[發明專利]涂層

在審

• 申請號: 201780047368.5
• 申請日: 2017-06-13
• 公開（公告）號: CN109923949A
• 公開（公告）日: 2019-06-21
• 發明（設計）人: J·P·S·巴德亞爾;R·C·弗雷澤
• 申請（專利權）人: 表面創新有限公司
• 主分類號: H05K3/28
• 分類號: H05K3/28;B05D1/00
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 王基才

1.一種涂層，包括：

(i)第一層，以及

(ii)第二層，

其中，所述第一層和第二層通過交聯基團交聯，其中，所述第一層和第二層中至少一層是自交聯。

2.根據權利要求1所述的涂層，其中，所述第一層包含含有非芳香族不飽和化學基團的聚合物。

3.根據權利要求1或2所述的涂層，其中，第一層包含含有反應性基團的聚合物，所述反應性基團對硫醇基具有反應性；優選地，所述反應性基團選自雙鍵基團、三鍵基團、鹵化物基團、環氧基團。

4.根據前述權利要求任一項所述的涂層，其中，所述第一層包含含有式(I)的重復單元的聚合物：

-[WR³C＝CR⁴Z]-

(I)

其中，W可獨立地為鍵、或者為O、S、CO、C(O)O、CH₂O或(CR¹R²)_p中的一種或幾種，Z可獨立地為鍵、或者為O、S、CO、C(O)O、CH₂O或(CR⁵R⁶)_q中的一種或幾種，其中，p和q各自獨立地為1至6的整數，其中，W、Z、R³和R⁴基本上為惰性基團；優選地，R¹至R⁶分別獨立地選自氫原子、任意取代的直鏈或支鏈烷烴鏈、或任意取代的芳基。

5.根據權利要求4所述的涂層，其中，所述W，Z，R³或R⁴中的至少一個是給電子基團；任選地，給電子基團選自任意取代的直鏈或支鏈烷烴鏈，或任意取代的芳基。

6.根據權利要求4或5所述的涂層，其中，W、Z和R³為氫，R⁴為甲基。

7.根據前述權利要求中任一項所述的涂層，其中，所述第二層包括由沉積式(II)的單體化合物制備的聚合物：

K-L-[-M-H]_m

(II)

其中：

K為含有非芳香族不飽和鍵的基團；

L為連接基團K和M的連接基；

M為能夠與非芳香族不飽和鍵反應的基團；

H為氫原子；以及

m為大于0的整數；優選地，m為1、2、3、4、5或6。

8.根據權利要求7所述的涂層，其中，K包括選自C＝C、C＝N、N＝N、或C≡C基團的基團。

9.根據權利要求7或8所述的涂層，其中，M選自S、O、NH、NR⁷、PH、PR⁸、POR⁸、P(O)R⁹和P(O)OR⁹；其中，R⁷至R⁹分別獨立地選自任意取代的直鏈或支鏈烷烴鏈、或任意取代的芳基。

10.根據權利要求7至9中任一項所述的涂層，其中，L基本上是惰性的。

11.根據權利要求7至10中任一項所述的涂層，其中，L選自鍵、任意取代的直鏈或支鏈烷烴鏈、或任意取代的芳基。