[發(fā)明專利]雜環(huán)氨基過渡金屬配合物、其制備和用途

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201780046636.1
• 申請日: 2017-06-29
• 公開（公告）號: CN109563109A
• 公開（公告）日: 2019-04-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: J·R·哈格多恩;J·A·M·卡尼奇;A·Z·沃斯科博尼克弗;P·S·庫爾雅賓;G·P·戈于諾夫;D·V·烏博斯基
• 申請（專利權(quán)）人: 埃克森美孚化學(xué)專利公司
• 主分類號: C07F7/00
• 分類號: C07F7/00;C08F4/64;C08F10/02;C08F10/06;C08F2/04;C08F2/34;C08F2/38
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 孫悅

1.過渡金屬化合物，其通過三齒二陰離子雜環(huán)氨基配體螯合到第3、4或5族過渡金屬而形成，其中該三齒配體配位到形成五元環(huán)和八元環(huán)的金屬。

2.式(A)或(B)表示的雜環(huán)氨基過渡金屬配合物：

其中：

M為第3、4或5族金屬；

Q¹為通過下式表示的三個(gè)原子橋連接R²和R³的基團(tuán)：

-G¹-G²-G³-，其中G²為與M形成配位鍵的第15或16族原子，G¹和G³各自為第14族原子，它們通過兩個(gè)或三個(gè)另外的第14、15或16族原子連接到一起以形成雜環(huán)或取代的雜環(huán)；

Q²為與M形成陰離子鍵的基團(tuán)，所述Q²基團(tuán)選自O(shè)、S、CH₂、CHR¹⁷、C(R¹⁷)₂、NR¹⁷或PR¹⁷，其中每個(gè)R¹⁷獨(dú)立地選自氫、鹵素、烴基、取代的烴基、鹵代烴基、取代的鹵代烴基、甲硅烷基烴基和極性基團(tuán)；

Q³為-(TT)-或-(TTT)-，其中每個(gè)T為取代的或未取代的第14、15或16族元素，從而它與”-C-N＝C-”片斷一起形成五元或六元雜環(huán)或取代的雜環(huán)；

R¹選自烴基、取代的烴基、鹵代烴基、取代的鹵代烴基和甲硅烷基烴基；

R²為-E(R¹²)(R¹³)-，其中E為碳、硅或鍺，以及每個(gè)R¹²和R¹³獨(dú)立地選自氫、鹵素、烴基、取代的烴基、鹵代烴基、取代的鹵代烴基、甲硅烷基烴基、取代的和極性基團(tuán)；

R³為C或N，并且R⁴和R⁵為C，并且R³和R⁴為五元或六元碳環(huán)或雜環(huán)環(huán)的一部分，所述環(huán)可為取代的或未取代的，并且R⁴和R⁵為五元或六元碳環(huán)或雜環(huán)環(huán)的一部分，所述環(huán)可為取代的或未取代的；

每個(gè)J獨(dú)立地選自C、CH、CH₂、CR¹⁸、CHR¹⁸、C(R¹⁸)₂、Si(R¹⁸)₂、SiH(R¹⁸)、NH、NR¹⁸、O或S，其中R¹⁸選自烴基、取代的烴基、鹵代烴基、取代的鹵代烴基、鹵素和甲硅烷基烴基；

每個(gè)x獨(dú)立地為3或4，表示串聯(lián)到一起的J基團(tuán)的數(shù)量；

Y選自取代的和未取代的第14族元素；

L為陰離子離去基團(tuán)，其中該L基團(tuán)可相同或不同和任何兩個(gè)L基團(tuán)可連接以形成二陰離子離去基團(tuán)；

L'為中性路易斯堿；

n為1、2或3；

w為0、1、2或3；

其中n+w不大于4；以及

其中該三齒二陰離子配體以使該配合物具有八元螯合環(huán)和五元螯合環(huán)的方式螯合到金屬M(fèi)，所述螯合環(huán)在式(A)和(B)中分別由數(shù)字8和5表示。

3.權(quán)利要求2所述的配合物，其中Q²為CH₂、CHMe、CHEt、CHBu、CH(戊基)、CH(己基)、CH(己基)、CH(辛基)、CH(壬基)、CH(癸基)或CHPh、O、N(Ph)、N(均三甲苯基)、N(2,6-二甲基苯基)、N(2,6-二乙基苯基)、N(2-甲基苯基)、N(2-乙基苯基)、N(丁基)、N(丙基)、N(異丙基)、N(環(huán)己基)、N(t-丁基)或N(2,6-二異丙基苯基)。

4.權(quán)利要求2所述的配合物，其中Q²和Y各自獨(dú)立地為CH₂或CH(烴基)，其中每個(gè)烴基基團(tuán)含有1-20個(gè)碳原子。