[發明專利]用于x射線顯微鏡檢查的方法和設備

在審

• 申請號: 201780045768.2
• 申請日: 2017-06-02
• 公開（公告）號: CN109564176A
• 公開（公告）日: 2019-04-02
• 發明（設計）人: 云文兵;西爾維婭·賈·云·路易斯;雅諾什·科瑞;斯里瓦特桑·瑟哈德里;艾倫·弗朗西斯·里昂;大衛·維內
• 申請（專利權）人: 斯格瑞公司
• 主分類號: G01N23/207
• 分類號: G01N23/207;G01N23/201;G21K1/06;G21K1/10;H01J35/16
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 王小衡;王朝輝

1.一種用x射線檢查物體的方法，包括：

在預定區域中創建從共同的x射線源傳播的x射線微束的周期性陣列，其中所述預定區域內的每個x射線微束具有通過所述共同的x射線源的軸線，并且另外具有大于10％的從所述微束軸線垂直地測得的、沿著所述微束軸線的x射線強度和等于所述x射線微束的周期性陣列的周期的1/2的距離處的x射線強度之間的對比度；

將x射線像素陣列檢測器系統定位為使得檢測器的x射線傳感器在所述預定區域內并且檢測器的像素是對齊的以使得每個像素檢測與不多于一個的x射線微束相對應的x射線；

將物體放置在所述x射線陣列檢測器的前面，并且將所述物體的將被檢測的一部分定位在所述預定區域內；

用所述x射線微束的周期性陣列照射所述物體的所述部分；并且

記錄所述x射線陣列檢測器生成的信號。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，

所述x射線微束的周期性陣列是通過形成Talbot干涉圖樣的Talbot干涉現象創建的；

并且所述x射線微束對應于所述Talbot干涉圖樣的相長干涉部分的陣列。

3.根據權利要求2所述的方法，另外還包括：

將具有周期性透射部分的吸收掩蔽組件定位在所述預定區域內，所述周期性透射部分僅透射所述x射線微束的預定子集；其中

所述透射部分在兩個側向上的周期等于所述Talbot干涉圖樣的周期乘以正整數N；

并且還包括對齊所述吸收掩蔽組件以使得所述透射部分以每第N個微束為中心。

4.根據權利要求1所述的方法，另外還包括：

將具有透射部分的吸收掩蔽組件放置在所述預定區域內，所述透射部分被定位為僅透射所述x射線微束的預定子集。

5.根據權利要求4所述的方法，其中，

所述透射部分的側向尺寸小于所述預定區域內的x射線微束的周期性陣列的周期的3/4。

6.根據權利要求1所述的方法，另外還包括：

將所述x射線像素陣列檢測器系統定位為使得兩個或更多個像素檢測與同一個x射線微束相對應的x射線。

7.根據權利要求1所述的方法，其中，

所述信號對應于所述x射線微束通過所述物體的透射。

8.根據權利要求1所述的方法，其中，

所述信號對應于所述x射線微束與所述物體的相互作用現象，所述相互作用現象選自由以下現象組成的組：吸收、折射、x射線熒光和小角度散射。

9.根據權利要求1所述的方法，另外還包括：

將具有透射部分的吸收掩蔽組件放置在所述預定區域內，所述透射部分被定位為僅透射所述x射線微束的預定子集。

10.根據權利要求1所述的方法，其中，

所述x射線像素陣列檢測系統包括具有周期性x射線作用區域的第一x射線檢測器，所述周期性x射線作用區域被定位為檢測x射線并生成與所述x射線相對應的信號，并且被不生成信號的x射線不作用區域隔開；

其中所述周期性x射線作用區域的周期被選擇為僅檢測所述x射線微束的預定子集。

11.根據權利要求10所述的方法，其中，

所述x射線不作用區域透射x射線；并且

所述x射線像素陣列檢測系統另外還包括第二x射線檢測器，所述第二x射線檢測器被定位為檢測透射通過所述第一x射線檢測器的x射線。

12.根據權利要求1所述的方法，其中，

所述預定區域中的x射線微束的周期性陣列的周期小于50微米。

13.根據權利要求1所述的方法，其中

所述預定區域中的沿著所述軸線的每個x射線微束的長度大于1毫米。