[發明專利]用于真空沉積的設備及方法

在審

• 申請號: 201780046572.5
• 申請日: 2017-07-27
• 公開（公告）號: CN109496240A
• 公開（公告）日: 2019-03-19
• 發明（設計）人: 塞爾吉奧·帕切;埃里克·西爾伯貝格;迪米特里·維爾德爾斯;雷米·邦內曼;露西·加烏亞
• 申請（專利權）人: 安賽樂米塔爾公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 董敏;王蓓蓓

1.一種真空沉積設備(1)，所述真空沉積設備(1)用于在行進的基材(S)上連續沉積由包含主元素和至少一種附加元素的金屬合金形成的涂層，所述設備包括真空沉積腔室(2)和用于使所述基材行進穿過所述腔室的器件，其中，所述設備還包括：

-蒸氣噴射涂覆器(3)，

-蒸發坩堝(4)，所述蒸發坩堝(4)適于向所述蒸氣噴射涂覆器供給包含所述主元素和所述至少一種附加元素的蒸氣，

-再充料爐(9)，所述再充料爐(9)適于向所述蒸發坩堝供給熔融態的所述主元素并且能夠保持所述蒸發坩堝中恒定的液位，

-供給單元(11)，所述供給單元(11)適于供給固態的所述至少一種附加元素，并且適于向所述蒸發坩堝無差別地供給熔融態、固態或部分固態的所述至少一種附加元素。

2.根據權利要求1所述的真空沉積設備，其中，所述供給單元(11)包括供給管(12)。

3.根據權利要求2所述的真空沉積設備，其中，所述供給管(12)的下端部低于所述蒸發坩堝(4)中的液位。

4.根據權利要求2或3中的任一項所述的真空沉積設備，其中，所述蒸發坩堝(4)包括罩(6)，所述供給管(12)連接在所述罩(6)上。

5.根據權利要求2或4中的任一項所述的真空沉積設備，其中，所述供給管(12)包括錠保持器(15)，所述錠保持器(15)在一方面適于在所述至少一種附加元素被加熱時保持所述至少一種附加元素，在另一方面適于將所述至少一種附加元素釋放在所述蒸發坩堝(4)中。

6.根據權利要求5所述的真空沉積設備，其中，所述錠保持器(15)是具有U形橫截面的閥。

7.根據權利要求2至6中的任一項所述的真空沉積設備，其中，所述供給管(12)包括惰性氣體入口(13)，所述惰性氣體入口(13)適于至少在所述供給管的下部部分中提供高于所述蒸發坩堝(4)中壓強的壓強。

8.根據前述權利要求中的任一項所述的真空沉積設備，其中，所述供給單元(11)包括預熱爐。

9.根據前述權利要求中的任一項所述的真空沉積設備，其中，所述供給單元(11)包括加熱裝置(14)。

10.根據前述權利要求中的任一項所述的真空沉積設備，其中，所述蒸氣噴射涂覆器(3)是聲波蒸氣噴射涂覆器。

11.根據前述權利要求中的任一項所述的真空沉積設備，其中，所述蒸氣噴射涂覆器(3)的蒸氣的供給通過蒸發管(7)進行，所述蒸發管(7)將所述蒸發坩堝(4)連接在所述蒸氣噴射涂覆器(3)上。

12.根據前述權利要求中的任一項所述的真空沉積設備，其中，所述再充料爐(9)放置在所述蒸發坩堝(4)下方并且適于保持在大氣壓下。

13.根據前述權利要求中的任一項所述的真空沉積設備，其中，所述蒸發坩堝(4)的主元素的供給通過管道(10)進行，所述管道(10)將所述再充料爐(9)連接在所述蒸發坩堝(4)上。

14.根據前述權利要求中的任一項所述的真空沉積設備，其中，所述蒸發坩堝(4)包括感應加熱器(8)。

15.根據前述權利要求中的任一項所述的真空沉積設備，其中，所述再充料爐(9)連接至金屬錠供給器件。