[發(fā)明專利]氮化物半導(dǎo)體紫外線發(fā)光元件及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201780047215.0 | 申請日: | 2017-11-08 |
| 公開(公告)號: | CN109564959B | 公開(公告)日: | 2021-04-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 平野光;長澤陽祐;秩父重英;小島一信 | 申請(專利權(quán))人: | 創(chuàng)光科學(xué)株式會社 |
| 主分類號: | H01L33/32 | 分類號: | H01L33/32;H01L21/205 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 李逸雪 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氮化物 半導(dǎo)體 紫外線 發(fā)光 元件 及其 制造 方法 | ||
一種峰值發(fā)光波長為285nm以下的氮化物半導(dǎo)體紫外線發(fā)光元件的制造方法,具備:第1步驟,在包含藍(lán)寶石基板的基底部的上表面,形成n型的AlXGa1?XN(1≥X≥0.5)系半導(dǎo)體所構(gòu)成的n型半導(dǎo)體層;第2步驟,在n型半導(dǎo)體層的上方,形成包含AlYGa1?YN(X>Y>0)系半導(dǎo)體所構(gòu)成的發(fā)光層、且整體由AlGaN系半導(dǎo)體構(gòu)成的活性層;及第3步驟,在活性層的上方,形成p型的AlZGa1?ZN(1≥Z>Y)系半導(dǎo)體所構(gòu)成的p型半導(dǎo)體層。在此制造方法中,第2步驟的生長溫度比1200℃更高且為第1步驟的生長溫度以上。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及發(fā)光層由AlGaN系半導(dǎo)體構(gòu)成的峰值發(fā)光波長為285nm 以下的氮化物半導(dǎo)體紫外線發(fā)光元件及其制造方法。
背景技術(shù)
以往,通過載流子(電子及空穴)的再結(jié)合來產(chǎn)生發(fā)光的發(fā)光層由GaN 系半導(dǎo)體或InGaN系半導(dǎo)體構(gòu)成的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光元件廣泛普及。然而,發(fā)光波長較此更短的發(fā)光元件、即發(fā)光層由AlGaN系半導(dǎo)體構(gòu)成的氮化物半導(dǎo)體紫外線發(fā)光元件例如在專利文獻1等中被提出,但依然未充分地普及。
其原因之一,由AlGaN系半導(dǎo)體來構(gòu)成發(fā)光層的氮化物半導(dǎo)體紫外線發(fā)光元件存在越縮短峰值發(fā)光波長(增大發(fā)光層的Al的組成比,縮小 Ga的組成比)、發(fā)光效率越降低的問題。另外,半導(dǎo)體發(fā)光元件的發(fā)光效率表現(xiàn)為注入后的電子被變換成光子的比例即量子效率,將著眼于在發(fā)光元件的內(nèi)部產(chǎn)生的光子之比例稱為內(nèi)部量子效率,將著眼于被釋放至發(fā)光元件的外部的光子之比例稱為外部量子效率。
參照附圖說明此問題。圖5及圖6是表示氮化物半導(dǎo)體發(fā)光元件的峰值發(fā)光波長與外部量子效率的關(guān)系的圖表。圖5是被記載于非專利文獻1 的圖表,集聚了各種企業(yè)或研究機關(guān)以學(xué)術(shù)論文等報告的數(shù)據(jù)。并且,圖 6是測定本申請的發(fā)明人過去制作的試樣而得到的圖表。另外,圖5及圖 6各自的圖表的橫軸是峰值發(fā)光波長,縱軸是外部量子效率。并且,在圖 5中,為了附圖的說明方便起見,對于在非專利文獻1中所記載的圖表加上:雖不是嚴(yán)格的近似曲線但為表現(xiàn)點整體的傾向的曲線、及表示285nm 的峰值發(fā)光波長的虛線。
如圖5及圖6所示,對于峰值發(fā)光波長為285nm以下的氮化物半導(dǎo)體紫外線發(fā)光元件而言,隨著峰值發(fā)光波長變短,外部量子效率會急劇地降低。這表示在峰值發(fā)光波長為285nm以下的氮化物半導(dǎo)體紫外線發(fā)光元件存在峰值發(fā)光波長比285nm更長的氮化物半導(dǎo)體發(fā)光元件不產(chǎn)生的特有的問題。而且,此問題是在峰值發(fā)光波長為285nm以下的氮化物半導(dǎo)體紫外線發(fā)光元件中不例外產(chǎn)生的問題,為近幾年未解決的問題。
[在先技術(shù)文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特許第5641173號公報
[非專利文獻]
[非專利文獻1]Michael Kneissl,“A Brief Review of III-Nitride UVEmitter Technologies and Their Applications”,III-Nitride UltravioletEmitters,Chapter 1,2016
發(fā)明內(nèi)容
-發(fā)明所要解決的技術(shù)問題-
本申請的發(fā)明人針對上述的峰值發(fā)光波長為285nm以下的氮化物半導(dǎo)體紫外線發(fā)光元件的特有的問題深入地進行了檢討,結(jié)果確定了該問題的原因,且找出其解決對策。
于是,本發(fā)明提供一種克服上述特有的問題并改善了發(fā)光效率的峰值發(fā)光波長為285nm以下的氮化物半導(dǎo)體紫外線發(fā)光元件及其制造方法。
-用于解決技術(shù)問題的手段-
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于創(chuàng)光科學(xué)株式會社,未經(jīng)創(chuàng)光科學(xué)株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201780047215.0/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:發(fā)光元件
- 下一篇:量子點發(fā)光設(shè)備





