中的一個方向上的高度偏差相比另一個方向上的高度偏差較大的表面的基板測量該表面的高度分布，該測量裝置包括：檢測部，其對檢測區域內的檢測對象部位的高度進行檢測；以及處理部，其通過相對地掃描所述基板和所述檢測區域來求出掃描方向上的所述基板的表面的高度分布，其中，所述處理部通過沿所述第一方向相對地掃描所述基板和所述檢測區域，來求出所述第一方向上的所述基板的表面的高度分布作為第一分布，判斷所述第一分布中的高度偏差是否為基準值以上，在判斷為所述第一分布中的高度偏差小于基準值的情況下，通過沿所述第二方向相對地掃描所述基板和所述檢測區域來求出所述第二方向上的所述基板的表面的高度分布。

發明的效果

根據本發明，例如能夠提供一種有利于縮短測量基板的表面的高度分布的時間的技術。

通過參照了所附附圖的以下的說明能夠明確本發明的其它特征和優點。此外，在所附附圖中，對相同或者同樣的結構標注相同的參照編號。

附圖說明

所附附圖包括在說明書中，構成該說明書的一部分且示出本發明的實施方式，用于在描述所附附圖的同時說明本發明的原理。

圖1是表示曝光裝置的結構的概要圖。

圖2是表示玻璃基板的厚度的偏差的圖。

圖3是表示第一實施方式所涉及的分布信息的生成方法的流程圖。